Strahlungsquelle

EP3688530 Art B1 4. Oktober 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3688530
Aktenzeichen
EP18765017
Anmeldetag
17. August 2018
Veröffentlichung
4. Oktober 2023
Erteilung
4. Oktober 2023
Rechtsraum
EP
IPC
H01S3/131G03F7/20G03F9/00G02F1/365
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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