Musterhöhenmetrologie mit Verwendung eines E-Strahl-Systems
EP4099091
Art B1
10. April 2024
Anmelder: IMEC VZW, Katholieke Universiteit Leuven, Imec VZW 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4099091
- Aktenzeichen
- EP21177290
- Anmeldetag
- 2. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 10. April 2024
- Erteilung
- 10. April 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC VZW
Katholieke Universiteit Leuven
Imec VZW - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
Katholieke Universiteit Leuven
Belgische Universität in Leuven mit umfangreicher Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin, die auch Patente aus Forschungsprojekten hervorbringt.
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Fachgebiete
Kanzlei
Mitscherlich PartmbB
München, Deutschland
Mitscherlich wurde 1896 in Berlin gegründet und zog 1951 nach München, direkt in Nähe zu Europäischem Patentamt, DPMA, Bundespatentgericht und der Münchner UPC-Lokalkammer. Sie legt Wert auf Kontinuität und betreut manche Mandate seit Jahrzehnten.
21.622
Patente gesamt
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