Verfahren zur Verarbeitung einer Cfet-Vorrichtung mit einem Nichtkonformen Gate-Dielektrikum
EP4546431
Art A1
30. April 2025
Anmelder: Imec VZW 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4546431
- Aktenzeichen
- EP23205383
- Anmeldetag
- 24. Oktober 2023
- Veröffentlichung
- 30. April 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/66H01L21/8234H01L21/8238// H01L21/822H01L27/06H01L29/775
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Imec VZW
- Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
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