Tokyo Ohka Kogyo
🇯🇵 Japan aktiv
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Patente
927 gesamt| Patent | |||
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11.03.2026
Zusammensetzung zur Bildung einer Oberflächenmodifizierten Schicht und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
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05.02.2026
Porous film, method for purifying liquid, filter medium, and filter device
Verfahrens- & Trenntechnik
Kunststoff- & Polymertechnik
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Status
Angemeldet am 03.07.2025
Anhängig
Zusammenfassung
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05.02.2026
Porous film, method for purifying liquid, filter medium, and filter device
Verfahrens- & Trenntechnik
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Status
Angemeldet am 03.07.2025
Anhängig
Zusammenfassung
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05.02.2026
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 04.07.2025
Anhängig
Zusammenfassung
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05.02.2026
Resist composition, method for forming resist pattern, compound, and acid diffusion control agent
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.07.2025
Anhängig
Zusammenfassung
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22.01.2026
Resist composition and method for forming resist pattern
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.07.2025
Anhängig
Zusammenfassung
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22.01.2026
Heteropolyoxometalate having modified lacunary site, or mixture thereof
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.07.2025
Anhängig
Zusammenfassung
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22.01.2026
Resist material, and pattern formation method
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.07.2025
Anhängig
Zusammenfassung
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08.01.2026
Negative photosensitive adhesive composition, photosensitive adhesive dry film, pattern formation method, and method for producing laminate
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.06.2025
Anhängig
Zusammenfassung
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08.01.2026
Resist composition, method for forming resist pattern, fluorine-containing polymer compound, and compound
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.06.2025
Anhängig
Zusammenfassung
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