van Hoef, Antonius Joseph Marie

Veldhoven, Niederlande Seit Datenerfassung Inaktiv
2
Patente gesamt
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Fachgebiete
1
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Patente

2 gesamt
Patent
31.08.2005 · ASML Netherlands B.V.
Verfahren zur Messung der Ausrichtung eines Substrats bezüglich einer Referenz-Ausrichtmarke
EP1348149 Optik & Fototechnik erteilt
31.08.2005 · ASML Netherlands B.V.
Lithographisches Herstellungsverfahren mit einem Überdeckungsmessverfahren
EP1348150 Optik & Fototechnik erteilt

Vertretene Patentanmelder

Die Patentanmelder, die van Hoef, Antonius Joseph Marie in den erfassten Patenten am häufigsten vertritt.

Anmelder Anzahl Patente
1. ASML 2

Regionen · Anmelder

Niederlande
2

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