JX Nippon Mining & Metals Patente
🇯🇵 Japan
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.088 gesamt| Patent | |||
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01.09.2004
Verfahren zur Galvansichen Verkupferung, Reinkupferanode für die Galvanische Verkupferung und Dadurch Verkupferter Halbleiterwafer mit Geringer Partikelanhaftung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.09.2002
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Meddle, Alan Leonard · München
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23.06.2004
Trägeranbringungs-Kupferfolie und Leiterplatte mit der Kupferfolie
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 08.08.2002
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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28.04.2004
Verfahren zur Herstellung von Hochreinem Nickel, Hochreines Nickel, das Hochreine Nickel Enthaltendes Sputtertarget und unter Verwendung des Sputtertargets Gebildeter Dünner Film
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 22.10.2001
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Meddle, Alan Leonard · München
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03.03.2004
Sputteringtarget zur Herstellung von Schutzschichten für Optische Platte vom Phasenwechseltyp und Optisches Aufnahmemedium mit Unterzuhilfenahme des Sputteringtargets Hergestellter Entsprechender Schutzschicht
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 15.02.2002
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Meddle, Alan Leonard · München
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14.01.2004
Zns-SIO2-Sputtering-Target und Optisches Aufzeichnungsmedium mit Zns-SIO2-Schutzfilm für eine durch Verwendung des Targets Ausgebildete Optische Platte des Phasenänderungstyps
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 16.01.2002
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Meddle, Alan Leonard · München
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17.12.2003
Zns-SIO2-Sputtertarget und Optisches Aufzeichnungsmedium mit durch Verwendung des Targets Gebildetem Bildplattenschutzfilm vom Zns-SIO2-Phasenwechseltyp
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 30.11.2001
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Meddle, Alan Leonard · München
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17.12.2003
Sputtertarget, Sputterrückplatter oder Sputterapparatur und Aufrauhungsverfahren für Sputtertarget, Sputterrückplatter oder Sputterapparatur.
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 19.12.2001
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Meddle, Alan Leonard · München
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02.01.2003
Laminatblatt mit Kupferbeschichtung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 30.03.2001
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Meddle, Alan Leonard · München
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Wer vertritt JX Nippon Mining & Metals?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die JX Nippon Mining & Metals vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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