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Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303
Patente
6
Vertretende Kanzleien
12
Fachgebiete

Vertretung

Kanzleien und Patentanwälte, die Aixtron in unserer Datenbank vertreten.

Kanzleien
Patentanwälte

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Patente

303 gesamt
Patent
25.02.2026
Verdampfungsquelle für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
31.12.2025
Gaseinlass für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
26.11.2025
Verfahren zur Emissivitätskorrigierten Pyrometrie
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
12.11.2025
Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten
Metallurgie & Oberflächentechnik
06.11.2025
Cvd-Reaktor sowie Verfahren zu dessen Verwendung und Einrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
06.11.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.11.2025
Verfahren zum Abscheiden von Gallium Nitrid Gan auf Silizium Si
Metallurgie & Oberflächentechnik
15.10.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Sic-Schichten auf einem Substrat
Metallurgie & Oberflächentechnik
01.10.2025
Verfahren zum Einrichten eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.09.2025
Verfahren zur Emissivitätskorrigierten Pyrometrie
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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