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Applied Materials Patente

🇺🇸 USA

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.794
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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10.794 gesamt
Patent
27.02.2003
Verfahren und Vorrichtung zum Halten eines Polierkissens
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
27.02.2003
Waferhalter mit Einstechsatz
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.02.2003
Verfahren und Vorrichtung zur Positionierung eines Scheibenhalters
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.02.2003
Shield for capturing fluids displaced from a substrate
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.02.2003
Process chamber having multiple gas distributors and method
Metallurgie & Oberflächentechnik
20.02.2003
Verfahren zur Auswahl von Parametern zur Wärmebehandlung des Implantats von Strukturierten Halbleitersubstraten und Spezifikation eines Lasersystems
Software & Datenverarbeitung
20.02.2003
Pedestal with integral shield
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.02.2003
Integriertes System zur Oxid-Ätzung und Abscheidung von Metall-Liner
Optik & Fototechnik
13.02.2003
Method for selling pre-owned integrated circuit manufacturing equipment online
Software & Datenverarbeitung
13.02.2003
Apparat zum Elektrochemischen Polieren
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
13.02.2003
Polierflüssigkeitsabgabesystem mit einer Mehrzahl von Düsen
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
12.02.2003
Mehrschichthaltering für ein Chemisch-Mechanisches Poliersystem
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
06.02.2003
Verfahren und Vorrichtung zur Versieglung einer Substratoberfläche Während eines Elektrochemischen Abscheidungsvorgangs
Metallurgie & Oberflächentechnik
06.02.2003
Dynamische Pulsplattierung für Strukturen mit Hohem Aspektverhältnis
Metallurgie & Oberflächentechnik
05.02.2003
Reinigungsverfahren für einen verankerten Metallstöpsel mit Reduzierung der Beschädigung von dielektrischen Schichten mit niedriger Dielektrizitätskonstante
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.01.2003
Einrichtung und Verfahren zum Exportieren oder Importieren von Objekt-Dateien in einem Fertigungssystem
Steuerungs- & Regelungstechnik
30.01.2003
Low Resistivity Tantalum Nitride/tantalum Bilayer Stack
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.01.2003
Überwachungsverfahren für Oxidentfernung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.01.2003
Bypasseinrichtung zur Aufnahme einer Optischen Endpunktdetektionszelle für Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
30.01.2003
Anlage-Verbindungsvorrichtung zur Vorinstallation von einer Waferherstellungsanlage
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.01.2003
Kollimierte Zerstäubung von Kobalt
Metallurgie & Oberflächentechnik
30.01.2003
Behandlungsanlage
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.01.2003
Herstellung von Titannitridschichten mittels eines Zyklischen Abscheidungsprozesses
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.01.2003
Verfahren und Vorrichtung zur Abscheidung von Wolfram nach Oberflächenbehandlung zur Verbesserung der Filmcharakteristika
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.01.2003
Verfahren und Zusammensetzung zum Chemisch-Mechanischen Polieren von mit mindestens Zwei Dielektrischen Materialien Bedeckten Substraten
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.01.2003
Verfahren zum Strukturieren von Schichten aus Blei-Zirconium-Titanat und Barium-Strontium-Titanat
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.01.2003
Etch pattern definition using a cvd organic layer as an anti-reflection coating and hardmask
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.01.2003
Verfahren und Vorrichtung zur Einkapselung der Substratkanten Während eines Elektrochemischen Abscheidungsverfahrens
Metallurgie & Oberflächentechnik
23.01.2003
Verfahren zur Bestimmung einer Position eines Roboters
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
23.01.2003
Entfernung einer Barriereschicht mit Niedrigem Polierdruck
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.01.2003
Verfahren zur Cvd-Abscheidung von Bst
Metallurgie & Oberflächentechnik
23.01.2003
Transferroboter für Hochtemperatursubstrate
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.01.2003
Chemisch-mechanisches Polieren mit reibungsbedingte Steuerung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.01.2003
Belichtungseinrichtung mit Gleichförmig Geladenen Partikeln und Verfahren mit Übersetzbarer Stufe und Faraday-Kappe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.01.2003
Verfahren und Vorrichtung zur Selektiven Oxidation eines Zusammengesetzten Filmstapels aus Silizium/metall
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.01.2003
Reinigung der Silizium-Decke eines Plasmabearbeitungssystems
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
09.01.2003
Viereckgelenk-Gestängemechanismus für Waferklemmvorrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.01.2003
Mit Sensor Integrierter Steckstift Zurm Nachweis eines Halbleitersubstrathalters
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.01.2003
Verfahren und Gerät zur Gewährleistung der Verteilten Materialbewirtschaftung und Ablaufsteuerung in einer Anlage für Integrierte Schaltungen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.01.2003
Verfahren und Gerät zum Zugang eines Mehrkammerverarbeitungssystems für Halbleiterscheiben
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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