Tokyo Ohka Kogyo Patente

🇯🇵 Japan

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927

Patente

2000–2025

Anmeldejahre

Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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927 gesamt

Anmeldejahr

Veröffentlicht	Patent	Land
24.03.2004	24.03.2004 Positivresistzusammensetzung des Chemischen Verstärkungstyps, Resistbeschichtetes Material, Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur und Prozess zur Herstellung eines Halbleiterbauelements EP1400853 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 28.06.2002 Anhängig Vertretung Tanner, James Percival · London Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
25.02.2004	25.02.2004 Hebevorrichtung für Flexodruckplatte und Verfahren zum Wickeln einer Photoempfindlichen Druckplatte EP1391320 Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 23.05.2002 Anhängig Vertretung Wiebusch, Manfred · Bielefeld Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
04.12.2003	04.12.2003 Negative Resist Composition WO03100523 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 14.05.2003 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
06.08.2003	06.08.2003 Lichtempfindliche Zusammensetzung EP1168080 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 16.05.2001 Anhängig Vertretung Albrecht, Thomas · München Albrecht, Thomas · München Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
12.06.2003	12.06.2003 Method for forming fine resist pattern WO03048865 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 02.12.2002 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
15.05.2002	15.05.2002 Photoempfindliche Zusammensetzung zum Sandstrahlen und photoempfindlicher Film mit solch einer Zusammensetzung EP1205803 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 06.11.2001 Anhängig Vertretung Pearce, Anthony Richmond · Birmingham Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
10.01.2001	10.01.2001 Bilderzeugende Zusammensetzung, damit hergestelltes Bildaufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Bildern EP1067436 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 07.07.2000 Anhängig Vertretung Albrecht, Thomas · München Albrecht, Thomas · München Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen