Tokyo Ohka Kogyo Patente
🇯🇵 Japan
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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932 gesamt| Patent | |||
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17.06.2004
Method for forming resist pattern and resist pattern
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.12.2003
Anhängig
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17.06.2004
Positive Resist Composition
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 01.12.2003
Anhängig
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17.06.2004
Polymer compound, resist composition and dissolution inhibitor agent containing the polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2003
Anhängig
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17.06.2004
Composition for forming antireflection coating
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.12.2003
Anhängig
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13.05.2004
Chemical-Amplification Positive-Working Photoresist Composition
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.10.2003
Anhängig
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24.03.2004
Positivresistzusammensetzung des Chemischen Verstärkungstyps, Resistbeschichtetes Material, Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur und Prozess zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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25.02.2004
Hebevorrichtung für Flexodruckplatte und Verfahren zum Wickeln einer Photoempfindlichen Druckplatte
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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04.12.2003
Negative Resist Composition
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2003
Anhängig
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06.08.2003
Lichtempfindliche Zusammensetzung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.05.2001
Anhängig
Vertretung
Albrecht, Thomas · München
Albrecht, Thomas · München
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12.06.2003
Method for forming fine resist pattern
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.12.2002
Anhängig
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15.05.2002
Photoempfindliche Zusammensetzung zum Sandstrahlen und photoempfindlicher Film mit solch einer Zusammensetzung
Optik & Fototechnik
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10.01.2001
Bilderzeugende Zusammensetzung, damit hergestelltes Bildaufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Bildern
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.07.2000
Anhängig
Vertretung
Albrecht, Thomas · München
Albrecht, Thomas · München
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Wer vertritt Tokyo Ohka Kogyo?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Ohka Kogyo vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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