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Tokyo Ohka Kogyo Patente

🇯🇵 Japan

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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927 gesamt
Patent
11.08.2005
Photoresist composition for photomask, method for forming resist pattern and method for manufacturing photomask
WO2005073812
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.08.2005
Positive resist composition and method of forming resist pattern
WO2005073811
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.08.2005
Photosensitive inorganic paste composition, sheet-shaped unbaked body, and method of producing plasma display front plate
WO2005073809
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.07.2005
Verfahren zum Entfernen von Fotoresist
EP1550912
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.06.2005
Photoresist composition and method for forming resist pattern
WO2005057284
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.06.2005
Positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2005057287
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.06.2005
Thick film photoresist composition and method of forming resist pattern
WO2005054951
Optik & Fototechnik
15.06.2005
Verwendung von Beschichtungsbildemittel zur Verringerung der Musterabmessung und Verfahren zur Bildung eines Feinen Musters damit
EP1542079
Optik & Fototechnik
09.06.2005
Positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2005052693
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.05.2005
Resist composition for electron beam or euv
WO2005040921
Optik & Fototechnik
06.05.2005
Resist composition and method for forming resist pattern
WO2005040922
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.03.2005
Laminated photosensitive relief printing original plate and method for producing the relief printing plate
WO2005026836
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
24.03.2005
Positive photoresist composition and method of forming resist pattern
WO2005026842
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.01.2005
Positive type resist composition and method of forming resist pattern from the same
WO2005003861
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
13.01.2005
Positive resist composition and method for forming resist pattern using same
WO2005003193
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
13.01.2005
Resin for positive resist composition, and positive resist composition using the same, laminate and method for forming resist pattern
WO2005003196
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
29.12.2004
Positive Resist Composition
WO2004114022
Optik & Fototechnik
16.12.2004
Resin for photoresist composition, photoresist composition and method for forming resist pattern
WO2004108780
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
02.12.2004
Chemically amplified positive photo resist composition and method for forming resist pattern
WO2004104702
Optik & Fototechnik
02.12.2004
Chemically amplified positive photo resist composition and method for forming resist pattern
WO2004104703
Optik & Fototechnik
25.11.2004
Negative Photoresist Composition
WO2004102275
Optik & Fototechnik
11.11.2004
Photoresist composition and, used in the photoresist composition, low-molecular compound and high-molecular compound
WO2004097525
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie
20.10.2004
Beschichtungs Material zur Strukturfeinheitverbesserung und Verfahren zur Bildung von Feinstrukturen damit
EP1469354
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.10.2004
Negative resist composition and process for formation of resist patterns
WO2004088427
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
14.10.2004
Dicarboxylic acid monoester compound, method for producing same and polymer thereof
WO2004087636
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie
14.10.2004
Photoresist composition and method for forming resist pattern using the same
WO2004088428
Optik & Fototechnik
23.09.2004
Chemical Amplification Type Positive Resist Composition
WO2004081665
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.09.2004
Zusammensetzung für ein Dielektrisches Material zur Verwendung in einer Plasmaanzeigetafel, Laminat für das Dielektrische Material, Verfahren zur Ausbildung eines Dielektrischen Materials
EP1460670
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.09.2004
Polymer and positive type resist composition
WO2004078803
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
10.09.2004
Silsesquioxane resin, positive resist composition, layered product including resist, and method of forming resist pattern
WO2004076535
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
21.07.2004
Verwendung einer Deckschicht zur Herstellung von Feinstrukturen
EP1376242
Optik & Fototechnik
15.07.2004
Positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2004059392
Optik & Fototechnik
15.07.2004
Resistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters damit
WO2004059391
Optik & Fototechnik
01.07.2004
Chemical Amplification Type Silicone Base Positive Photoresist Composition
WO2004055598
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
17.06.2004
Verfahren zur Herstellung von (meth)-Acrylsäurepolymerderivaten für Resist
WO2004050728
Kunststoff- & Polymertechnik
17.06.2004
Method for forming resist pattern and resist pattern
WO2004051380
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.06.2004
Positive Resist Composition
WO2004051375
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.06.2004
Polymer compound, resist composition and dissolution inhibitor agent containing the polymer compound
WO2004050725
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
17.06.2004
Composition for forming antireflection coating
WO2004051376
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
13.05.2004
Chemical-Amplification Positive-Working Photoresist Composition
WO2004040377
Optik & Fototechnik

Wer vertritt Tokyo Ohka Kogyo?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Ohka Kogyo vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
620
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
407
Kunststoff- & Polymertechnik
288
Organische Chemie
165
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
128
Verfahrens- & Trenntechnik
64
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
46
Pharma & Biotechnologie
24
Elektronik & Schaltungstechnik
23
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16
Metallurgie & Oberflächentechnik
15
Anorganische Chemie & Werkstoffe
12

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