Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250

Patente

2000–2025

Anmeldejahre

Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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Anmeldejahr

Veröffentlicht	Patent	Land
23.11.2000	23.11.2000 Method and apparatus for processing WO0070666 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 11.05.2000 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
02.11.2000	02.11.2000 Pecvd von Tantalschichten aus Tantalhalogeniden als Vorläuferverbindungen WO0065640 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 25.04.2000 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
02.11.2000	02.11.2000 Verfahren und Vorrichtung zur Dampfzuführung zu einer Cvd-Kammer WO0065127 Metallurgie & Oberflächentechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.04.2000 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
02.11.2000	02.11.2000 Bildung eines Titannitridstöpsels durch Cvd aus Titanhalogenid-Vorläuferverbindungen WO0065649 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.04.2000 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
02.11.2000	02.11.2000 Thermische Cvd von Tantalnitrid-Filmen aus Tantalhalogenid-Vorläufern WO0065123 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 25.04.2000 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
02.11.2000	02.11.2000 Herstellung eines Tantalnitrid-Stöpsels aus Tantalhalogonid-Vorläufern mittels Cvd WO0065126 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.04.2000 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
05.10.2000	05.10.2000 Temperature measurement system WO0058701 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 30.03.2000 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
05.10.2000	05.10.2000 Temperature measuring system WO0058700 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 30.03.2000 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
24.08.2000	24.08.2000 Gerät und Verfahren zur Elektrostatischer Abschirmung einer Induktiv Gekoppelter Plasmaquelle und zur Erleichterung der Plasma Zündung WO0049638 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 27.01.2000 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
03.08.2000	03.08.2000 Etching system and etching chamber WO0045425 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 01.02.2000 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen