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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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6.250 gesamt
Patent
27.09.2001
High speed stripping for damaged photoresist
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.09.2001
Esrf source for ion plating epitaxial deposition
Metallurgie & Oberflächentechnik
07.09.2001
Elektrische Steuerung der Plasma-Uniformität in einer Plasmaquelle Hoher Dichte
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
07.09.2001
Method and apparatus for measuring the temperature of a semiconductor substrate by means of a resonant circuit
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
30.08.2001
Method and apparatus for leak detecting, and apparatus for semiconductor manufacture
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
30.08.2001
Mehr-Zonen-Radiofrequenzelektrode für Kapazitive Plasmaquellen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.08.2001
Verfahren und Gerät zur Filmabscheidung
Metallurgie & Oberflächentechnik
23.08.2001
Vorrichtung und Verfahren zur Messung eines Elektrischen Feldes in einem Plasma
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Elektronik & Schaltungstechnik
23.08.2001
Aktive Steuerung der Elektronentemperatur in einer Elektrostatisch Geschützten Radiofrequenz-Plasma-Quelle
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.08.2001
Befestigungsanordnung eines Drucksensor
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
22.08.2001
Verfahren zur Durchführung und zur Installation von einen Halbleiter-Herstellungsvorrichtung und von Ihren Wechseleinrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.08.2001
Vorrichtung und Verfahren zur Kopplung Zweier Schaltungsteile Verschiedener Impedanz
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.08.2001
Hochdruckventil für eine Halbleiterbehandlungsvorrichtung
Maschinenelemente & Fluidtechnik
19.07.2001
Segmentierte Elektrodenanordnung und Verfahren zur Plasmabehandlung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.07.2001
A method of wafer band-edge measurement using transmission spectroscopy and a process for controlling the temperature uniformity of a wafer
Elektronik & Schaltungstechnik
11.07.2001
Einrichtung zur Plasma-Behandlung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.07.2001
Umlenkplatte, Gerät und Verfahren zur Herstellung Derselben und eine Derartige Umlenkplatte Enthaltendes Gasbehandlungsgerät
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.07.2001
System for automatic control of the wall bombardment to control wall deposition
Verfahrens- & Trenntechnik
28.06.2001
Method and system for reducing damage to substrates during plasma processing with a resonator source
Metallurgie & Oberflächentechnik
21.06.2001
Pressure control method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.06.2001
Vorrichtung zur Ozonbehandlung für ein Halbleiterbehandlungssystem
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.06.2001
Plasmabehandlungsgerät, Mehrkammerreaktor und Verfahren zur Plasmaregelung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.05.2001
Abscheidung von einem Prekursor mittels eines Ultraschallzerstäubers
Metallurgie & Oberflächentechnik
25.05.2001
Vorrichtung und Verfahren zum Abgeben von Vorläuferdampf aus Flüssigkeitsquellen mit Niedrigem Dampfdruck in eine Cvd-Kammer
Metallurgie & Oberflächentechnik
03.05.2001
Method and apparatus for monitoring process exhaust gas, semiconductor-manufacturing device, and method and system for managing semiconductor-manufacturing device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.05.2001
Parallel Angeordnete Flüssigkeitsspeisevorrichtung von einem Bypass-Type und Verfahren und Vorrichtung zur Regelung der Durchflussmenge eines Drucksystems mit Variablem Flüssigkeitsdruck, Welche in der Flüssigleitsspeisevorrichtung Verwendet Werden
Steuerungs- & Regelungstechnik
19.04.2001
Processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.04.2001
Verfahren zur Herstellung von Pecvd-Titanschichten und Cvd-Titannitridschichten für Integrierte Schaltungen in ein und Derselben Reaktionskammer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.03.2001
Vorrichtung zur Plasmabehandlung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.03.2001
Verfahren und Vorrichtung zur Filmabscheidung
Metallurgie & Oberflächentechnik
22.02.2001
Processing apparatus and processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.02.2001
Vakuummaschine
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen)
08.02.2001
Sic material, semiconductor processing equipment and method of preparing sic material therefor
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
08.02.2001
Verfahren zur Erhöhung der Ätzgeschwindigkeit durch Kontrolle des Restsauerstoffes
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.02.2001
Method and apparatus for manufacturing semiconductor device
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.02.2001
Untreated body transfer device and semiconductor manufacturing device with the untreated body transfer device
Verpackungs- & Fördertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
11.01.2001
Semiconductor Manufacture Equipment
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.01.2001
Semiconductor manufacture equipment, and method and apparatus for semiconductor manufacture
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.01.2001
Semiconductor manufacture equipment, and method and apparatus for semiconductor manufacture
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.12.2000
Method of manufacturing semiconductor device and manufacturing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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