Tokyo Electron Patente
🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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6.250 gesamt| Patent | |||
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27.09.2001
High speed stripping for damaged photoresist
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 20.03.2001
Anhängig
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07.09.2001
Esrf source for ion plating epitaxial deposition
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Angemeldet am 02.03.2001
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07.09.2001
Elektrische Steuerung der Plasma-Uniformität in einer Plasmaquelle Hoher Dichte
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 28.02.2001
Anhängig
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07.09.2001
Method and apparatus for measuring the temperature of a semiconductor substrate by means of a resonant circuit
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 29.01.2001
Anhängig
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30.08.2001
Method and apparatus for leak detecting, and apparatus for semiconductor manufacture
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 23.02.2001
Anhängig
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30.08.2001
Mehr-Zonen-Radiofrequenzelektrode für Kapazitive Plasmaquellen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 14.02.2001
Anhängig
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30.08.2001
Verfahren und Gerät zur Filmabscheidung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Angemeldet am 14.02.2001
Anhängig
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23.08.2001
Vorrichtung und Verfahren zur Messung eines Elektrischen Feldes in einem Plasma
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 09.02.2001
Anhängig
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23.08.2001
Aktive Steuerung der Elektronentemperatur in einer Elektrostatisch Geschützten Radiofrequenz-Plasma-Quelle
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.02.2001
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22.08.2001
Befestigungsanordnung eines Drucksensor
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 03.08.2000
Anhängig
Vertretung
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22.08.2001
Verfahren zur Durchführung und zur Installation von einen Halbleiter-Herstellungsvorrichtung und von Ihren Wechseleinrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.08.2000
Anhängig
Vertretung
Liesegang, Roland · München
Liesegang, Roland · München
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16.08.2001
Vorrichtung und Verfahren zur Kopplung Zweier Schaltungsteile Verschiedener Impedanz
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.02.2001
Anhängig
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02.08.2001
Hochdruckventil für eine Halbleiterbehandlungsvorrichtung
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Angemeldet am 23.01.2001
Anhängig
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19.07.2001
Segmentierte Elektrodenanordnung und Verfahren zur Plasmabehandlung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 03.01.2001
Anhängig
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12.07.2001
A method of wafer band-edge measurement using transmission spectroscopy and a process for controlling the temperature uniformity of a wafer
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 05.01.2001
Anhängig
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11.07.2001
Einrichtung zur Plasma-Behandlung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.07.2001
Umlenkplatte, Gerät und Verfahren zur Herstellung Derselben und eine Derartige Umlenkplatte Enthaltendes Gasbehandlungsgerät
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.12.2000
Anhängig
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05.07.2001
System for automatic control of the wall bombardment to control wall deposition
Verfahrens- & Trenntechnik
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Angemeldet am 29.12.2000
Anhängig
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28.06.2001
Method and system for reducing damage to substrates during plasma processing with a resonator source
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 20.12.2000
Anhängig
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21.06.2001
Pressure control method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 14.12.2000
Anhängig
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20.06.2001
Vorrichtung zur Ozonbehandlung für ein Halbleiterbehandlungssystem
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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07.06.2001
Plasmabehandlungsgerät, Mehrkammerreaktor und Verfahren zur Plasmaregelung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 25.10.2000
Anhängig
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31.05.2001
Abscheidung von einem Prekursor mittels eines Ultraschallzerstäubers
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 14.09.2000
Anhängig
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25.05.2001
Vorrichtung und Verfahren zum Abgeben von Vorläuferdampf aus Flüssigkeitsquellen mit Niedrigem Dampfdruck in eine Cvd-Kammer
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 15.09.2000
Anhängig
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03.05.2001
Method and apparatus for monitoring process exhaust gas, semiconductor-manufacturing device, and method and system for managing semiconductor-manufacturing device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 25.10.2000
Anhängig
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02.05.2001
Parallel Angeordnete Flüssigkeitsspeisevorrichtung von einem Bypass-Type und Verfahren und Vorrichtung zur Regelung der Durchflussmenge eines Drucksystems mit Variablem Flüssigkeitsdruck, Welche in der Flüssigleitsspeisevorrichtung Verwendet Werden
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2000
Anhängig
Vertretung
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19.04.2001
Processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.10.2000
Anhängig
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11.04.2001
Verfahren zur Herstellung von Pecvd-Titanschichten und Cvd-Titannitridschichten für Integrierte Schaltungen in ein und Derselben Reaktionskammer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.04.2000
Anhängig
Vertretung
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14.03.2001
Vorrichtung zur Plasmabehandlung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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08.03.2001
Verfahren und Vorrichtung zur Filmabscheidung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 30.08.2000
Anhängig
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22.02.2001
Processing apparatus and processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 11.08.2000
Anhängig
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21.02.2001
Vakuummaschine
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen)
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08.02.2001
Sic material, semiconductor processing equipment and method of preparing sic material therefor
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 02.08.2000
Anhängig
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08.02.2001
Verfahren zur Erhöhung der Ätzgeschwindigkeit durch Kontrolle des Restsauerstoffes
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 13.07.2000
Anhängig
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01.02.2001
Method and apparatus for manufacturing semiconductor device
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.07.2000
Anhängig
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01.02.2001
Untreated body transfer device and semiconductor manufacturing device with the untreated body transfer device
Verpackungs- & Fördertechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 26.07.2000
Anhängig
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11.01.2001
Semiconductor Manufacture Equipment
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.06.2000
Anhängig
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11.01.2001
Semiconductor manufacture equipment, and method and apparatus for semiconductor manufacture
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.06.2000
Anhängig
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11.01.2001
Semiconductor manufacture equipment, and method and apparatus for semiconductor manufacture
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.06.2000
Anhängig
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07.12.2000
Method of manufacturing semiconductor device and manufacturing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 01.06.2000
Anhängig
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Wer vertritt Tokyo Electron?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Electron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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