Nikon Patente
🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.286 gesamt| Patent | |||
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02.01.2025
Optical system, optical device, and method for manufacturing optical system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.05.2024
Anhängig
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26.12.2024
Spatial light modulation unit and exposure device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.06.2023
Anhängig
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25.12.2024
Mikroskop, Bildverarbeitungsvorrichtung, Bildverarbeitungsverfahren und Bildverarbeitungsprogramm
Optik & Fototechnik
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25.12.2024
Belichtungsverfahren, Bauelementeherstellungsverfahren, Belichtungseinrichtung und Belichtungssystem
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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25.12.2024
Flüssigkeitszufuhrvorrichtung, Objektivhaltevorrichtung, Mikroskop und Flüssigkeitszufuhrverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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19.12.2024
Organic semiconductor composition, transistor manufacturing method, organic semiconductor thin film, and transistor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.04.2024
Anhängig
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19.12.2024
Robot device and method for controlling same
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 12.06.2023
Anhängig
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19.12.2024
Defect inspecting device, and defect inspecting method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.06.2023
Anhängig
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19.12.2024
Defect inspection device and optical system
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.06.2023
Anhängig
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18.12.2024
Diagnoseunterstützungsvorrichtung, Lernvorrichtung, Diagnoseunterstützungsverfahren, Lernverfahren und Programm
Medizintechnik & Gesundheit
Software & Datenverarbeitung
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12.12.2024
Trainingsvorrichtung und -Programm
Software & Datenverarbeitung
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12.12.2024
Control unit, mobile body, mobile robot device, control method, and storage medium
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 08.06.2023
Anhängig
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11.12.2024
Mikroskop
Optik & Fototechnik
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11.12.2024
Kamerakörper und Austauschbares Objektiv
Optik & Fototechnik
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05.12.2024
Verfahren zur Herstellung eines Galliumnitrid-Lichtemissionselements und Beleuchtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.12.2024
Cell quality evaluation device, cell quality evaluation method, and program
Pharma & Biotechnologie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 15.05.2024
Anhängig
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05.12.2024
Sample observation device
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 02.05.2024
Anhängig
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05.12.2024
Image-formation lens and microscope device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.05.2024
Anhängig
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05.12.2024
Attachment optical system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2024
Anhängig
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05.12.2024
Sheet member and moving body
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Status
Angemeldet am 01.06.2023
Anhängig
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05.12.2024
Plattenelement
Kunststoff- & Polymertechnik
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05.12.2024
Mold, sheet member, moving body, and manufacturing method
Kunststoff- & Polymertechnik
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Status
Angemeldet am 01.06.2023
Anhängig
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05.12.2024
Verfahren zur Herstellung eines Galliumnitrid-Lichtemissionselements und Beleuchtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
The present invention provides a method for manufacturing a GaN light emitting element having adjustable directional characteristics. The method comprises: a step in which an n-type GaN layer (12), an MQW layer (14), and a p-type GaN layer (16) are epitaxially grown in sequence on a sapphire substrate (10) so as to form an epitaxial structure; a step in which a p-type electrode, a metal reflective film, a metal substrate, and a support substrate are formed on the p-type GaN layer (16); a step in which the epitaxial structure is inverted vertically; a step in which the sapphire substrate (10) is separated so as to expose the n-type GaN layer (12) in the surface; a step in which the n-type GaN layer (12) exposed in the surface is etched so as to adjust a resonator length between the surface of the metal reflective film and the surface of the n-type GaN layer (12); and a step in which an n-electrode (24) is formed. |
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05.12.2024
Plattenelement
Kunststoff- & Polymertechnik
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Zusammenfassung
A sheet member 1 includes: a front surface 111 including a first area 130 and a second area 140; a back surface 122; and a through-hole 15 formed between the front surface and the back surface, the first area 130 is a surface of a convex structure 13 that is formed as at least a part of the riblet structure RB and that protrudes from the second area, and an opening 151 of the through-hole 15 is formed in the second area 140. |
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04.12.2024
Erste Haltevorrichtung, Dritte Haltevorrichtung, Sattelstütze, Transportsystem, Belichtungssystem, Belichtungsverfahren und Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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04.12.2024
Kamera Zubehör
Optik & Fototechnik
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04.12.2024
Kamerazubehör
Optik & Fototechnik
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04.12.2024
Bearbeitungsvorrichtung und -Verfahren zur Berbeitung eines Objekts durch Bearbeitunglicht
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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28.11.2024
Messsystem, Messvorrichtung und Messverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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28.11.2024
Messsystem, Messvorrichtung und Messverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Zusammenfassung
A measurement system SYS irradiates measurement light ML onto an object MT to measures a position of the object. The measurement system includes: an irradiation apparatus 13 that emits calibration light CL; a control apparatus 2 that controls the irradiation apparatus; a reflector 17 that reflects the calibration light; and a detector 14 that detects reflected light CRL from the at least one reflector, the irradiation apparatus is configured to emit the measurement light, the control apparatus is configured to control an irradiation direction of the measurement light, and the control apparatus calibrates, based on a detected result of the reflected light by the detector, control information for controlling the irradiation direction of the measurement light. |
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27.11.2024
Formungssystem und Formungsverfahren
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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27.11.2024
Kemerazubehör
Optik & Fototechnik
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27.11.2024
Zubehör
Optik & Fototechnik
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21.11.2024
Verfahren zur Herstellung eines Lichtemittierenden Elements aus Photonischem Kristallgalliumnitrid und Beleuchtungsvorrichtung
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Zusammenfassung
Provided is a method for obtaining a photonic crystal GaN light-emitting element by efficiently forming a photonic crystal on a GaN layer that constitutes a light-emitting element. This method comprises: a step in which an n-type GaN layer (12), an MQW layer (14), and a p-type GaN layer (16) are epitaxially grown in sequence on a sapphire substrate (10) to form an epitaxial structure; a step in which a p-type electrode, a metal substrate, and a support substrate are formed on the p-type GaN layer (16); a step in which the top and bottom of the epitaxial structure are inverted; a step in which the sapphire substrate (10) is peeled to expose the n-type GaN layer (12) at a surface; a step in which a photonic crystal is formed on the surface of the n-type GaN layer (12) exposed at the surface by electron beam drawing and inductively coupled plasma reactive ion etching; and a step in which an n-electrode (24) is formed. |
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21.11.2024
Verfahren zur Herstellung eines Lichtemittierenden Elements aus Photonischem Kristallgalliumnitrid und Beleuchtungsvorrichtung
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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20.11.2024
Objektivlinse, Optisches System und Mikroskop
Optik & Fototechnik
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07.11.2024
Image processing device, image processing method, and image processing program
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.04.2024
Anhängig
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06.11.2024
Steuerungsvorrichtung, Steuerungssystem, Robotersystem, Steuerungsverfahren und Computerprogramm
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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06.11.2024
Optische Vorrichtung und Prüfverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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06.11.2024
Elektronische Vorrichtung, Steuerungsverfahren für Elektronische Vorrichtung und Steuerungsprogramm
Optik & Fototechnik
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
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Status
Angemeldet am 30.09.2014
Erteilt am 06.11.2024
Vertretung
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Wer vertritt Nikon?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Nikon vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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