Nippon Mining & Metals
🇯🇵 Japan
Nippon Mining & Metals war ein japanisches Unternehmen für Metallverarbeitung und Halbleitermaterialien, heute Teil von JX Nippon Mining & Metals. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2010 und betreffen unter anderem Kupferfolienverbundstoffe.
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Patente
291 gesamt| Patent | |||
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30.06.2021
Tantal-Sputtertarget Herstellungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 20.10.2004
Erteilt am 30.06.2021
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Forresters IP LLP · München
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21.04.2021
Verfahren zur Herstellung eines Sinterkörpers, Sinterkörper, aus dem Sinterkörper Bestehendes Sputtertarget und Sputtertarget-Trägerplatte-Anordnung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.07.2008
Erteilt am 21.04.2021
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Forresters IP LLP · München
Zusammenfassung
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31.07.2019
Tantal-Sputtertarget
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 19.02.2004
Erteilt am 31.07.2019
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Zusammenfassung
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15.05.2019
Plattiertes Material mit einem durch Stromfreie Plattierung Geformten Metalldünnfilm
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 18.07.2008
Erteilt am 15.05.2019
Vertretung
SSM Sandmair · München
Schwabe - Sandmair - Marx · München
Zusammenfassung
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13.03.2019
Hochreine Ni-V-Legierung, Target Daraus, Dünner Film aus Hochreiner Ni-V-Legierung und Verfahren zur Herstellung von Hochreiner Ni-V-Legierung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 08.09.2004
Erteilt am 13.03.2019
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Zusammenfassung
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23.01.2019
Galliumoxid-Zinkoxid-Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung eines Transparenten Leitfähigen Films unter Verwendung des Targets
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 06.06.2006
Erteilt am 23.01.2019
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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26.12.2018
Lösung zur Stromlosen Vergoldung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 22.08.2005
Erteilt am 26.12.2018
Vertretung
SSM Sandmair · München
Schwabe - Sandmair - Marx · München
Zusammenfassung
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05.12.2018
Verzinntes Material für Elektronisches Bauteil
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
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12.09.2018
Lithium Enthaltendes Übergangsmetalloxid-Target, Verfahren zur Herstellung Dieses Targets und Verfahren zum Herstellen einer Lithiumionen-Dünnschichtsekundärbatterie
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.04.2007
Erteilt am 12.09.2018
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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08.08.2018
Herstellungsverfahren von Halbleitersubstrat zum Epitaktischen Aufwachsen
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.08.2007
Erteilt am 08.08.2018
Vertretung
Jones, Helen M.M · London
Gill Jennings & Every LLP · London
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