Tokyo Ohka Kogyo Patente
🇯🇵 Japan
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
932 gesamt| Patent | |||
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22.05.2025
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and acid diffusion control agent
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Reinigungsflüssigkeit und Reinigungsverfahren
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Zusammenfassung
The present invention employs a cleaning liquid containing a solvent and a metal remover. The cleaning liquid contains two or more kinds of solvents, a distance (HSP distance) between a Hansen solubility parameter of the cleaning liquid and a Hansen solubility parameter of dimethylacetamide is 1.0 or less, and a total content of an organic substance selected from the group consisting of an organic acid multimer, an organic acid ester, and a ketone body is 0.1 × 10<sup>-9</sup> parts by mass or greater and 10<sup>5</sup> × 10<sup>-6</sup> parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of a total amount of the solvents and the metal remover. According to such a cleaning liquid, removability of organic impurity stains is enhanced. |
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08.05.2025
Heteropolyoxometalate having modified lacunary site, or mixture thereof
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 24.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Polyacid salt or mixture thereof
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 24.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Heteropolyoxometalate having modified lacunary site, or mixture thereof
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 24.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Heteropolyoxometalat mit Modifizierter Lakunarer Stelle oder Mischung davon
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Zusammenfassung
To provide a novel heteropolyacid salt having a modified lacunary site or a mixture thereof by modifying a lacunary site of a heteropolyacid anion having the lacunary site and introducing an organic sulfonium cation, an organic sulfonium dication, or an organic iodonium cation as a counter cation of the heteropolyacid anion having the modified lacunary site, or a mixture thereof. |
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08.05.2025
Negative photosensitive composition, photosensitive resist film, method for producing hollow structure, and pattern forming method
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Cleaning liquid and cleaning method
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 25.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Cleaning liquid and cleaning method
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 25.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Method for producing polyacid salts or mixtures thereof, and method for removing impurities
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 25.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Method for producing heteropolyoxometalate having modified lacunary site, or mixture thereof
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 24.10.2024
Anhängig
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07.05.2025
Oberflächenbehandlungsverfahren, Verwendung von Flüssigkeiten in der Oberflächenbehandlung und Oberflächenbehandelter Artikel
Verfahrens- & Trenntechnik
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Status
Angemeldet am 29.10.2018
Erteilt am 07.05.2025
Vertretung
Plasseraud IP · Paris
Cabinet Plasseraud · Paris
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07.05.2025
Schutzschichtbildungsmittel und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterchips
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.05.2025
Method for manufacturing multilayer body and co2 separation method
Verfahrens- & Trenntechnik
Kunststoff- & Polymertechnik
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Status
Angemeldet am 24.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Filmbildende Zusammensetzung, Gehärteter Film, Herstellungsverfahren für den Gehärteten Film, Herstellungsverfahren für einen Mehrschichtigen Körper und CO2-Trennverfahren
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Zusammenfassung
Provided are: a film-forming composition capable of forming a film having a uniform film thickness; a cured film of said film-forming composition; a production method for said cured film; a production method for a multilayer body using said production method for the cured film; and a CO2 separation method using the multilayer body produced via said production method. The film-forming composition includes polydimethylsiloxane, a curing agent, and at least one hydroxamic acid compound or related substance selected from among hydroxamic acids and salts thereof, and the content of the hydroxamic acid compound or related substance is greater than 0 mass% and less than 5 mass% relative to the mass of the polydimethylsiloxane. |
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01.05.2025
Film-forming composition, cured film, production method for cured film, production method for multilayer body, and co2 separation method
Verfahrens- & Trenntechnik
Kunststoff- & Polymertechnik
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Status
Angemeldet am 24.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Method for producing laminated film, laminated film, and co2 separation method
Verfahrens- & Trenntechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 24.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtigen Körpers und CO2-Trennverfahren
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Zusammenfassung
The present invention provides a method for manufacturing a laminate, wherein when a laminate, in which a film and a support base material are stacked upon each other, is manufactured by forming a sacrificial layer on a support body, forming a film such as a CO<sub>2</sub> separation film on the sacrificial layer, bonding the support base material on the film, and then removing the support body and the sacrificial layer, the sacrificial layer can be easily removed with a liquid such as water. The present invention specifically provides a method for manufacturing a laminate, the method including: a step for forming a sacrificial layer on a support body using a sacrificial layer forming composition; a step for forming a film on the sacrificial layer; a step for bonding a support base material on the film; a step for separating the support body after the bonding step; and a step for removing the sacrificial layer by dissolving the sacrificial layer into a liquid after the separation step. In this method for manufacturing a laminate, there is used a sacrificial layer forming composition which includes a resin, a polyol, and a solvent, wherein the resin has a functional group I which is one or more groups selected from the group consisting of a hydroxyl group, a cyano group, and a carboxyl group, and a functional group II which is a hydrophilic group or a hydrophobic group other than the functional group I. |
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01.05.2025
Resist composition, resist pattern forming method, compound, and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 24.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Verfahren zur Herstellung einer Verbundfolie, Verbundfolie und CO2-Trennverfahren
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Zusammenfassung
Provided is a method for producing a laminated film in which a CO<sub>2</sub> separation film and a support substrate are laminated, the method allowing for the production of a laminated film having a thin and large CO<sub>2</sub> separation film with defects suppressed. Also provided are the laminated film and a CO<sub>2</sub> separation method using the laminated film. This method is for producing a laminated film in which a CO<sub>2</sub> separation film and a porous film, which is a support substrate for the CO<sub>2</sub> separation film, are laminated. The method includes: a coating film forming step of forming on a sacrificial layer a coating film of a raw material composition including a raw material for the CO<sub>2</sub> separation film; a porous film bonding step of bonding the porous film onto the coating film; and a sacrificial layer removing step of removing the sacrificial layer after the porous film bonding step. The raw material composition contains a silicon-containing resin and an organic solvent. The silicon-containing resin is a non-water-soluble resin. The silicon-containing resin has a mass average molecular weight of 2000 or more. |
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17.04.2025
Resist composition, resist pattern formation method, and compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 07.10.2024
Anhängig
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17.04.2025
Resist composition and method for forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 03.10.2024
Anhängig
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17.04.2025
Resist composition, method for forming resist pattern, and compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.09.2024
Anhängig
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16.04.2025
Verfahren zur Verarbeitung eines Siliciumcarbid-Einkristallsubstrats und System zur Verarbeitung eines Siliciumcarbid-Einkristallsubstrats
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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16.04.2025
Verarbeitungsverfahren für ein Siliciumcarbid-Einkristallsubstrat, Verarbeitungssystem für ein Siliciumcarbid-Einkristallsubstrat und Nachfüllen von Flüssigkeit
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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10.04.2025
Resist composition, resist pattern forming method, compound, and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 26.09.2024
Anhängig
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27.03.2025
Resist composition, method for forming resist pattern, compound, acid generator, and acid diffusion control agent
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 19.09.2024
Anhängig
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20.03.2025
Resist composition and method for forming resist pattern
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.09.2024
Anhängig
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20.03.2025
Resist composition and method for forming resist pattern
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.09.2024
Anhängig
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20.03.2025
Resist composition and resist pattern forming method
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 11.09.2024
Anhängig
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20.03.2025
Solvate of polyacid salt and method for producing same
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 05.09.2024
Anhängig
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20.03.2025
Resist material and method for producing same
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.09.2024
Anhängig
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20.03.2025
Solvat von Polysäuresalz und Verfahren zur Herstellung davon
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Zusammenfassung
An object of the present invention is to provide a solvate of a polyacid salt having improved dispersibility or solubility in a solvent as compared with the polyacid salt itself, wherein the solvent that solvates the polyacid salt includes a first solvent that is a good solvent for the polyacid salt, and a method for producing the solvate of the polyacid salt. |
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13.03.2025
Porous film and method for producing porous film
Verfahrens- & Trenntechnik
Kunststoff- & Polymertechnik
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Status
Angemeldet am 30.08.2024
Anhängig
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06.03.2025
Resist composition, resist pattern formation method, polymer compound, and compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 21.08.2024
Anhängig
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06.03.2025
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and acid diffusion control agent
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.08.2024
Anhängig
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06.03.2025
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and acid diffusion control agent
Organische Chemie
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 05.08.2024
Anhängig
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27.02.2025
Resist composition, resist pattern forming method, compound, and acid generator
Organische Chemie
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 13.08.2024
Anhängig
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27.02.2025
Resist composition, resist pattern formation method, polymer compound, and compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 15.08.2024
Anhängig
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27.02.2025
Resist composition, resist pattern forming method, compound, and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 21.08.2024
Anhängig
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Wer vertritt Tokyo Ohka Kogyo?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Ohka Kogyo vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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