Tokyo Ohka Kogyo Patente
🇯🇵 Japan
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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932 gesamt| Patent | |||
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20.02.2025
Resist composition, resist pattern forming method, compound, and acid diffusion control agent
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.08.2024
Anhängig
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06.02.2025
Verfahren zur Herstellung einer Metawolframatverbindung, Metawolframatverbindung für Resiste und Resistmaterial
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Zusammenfassung
The present invention provides a method for selectively producing a metatungstic acid salt compound containing 5 onium cations or onium dications by performing a salt exchange reaction of a metatungstic acid salt in an acidic solution having a pH of less than 3, a novel metatungstic acid salt compound for resists produced by such a production method, and a resist material containing the same. |
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06.02.2025
Method for producing metatungstate compound, metatungstate compound for resists, and resist material
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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23.01.2025
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 08.07.2024
Anhängig
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23.01.2025
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 04.07.2024
Anhängig
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22.01.2025
Ätzverfahren und Lichtempfindliche Harzzusammensetzung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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22.01.2025
Schutzschichtbildendes Mittel für Plasmaschneiden und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterchips
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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16.01.2025
Lichtempfindliche Harzzusammensetzung, Musterbildungsverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Laminats
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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09.01.2025
Resist composition, method for forming resist pattern and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.07.2024
Anhängig
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02.01.2025
Resist composition and method for forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.06.2024
Anhängig
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02.01.2025
Resist composition, method for forming resist pattern, compound, and polymer
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.06.2024
Anhängig
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02.01.2025
Resist composition, resist pattern formation method, polymer compound, and compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 24.06.2024
Anhängig
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02.01.2025
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2024
Anhängig
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02.01.2025
Resist composition, resist pattern forming method, compound, and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 11.06.2024
Anhängig
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19.12.2024
Resist composition, method for forming resist pattern, and copolymer
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.05.2024
Anhängig
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12.12.2024
Resist composition and resist pattern formation method
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 06.06.2024
Anhängig
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12.12.2024
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 23.05.2024
Anhängig
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28.11.2024
Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung
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Zusammenfassung
To provide a novel resist composition containing (A) a resin component whose solubility in a developer changes by the action of an acid and (B) a polyacid salt, and to provide a pattern forming method thereof. |
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28.11.2024
Strukturformungsverfahren und Verarbeitungsflüssigkeit für einen Metallverbindungshaltigen Film
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
A pattern forming method includes a step of exposing a metal compound-containing film and a step of processing the exposed metal compound-containing film using a processing liquid. The processing liquid contains an organic solvent. The organic solvent contains a first solvent for which ClogP ≤ 0.7 and ΔH + ΔP ≥ 16. The amount of the first solvent is 30% by mass or more relative to 100% by mass of the organic solvent. |
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28.11.2024
Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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28.11.2024
Strukturformungsverfahren und Verarbeitungsflüssigkeit für einen Metallverbindungshaltigen Film
Optik & Fototechnik
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28.11.2024
Pattern forming method and processing liquid for metal compound-containing film
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.05.2024
Anhängig
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28.11.2024
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and acid diffusion control agent
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.05.2024
Anhängig
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28.11.2024
Resistmaterial, Strukturbildungsverfahren und Struktur
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
To provide a novel resist material containing a polyacid salt, a pattern forming method, and a patterned structure. |
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28.11.2024
Resistmaterial, Strukturbildungsverfahren und Struktur
Optik & Fototechnik
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20.11.2024
Partikelfangvorrichtung
Verfahrens- & Trenntechnik
Pharma & Biotechnologie
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Status
Angemeldet am 05.12.2017
Erteilt am 20.11.2024
Vertretung
Plasseraud IP · Paris
Cabinet Plasseraud · Paris
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14.11.2024
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 02.05.2024
Anhängig
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14.11.2024
Resist composition and method for forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.04.2024
Anhängig
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31.10.2024
Radiant film, method for producing radiant film, heat-dissipating film, heat-dissipating device, and coating liquid
Kunststoff- & Polymertechnik
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 22.02.2024
Anhängig
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30.10.2024
Lichthärtbare Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines Musters
Optik & Fototechnik
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30.10.2024
Lichthärtbare Zusammensetzung und Strukturbildungsverfahren
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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16.10.2024
Verfahren zur Herstellung einer Durchflussvorrichtung
Verfahrens- & Trenntechnik
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10.10.2024
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and polymer compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.03.2024
Anhängig
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09.10.2024
Filterfilm und Verwendung davon
Verfahrens- & Trenntechnik
Pharma & Biotechnologie
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Zusammenfassung
A filter film includes a through-hole and a recessed portion having a size capable of capturing one particle, in which the recessed portion is open to one face of the filter film, the through-hole in the one face has a shape or a size such that the one particle is not capable of passing through the through-hole, and the through-hole and the recessed portion are disposed close to each other. |
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03.10.2024
Electromagnetic wave absorber and paste for forming electromagnetic wave absorber
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 21.03.2024
Anhängig
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19.09.2024
Resist composition, resist pattern formation method, fluorine-containing polymer compound, and compound
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.03.2024
Anhängig
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19.09.2024
Silicon-containing resin composition purified product manufacturing method, pattern formation method, and silicon-containing resin composition purified product
Verfahrens- & Trenntechnik
Kunststoff- & Polymertechnik
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Status
Angemeldet am 26.02.2024
Anhängig
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19.09.2024
Resist composition, resist pattern formation method, compound, and acid diffusion control agent
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.03.2024
Anhängig
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12.09.2024
Workpiece processing method, removal liquid for removing boron-containing substance, and substrate processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.03.2024
Anhängig
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11.09.2024
Negative Lichtempfindliche Zusammensetzung und Strukturbildungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.03.2016
Erteilt am 11.09.2024
Vertretung
Plasseraud IP · Paris
Cabinet Plasseraud · Paris
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Wer vertritt Tokyo Ohka Kogyo?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Ohka Kogyo vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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