ASML Netherlands
🇳🇱 Niederlande
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
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Patente
390 gesamt| Patent | |||
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14.06.2023
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
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19.10.2022
System und Verfahren zur Trennung eines Hauptimpuls- und Vorimpulsstrahls von einer Laserquelle
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 01.05.2013
Erteilt am 19.10.2022
Vertretung
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
Zusammenfassung
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19.01.2022
Messverfahren, Vorrichtung und Substrat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.10.2011
Erteilt am 19.01.2022
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
Zusammenfassung
A pattern (310, 610) is formed on a substrate (W) using a lithographic step (400). The pattern includes first and second sub-patterns (312, 316; 612, 616) positioned adjacent one another on the substrate and having respective first and second periodicities. The pattern is observed (402) to obtain a combined signal (403) which includes a beat component having a third periodicity at a frequency lower than that of the first and second periodicities. A measurement of performance of the lithographic process is determined (406) by reference to a phase of the beat component (405). Depending how the sub-patterns are formed, the performance parameter might be critical dimension (CD) or overlay, for example. For CD measurement, one of the sub-patterns may comprise marks each having of a portion sub-divided by product-like features. The measurement can be made using an existing alignment sensor of a lithographic apparatus. Sensitivity and accuracy of the measurement can be adjusted by selection of the first and second periodicities, and hence the third periodicity. |
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07.04.2021
Beleuchtungssystem und Lithographievorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.02.2011
Erteilt am 07.04.2021
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
Zusammenfassung
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06.01.2021
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.11.2011
Erteilt am 06.01.2021
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
Zusammenfassung
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15.04.2020
Verfahren und Systeme zur Inspektion von Gegenständen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.07.2010
Erteilt am 15.04.2020
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
Zusammenfassung
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04.03.2020
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.01.2011
Erteilt am 04.03.2020
Vertretung
Weenink, Willem · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
Zusammenfassung
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19.02.2020
Wärmekonditionierungssystem zur Wärmekonditionierung eines Teils einer lithografischen Vorrichtung und Wärmekonditionierungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.03.2012
Erteilt am 19.02.2020
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
Zusammenfassung
A two-phase thermal conditioning system for thermal conditioning a part (1) of a lithographic apparatus, includes an evaporator (3) to be positioned in thermal contact with the part of the lithographic apparatus for extracting heat from the part by evaporation of a fluid inside the evaporator; a condenser (5) to be positioned at a distance from the part of the lithographic apparatus for removing heat from the fluid inside the condenser by condensation of the fluid inside the condenser; fluid lines (7,8,9) arranged between the evaporator and the condenser to form a circuit in which fluid is able to flow; a pump (14) arranged in the circuit to circulate the fluid in the circuit; an accumulator (16) configured to hold fluid, wherein the accumulator is in fluid communication with the circuit and comprises a heat exchanger (18) to transfer heat from or to fluid inside the accumulator; a temperature sensor (23) configured to provide a measurement signal representative of the temperature of the fluid; and a controller (27) configured to maintain a substantially constant temperature of the fluid inside the circuit by regulating the amount of heat transferred by the heat exchanger from or to fluid inside the accumulator based on the measurement signal. |
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21.08.2019
Verfahren für Lpp-Gesteuerte Laserausgabe Während Nicht-Ultraviolettstrahlungs-Perioden
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 06.09.2011
Erteilt am 21.08.2019
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
Zusammenfassung
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07.08.2019
Lithografische Vorrichtung zur Übertragung von Mustern von einer Musterungsvorrichtung auf ein Substrat sowie Dämpfungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.09.2011
Erteilt am 07.08.2019
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Zusammenfassung
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