Aixtron Patente
🇩🇪 Deutschland
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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303 gesamt| Patent | |||
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14.09.2023
Cvd-Vorrichtung sowie Verfahren zum Reinigen einer Prozesskammer einer Cvd-Vorrichtung
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 07.03.2023
Anhängig
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30.08.2023
Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Konzentration eines Dampfes mittels eines Schwingkörpersensors
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 23.02.2015
Erteilt am 30.08.2023
Vertretung
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19.07.2023
Cvd-Reaktor mit Temperierbarem Gaseinlassbereich
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 31.08.2021
Anhängig
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12.07.2023
Gaseinlassorgan eines Cvd-Reaktors mit Zwei Einspeisestellen
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.09.2021
Anhängig
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07.06.2023
Verfahren zum Erkennen Fehlerhafter oder Fehlerhaft in einen Cvd-Reaktor Eingesetzte Substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 20.07.2021
Anhängig
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10.05.2023
Verfahren und Vorrichtung zur Oberflächenvorbereitung vor der Epitaktischen Abscheidung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.08.2018
Erteilt am 10.05.2023
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25.01.2023
Verfahren zum Ermitteln des Endes eines Reinigungsprozesses der Prozesskammer eines Mocvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.03.2021
Anhängig
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19.10.2022
Cvd-Reaktor, Schirmplatte für einen Cvd-Reaktor und Verfahren zur Beeinflussung der Temperatur einer Schirmplatte
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.10.2019
Erteilt am 19.10.2022
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05.10.2022
Vorrichtung zum Beschichten eines Grossflächigen Substrats
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 01.02.2016
Erteilt am 05.10.2022
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05.10.2022
Wandgekühltes Gaseinlassorgan für einen Cvd-Reaktor
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2020
Anhängig
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14.09.2022
Verwendung eines Cvd-Reaktors zum Abscheiden Zweidimensionaler Schichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 30.10.2020
Anhängig
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14.09.2022
Verfahren zum Abscheiden einer Zweidimensionalen Schicht sowie Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 30.10.2020
Anhängig
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07.09.2022
Vorrichtung und Verfahren zum Abscheiden Kohlenstoffhaltiger Strukturen
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 29.10.2020
Anhängig
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07.09.2022
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden Organischer Schichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Status
Angemeldet am 28.10.2020
Anhängig
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27.05.2022
Heizeinrichtung für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.10.2021
Anhängig
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18.05.2022
Gaseinlassorgan für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.07.2020
Anhängig
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21.04.2022
Verfahren zur Fertigung einer Elektrode für einen Lithium-Ionen-Akkumulator und nach dem Verfahren Gefertigte Elektrode
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.10.2021
Anhängig
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17.03.2022
Verfahren zum Erzeugen eines Zeitlich Konstanten Dampfflusses sowie Verfahren zum Einstellen eines Arbeitspunktes einer Vorrichtung zum Erzeugen eines Dampfes
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 25.08.2021
Anhängig
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16.03.2022
Verfahren zum Abscheiden eines Halbleiter-Schichtsystems; Welches Gallium und Indium Enthält
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.05.2020
Anhängig
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10.03.2022
Vorrichtung zum Abscheiden von Oled-Schichten mit einer Run-/vent-Leitung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 31.08.2021
Anhängig
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12.01.2022
Verfahren zum Trennen einer Kohlenstoffstruktur von einer Keimstruktur
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 12.10.2015
Erteilt am 12.01.2022
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12.01.2022
Suszeptoranordnung eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.02.2020
Anhängig
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06.01.2022
Transportring für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.06.2021
Anhängig
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01.12.2021
Einlasssystem für einen Mocvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 23.02.2005
Erteilt am 01.12.2021
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21.10.2021
Cvd-Verfahren und Cvd-Reaktor mit Austauschbaren mit dem Substrat Wärme Austauschenden Körpern
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.04.2021
Anhängig
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21.10.2021
Pulverdosierer für einen Aerosolerzeuger
Verfahrens- & Trenntechnik
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Status
Angemeldet am 14.04.2021
Anhängig
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20.10.2021
Verfahren zum Erzeugen einer Strukturierten Keimschicht unter Verwendung eines Laserstrahles ; Entsprechende Vorrichtung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 08.11.2017
Erteilt am 20.10.2021
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20.10.2021
Suszeptor eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 06.12.2019
Anhängig
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13.10.2021
Cvd-Reaktor mit einem von einer Schirmplatten-Anordnung Abgedeckten Gaseinlassorgan
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 02.12.2019
Anhängig
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06.10.2021
Verfahren zur Herstellung eines Bestandteils eines Cvd-Reaktors
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2019
Anhängig
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06.10.2021
Gaseinlassvorrichtung für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2019
Anhängig
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23.09.2021
Suszeptor für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 15.03.2021
Anhängig
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08.09.2021
Verfahren zum Abscheiden von insbesondere Metalloxiden mittels nicht Kontinuierlicher Precursorinjektion
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 09.03.2005
Erteilt am 08.09.2021
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25.08.2021
Herstellung einer Schicht auf einem Halbleitersubstrat
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.04.2017
Erteilt am 25.08.2021
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19.08.2021
Cvd-Reaktor und Verfahren zum Handhaben einer Prozesskammer-Deckenplatte
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2021
Anhängig
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19.08.2021
Gaseinlassorgan für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2021
Anhängig
Vertretung
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19.08.2021
Gaseinlasseinrichtung für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2021
Anhängig
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22.07.2021
Cvd-Reaktor mit Doppelter Vorlaufzonenplatte
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.01.2021
Anhängig
Vertretung
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15.07.2021
Cvd-Reaktor und Verfahren zur Regelung der Oberflächentemperatur der Substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.01.2021
Anhängig
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14.07.2021
Verfahren zur Regelung der Deckentemperatur eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 03.09.2019
Anhängig
Vertretung
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Wer vertritt Aixtron?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Aixtron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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