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Aixtron Patente

🇩🇪 Deutschland

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

303 gesamt
Patent
14.09.2023
Cvd-Vorrichtung sowie Verfahren zum Reinigen einer Prozesskammer einer Cvd-Vorrichtung
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
30.08.2023
Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Konzentration eines Dampfes mittels eines Schwingkörpersensors
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
19.07.2023
Cvd-Reaktor mit Temperierbarem Gaseinlassbereich
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.07.2023
Gaseinlassorgan eines Cvd-Reaktors mit Zwei Einspeisestellen
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.06.2023
Verfahren zum Erkennen Fehlerhafter oder Fehlerhaft in einen Cvd-Reaktor Eingesetzte Substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
10.05.2023
Verfahren und Vorrichtung zur Oberflächenvorbereitung vor der Epitaktischen Abscheidung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.01.2023
Verfahren zum Ermitteln des Endes eines Reinigungsprozesses der Prozesskammer eines Mocvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
19.10.2022
Cvd-Reaktor, Schirmplatte für einen Cvd-Reaktor und Verfahren zur Beeinflussung der Temperatur einer Schirmplatte
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.10.2022
Vorrichtung zum Beschichten eines Grossflächigen Substrats
Metallurgie & Oberflächentechnik
05.10.2022
Wandgekühltes Gaseinlassorgan für einen Cvd-Reaktor
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
14.09.2022
Verwendung eines Cvd-Reaktors zum Abscheiden Zweidimensionaler Schichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
14.09.2022
Verfahren zum Abscheiden einer Zweidimensionalen Schicht sowie Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
07.09.2022
Vorrichtung und Verfahren zum Abscheiden Kohlenstoffhaltiger Strukturen
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
07.09.2022
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden Organischer Schichten
Metallurgie & Oberflächentechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik
27.05.2022
Heizeinrichtung für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.05.2022
Gaseinlassorgan für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
21.04.2022
Verfahren zur Fertigung einer Elektrode für einen Lithium-Ionen-Akkumulator und nach dem Verfahren Gefertigte Elektrode
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.03.2022
Verfahren zum Erzeugen eines Zeitlich Konstanten Dampfflusses sowie Verfahren zum Einstellen eines Arbeitspunktes einer Vorrichtung zum Erzeugen eines Dampfes
Metallurgie & Oberflächentechnik
16.03.2022
Verfahren zum Abscheiden eines Halbleiter-Schichtsystems; Welches Gallium und Indium Enthält
Metallurgie & Oberflächentechnik
10.03.2022
Vorrichtung zum Abscheiden von Oled-Schichten mit einer Run-/vent-Leitung
Metallurgie & Oberflächentechnik
12.01.2022
Verfahren zum Trennen einer Kohlenstoffstruktur von einer Keimstruktur
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
12.01.2022
Suszeptoranordnung eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.01.2022
Transportring für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.12.2021
Einlasssystem für einen Mocvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
21.10.2021
Cvd-Verfahren und Cvd-Reaktor mit Austauschbaren mit dem Substrat Wärme Austauschenden Körpern
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.10.2021
Pulverdosierer für einen Aerosolerzeuger
Verfahrens- & Trenntechnik
20.10.2021
Verfahren zum Erzeugen einer Strukturierten Keimschicht unter Verwendung eines Laserstrahles ; Entsprechende Vorrichtung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
20.10.2021
Suszeptor eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.10.2021
Cvd-Reaktor mit einem von einer Schirmplatten-Anordnung Abgedeckten Gaseinlassorgan
Metallurgie & Oberflächentechnik
06.10.2021
Verfahren zur Herstellung eines Bestandteils eines Cvd-Reaktors
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
06.10.2021
Gaseinlassvorrichtung für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
23.09.2021
Suszeptor für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.09.2021
Verfahren zum Abscheiden von insbesondere Metalloxiden mittels nicht Kontinuierlicher Precursorinjektion
Metallurgie & Oberflächentechnik
25.08.2021
Herstellung einer Schicht auf einem Halbleitersubstrat
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.08.2021
Cvd-Reaktor und Verfahren zum Handhaben einer Prozesskammer-Deckenplatte
Metallurgie & Oberflächentechnik
19.08.2021
Gaseinlassorgan für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
19.08.2021
Gaseinlasseinrichtung für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
22.07.2021
Cvd-Reaktor mit Doppelter Vorlaufzonenplatte
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.07.2021
Cvd-Reaktor und Verfahren zur Regelung der Oberflächentemperatur der Substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.07.2021
Verfahren zur Regelung der Deckentemperatur eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik

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