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Aixtron Patente

🇩🇪 Deutschland

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

303 gesamt
Patent
25.02.2026
Verdampfungsquelle für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
31.12.2025
Gaseinlass für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
26.11.2025
Verfahren zur Emissivitätskorrigierten Pyrometrie
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
12.11.2025
Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten
Metallurgie & Oberflächentechnik
06.11.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.11.2025
Cvd-Reaktor sowie Verfahren zu dessen Verwendung und Einrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
05.11.2025
Verfahren zum Abscheiden von Gallium Nitrid Gan auf Silizium Si
Metallurgie & Oberflächentechnik
15.10.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Sic-Schichten auf einem Substrat
Metallurgie & Oberflächentechnik
01.10.2025
Verfahren zum Einrichten eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.09.2025
Verfahren zur Emissivitätskorrigierten Pyrometrie
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
21.08.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von N-Dotiertem Sic
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.07.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Strukturierten Substrats sowie Substrat zur Durchführung des Verfahrens
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
31.07.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung der Prozessfähigkeit eines Substrates
Metallurgie & Oberflächentechnik
24.07.2025
Beobachtungsrohr mit Darin Angeordneten Gebogenen Gasverbindungsleitungen
Metallurgie & Oberflächentechnik
23.07.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden N-Dotiertem Sic
Metallurgie & Oberflächentechnik
17.07.2025
Verfahren zum Abscheiden eine Dünne Schicht Enthaltene Iii-V-Schichtenfolge und Dazu Eingerichteter Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
09.07.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden N-Dotiertem Sic
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.05.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden einer Iii-V-Halbleiterschicht in einer mit einer Iii-V-Schutzschicht Beschichteten Oberfläche Aufweisenden Prozesskammer
Metallurgie & Oberflächentechnik
07.05.2025
Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln eines Substrates
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.05.2025
Kristalline/amorphe 2D-2D-Diffusionsbarriere
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.04.2025
Be- und Entladezyklus für ein Cvd-Reaktorsystem
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.03.2025
Vorrichtung und Verfahren zur Individuellen Beeinflussung des Schichtwachstums einer auf einem Substrat Abgeschiedenen Schicht in einem eine Vielzahl von Substrate Aufnehmenden Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.01.2025
Verfahren zum Bereitstellen eines Prozessgases für einen Cvd-Reaktor und Diesbezügliche Vorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik
02.01.2025
Verfahren zum Bereitstellen eines Prozessgases für einen Cvd-Reaktor und Diesbezügliche Vorrichtung
04.12.2024
Verfahren zur Emissivitätskorrigierten Pyrometrie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.10.2024
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden einer ein Element der V. Hauptgruppe Enthaltenen Schicht in einer Prozesskammer und Anschliessendem Reinigen der Prozesskammer
Metallurgie & Oberflächentechnik
14.08.2024
Cvd-Reaktor mit einem Tragring Beziehungsweise Tragring für ein Substrat
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.08.2024
Vorrichtung und Verfahren zum Verdampfen eines Organischen Pulvers
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
10.07.2024
Cvd-Reaktor mit Mitteln zur Lokalen Beeinflussung der Suszeptortemperatur
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.06.2024
Verfahren zur Vermeidung von Fehlbedienung eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
13.06.2024
Vorrichtung zum Abscheiden von Sic-Schichten auf einem Substrat mit einem Verstellbaren Gasaustrittselement
Metallurgie & Oberflächentechnik
16.05.2024
Cvd-Reaktor mit Herausnehmbarem Prozesskammergehäuse
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
17.04.2024
Gaseinlassorgan für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.03.2024
Cvd-Reaktor mit Mitteln zur Lokalen Beeinflussung der Suszeptortemperatur
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.03.2024
Gaseinlassvorrichtung für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
06.03.2024
Fördervorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
20.12.2023
Cvd-Reaktor mit einem in einer Vorlaufzone Ansteigenden Prozesskammerboden
Metallurgie & Oberflächentechnik
22.11.2023
Elektrode für einen Lithium-Ionen-Akkumulator Bzw. Vorrichtung und Verfahren zum Umformen von Nano-Filamenten zur Verwendung in einem Lithium-Ionen-Akkumulator
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.11.2023
Suszeptor für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
27.09.2023
Mit einer Individuellen Kennung Versehenes Bauteil einer Cvd-Vorrichtung sowie Verfahren zur Übermittlung von Informationen
Software & Datenverarbeitung

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