Aixtron Patente
🇩🇪 Deutschland
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
303 gesamt| Patent | |||
|---|---|---|---|
|
25.02.2026
Verdampfungsquelle für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 01.07.2022
Erteilt am 25.02.2026
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
31.12.2025
Gaseinlass für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 23.02.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
26.11.2025
Verfahren zur Emissivitätskorrigierten Pyrometrie
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 05.10.2021
Erteilt am 26.11.2025
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
12.11.2025
Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 21.12.2023
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
06.11.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 02.05.2025
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
06.11.2025
Cvd-Reaktor sowie Verfahren zu dessen Verwendung und Einrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 28.04.2025
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
05.11.2025
Verfahren zum Abscheiden von Gallium Nitrid Gan auf Silizium Si
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 18.12.2023
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
15.10.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Sic-Schichten auf einem Substrat
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 06.12.2023
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
01.10.2025
Verfahren zum Einrichten eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 15.11.2023
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
10.09.2025
Verfahren zur Emissivitätskorrigierten Pyrometrie
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 19.01.2023
Erteilt am 10.09.2025
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
21.08.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von N-Dotiertem Sic
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 13.02.2025
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
31.07.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Strukturierten Substrats sowie Substrat zur Durchführung des Verfahrens
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 22.01.2025
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
31.07.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung der Prozessfähigkeit eines Substrates
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 17.01.2025
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
24.07.2025
Beobachtungsrohr mit Darin Angeordneten Gebogenen Gasverbindungsleitungen
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 16.01.2025
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
23.07.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden N-Dotiertem Sic
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 19.11.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
17.07.2025
Verfahren zum Abscheiden eine Dünne Schicht Enthaltene Iii-V-Schichtenfolge und Dazu Eingerichteter Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 03.01.2025
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
09.07.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden N-Dotiertem Sic
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 19.11.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
30.05.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden einer Iii-V-Halbleiterschicht in einer mit einer Iii-V-Schutzschicht Beschichteten Oberfläche Aufweisenden Prozesskammer
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 19.11.2024
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
07.05.2025
Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln eines Substrates
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 26.06.2023
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
01.05.2025
Kristalline/amorphe 2D-2D-Diffusionsbarriere
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 16.10.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
24.04.2025
Be- und Entladezyklus für ein Cvd-Reaktorsystem
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 17.10.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
20.03.2025
Vorrichtung und Verfahren zur Individuellen Beeinflussung des Schichtwachstums einer auf einem Substrat Abgeschiedenen Schicht in einem eine Vielzahl von Substrate Aufnehmenden Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 06.09.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
02.01.2025
Verfahren zum Bereitstellen eines Prozessgases für einen Cvd-Reaktor und Diesbezügliche Vorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Maschinenelemente & Fluidtechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 18.06.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
02.01.2025
Verfahren zum Bereitstellen eines Prozessgases für einen Cvd-Reaktor und Diesbezügliche Vorrichtung
|
|||
|
Status
Angemeldet am 18.06.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
04.12.2024
Verfahren zur Emissivitätskorrigierten Pyrometrie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 25.01.2023
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
23.10.2024
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden einer ein Element der V. Hauptgruppe Enthaltenen Schicht in einer Prozesskammer und Anschliessendem Reinigen der Prozesskammer
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 01.12.2022
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
14.08.2024
Cvd-Reaktor mit einem Tragring Beziehungsweise Tragring für ein Substrat
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 06.10.2022
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
07.08.2024
Vorrichtung und Verfahren zum Verdampfen eines Organischen Pulvers
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 16.06.2021
Erteilt am 07.08.2024
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
10.07.2024
Cvd-Reaktor mit Mitteln zur Lokalen Beeinflussung der Suszeptortemperatur
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 10.02.2020
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
27.06.2024
Verfahren zur Vermeidung von Fehlbedienung eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 20.12.2023
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
13.06.2024
Vorrichtung zum Abscheiden von Sic-Schichten auf einem Substrat mit einem Verstellbaren Gasaustrittselement
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 06.12.2023
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
16.05.2024
Cvd-Reaktor mit Herausnehmbarem Prozesskammergehäuse
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 06.11.2023
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
17.04.2024
Gaseinlassorgan für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 01.06.2022
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
20.03.2024
Cvd-Reaktor mit Mitteln zur Lokalen Beeinflussung der Suszeptortemperatur
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 10.02.2020
Erteilt am 20.03.2024
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
13.03.2024
Gaseinlassvorrichtung für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 01.12.2020
Erteilt am 13.03.2024
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
06.03.2024
Fördervorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
A delivery device, manufacturing system, and process of manufacturing are disclosed. The delivery device includes a feed tube and a chemical vapor deposition coating applied over an inner surface of the feed tube, the chemical vapor deposition coating being formed from decomposition of dimethylsilane. The manufacturing system includes the delivery device and a chamber in selective fluid communication with the delivery device. The process of manufacturing uses the manufacturing system to produce an article. |
|||
|
20.12.2023
Cvd-Reaktor mit einem in einer Vorlaufzone Ansteigenden Prozesskammerboden
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 04.02.2022
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
22.11.2023
Elektrode für einen Lithium-Ionen-Akkumulator Bzw. Vorrichtung und Verfahren zum Umformen von Nano-Filamenten zur Verwendung in einem Lithium-Ionen-Akkumulator
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 25.09.2017
Erteilt am 22.11.2023
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
22.11.2023
Suszeptor für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 06.03.2018
Erteilt am 22.11.2023
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
27.09.2023
Mit einer Individuellen Kennung Versehenes Bauteil einer Cvd-Vorrichtung sowie Verfahren zur Übermittlung von Informationen
Software & Datenverarbeitung
|
|||
|
Status
Angemeldet am 26.03.2019
Erteilt am 27.09.2023
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
Wer vertritt Aixtron?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Aixtron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-Profil