Aixtron Patente
🇩🇪 Deutschland
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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303 gesamt| Patent | |||
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28.04.2021
Anordnung zum Messen der Oberflächentemperatur eines Suszeptors in einem Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 14.06.2019
Anhängig
Vertretung
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15.04.2021
Gasauslassorgan eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 08.10.2020
Anhängig
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14.04.2021
Cvd Reaktor mit Tragring zum Substrathandhaben und Verwendung eines Tragrings an einem Cvd Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 04.06.2019
Anhängig
Vertretung
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11.03.2021
Lademodul für ein Cvd-Reaktorsystem
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 01.09.2020
Anhängig
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10.03.2021
Vorrichtung zum Beschichten eines Substrates mit einer Kohlenstoffhaltigen Beschichtung
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 30.04.2019
Anhängig
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03.03.2021
Mit mehreren Zweidimensionalen Schichten Beschichtetes Bauteil sowie Beschichtungsverfahren
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 18.04.2019
Anhängig
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17.02.2021
Nukleationsschicht-Abscheideverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.04.2019
Anhängig
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04.02.2021
Gasverteiler für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Status
Angemeldet am 22.07.2020
Anhängig
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30.12.2020
In einem Cvd-Reaktor Verwendbares Flaches Bauteil
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 25.06.2020
Anhängig
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30.12.2020
Verfahren zum Kalibrieren/verifizieren von Massenfluss-Mess/steuer-Geräten eines Gasmischsystems und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 25.06.2020
Anhängig
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30.12.2020
Substrathaltevorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 13.11.2015
Erteilt am 30.12.2020
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24.12.2020
Vorrichtung und Verfahren zum Bestimmen und Einstellen der Neigungslage eines Suszeptors
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 16.06.2020
Anhängig
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17.12.2020
Elektrode für einen Lithium-Akkumulator sowie Verfahren zu dessen Herstellung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.06.2020
Anhängig
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02.12.2020
Vorrichtung zum Verbinden eines Suszeptors mit einer Antriebswelle
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 22.01.2019
Anhängig
Vertretung
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04.11.2020
Gaseinlassorgan eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.07.2012
Erteilt am 04.11.2020
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28.10.2020
Vorrichtung und Verfahren zur Gewinnung von Informationen über in einem Cvd-Verfahren Abgeschiedene Schichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 13.12.2018
Anhängig
Vertretung
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22.10.2020
Verfahren zum Konditionieren einer Substratbehandlungseinrichtung und eine Diesbezügliche Vorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 14.04.2020
Anhängig
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01.10.2020
Heizvorrichtung für einen Suszeptor eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.03.2020
Anhängig
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24.09.2020
Verfahren zur Erfassung eines Zustandes eines Cvd-Reaktors unter Produktionsbedingungen
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 20.03.2020
Anhängig
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23.09.2020
Transient-Verbesserte Atomlagenabscheidung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 01.03.2004
Erteilt am 23.09.2020
Vertretung
Gregory, Robert John H · Stockholm
W.P. Thompson & Co · Liverpool
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12.08.2020
Verschlusselement zum Verschließen einer Beladeöffnung eines Innengehäuses eines Cvd-Reaktors
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 02.10.2018
Anhängig
Vertretung
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22.07.2020
Cvd-Reaktor mit Fotodioden-Array
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 02.02.2005
Erteilt am 22.07.2020
Vertretung
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18.06.2020
Substrathalter zur Verwendung in einem Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.12.2019
Anhängig
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18.06.2020
Verfahren zum Abscheiden einer Heterostruktur und nach dem Verfahren Abgeschiedene Heterostruktur
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 13.12.2019
Anhängig
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22.05.2020
Gasauslassvorrichtung eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 14.11.2019
Anhängig
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13.05.2020
Beschichtungsvorrichtung mit Beschichteter Sendespule
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.07.2018
Anhängig
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06.05.2020
Vorrichtung zum Abscheiden von Nanotubes
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 19.03.2015
Erteilt am 06.05.2020
Vertretung
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23.04.2020
Vorrichtung und Verfahren zur Regelung der Temperatur in einem Cvd-Reaktor
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 11.10.2019
Anhängig
Vertretung
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04.03.2020
Cvd- oder Pvd-Reaktor zum Beschichten Grossflächiger Substrate
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 18.11.2015
Erteilt am 04.03.2020
Vertretung
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19.12.2019
Abdeckplatte zur Abdeckung der zur Prozesskammer Weisenden Seite eines Suszeptors einer Vorrichtung zum Abscheiden von Sic-Schichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 14.06.2019
Anhängig
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04.12.2019
Transportring
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 25.01.2018
Anhängig
Vertretung
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06.11.2019
Beschichtetes Flaches Bauteil in einem Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 25.06.2015
Erteilt am 06.11.2019
Vertretung
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16.10.2019
Auf Seinen Beiden Voneinander Wegweisenden Breitseiten je ein Substrat Tragender Substratträger
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 18.03.2015
Erteilt am 16.10.2019
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26.09.2019
Vorrichtung und Verfahren zum Messen einer Oberflächentemperatur von auf einem Drehenden Suszeptor Angeordneten Substraten
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2019
Anhängig
Vertretung
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11.09.2019
Vorrichtung und Verfahren zum Fertigen von aus Kohlenstoff bestehenden Nano-Strukturen
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2014
Erteilt am 11.09.2019
Vertretung
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14.08.2019
Mocvd-Reaktor mit einer Örtlich Verschieden an ein Wärmeableitorgan Angekoppelten Deckenplatte
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.03.2010
Erteilt am 14.08.2019
Vertretung
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24.07.2019
Fördereinrichtung für ein Substrat
Verpackungs- & Fördertechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2016
Erteilt am 24.07.2019
Vertretung
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17.07.2019
Cvd-Reaktor und Verfahren zum Reinigen eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 08.09.2017
Anhängig
Vertretung
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03.07.2019
Suszeptor für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.08.2017
Anhängig
Vertretung
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03.07.2019
Verfahren zur Plasmaverarbeitung
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 08.07.2010
Erteilt am 03.07.2019
Vertretung
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Wer vertritt Aixtron?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Aixtron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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