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Aixtron Patente

🇩🇪 Deutschland

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

303 gesamt
Patent
28.04.2021
Anordnung zum Messen der Oberflächentemperatur eines Suszeptors in einem Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.04.2021
Gasauslassorgan eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
14.04.2021
Cvd Reaktor mit Tragring zum Substrathandhaben und Verwendung eines Tragrings an einem Cvd Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
11.03.2021
Lademodul für ein Cvd-Reaktorsystem
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.03.2021
Vorrichtung zum Beschichten eines Substrates mit einer Kohlenstoffhaltigen Beschichtung
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
03.03.2021
Mit mehreren Zweidimensionalen Schichten Beschichtetes Bauteil sowie Beschichtungsverfahren
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
17.02.2021
Nukleationsschicht-Abscheideverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.02.2021
Gasverteiler für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik
30.12.2020
In einem Cvd-Reaktor Verwendbares Flaches Bauteil
Metallurgie & Oberflächentechnik
30.12.2020
Verfahren zum Kalibrieren/verifizieren von Massenfluss-Mess/steuer-Geräten eines Gasmischsystems und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
30.12.2020
Substrathaltevorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.12.2020
Vorrichtung und Verfahren zum Bestimmen und Einstellen der Neigungslage eines Suszeptors
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
17.12.2020
Elektrode für einen Lithium-Akkumulator sowie Verfahren zu dessen Herstellung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.12.2020
Vorrichtung zum Verbinden eines Suszeptors mit einer Antriebswelle
Metallurgie & Oberflächentechnik
04.11.2020
Gaseinlassorgan eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
28.10.2020
Vorrichtung und Verfahren zur Gewinnung von Informationen über in einem Cvd-Verfahren Abgeschiedene Schichten
Metallurgie & Oberflächentechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
22.10.2020
Verfahren zum Konditionieren einer Substratbehandlungseinrichtung und eine Diesbezügliche Vorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
01.10.2020
Heizvorrichtung für einen Suszeptor eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.09.2020
Verfahren zur Erfassung eines Zustandes eines Cvd-Reaktors unter Produktionsbedingungen
Metallurgie & Oberflächentechnik
23.09.2020
Transient-Verbesserte Atomlagenabscheidung
Metallurgie & Oberflächentechnik
12.08.2020
Verschlusselement zum Verschließen einer Beladeöffnung eines Innengehäuses eines Cvd-Reaktors
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
22.07.2020
Cvd-Reaktor mit Fotodioden-Array
Metallurgie & Oberflächentechnik
18.06.2020
Substrathalter zur Verwendung in einem Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.06.2020
Verfahren zum Abscheiden einer Heterostruktur und nach dem Verfahren Abgeschiedene Heterostruktur
Metallurgie & Oberflächentechnik
22.05.2020
Gasauslassvorrichtung eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.05.2020
Beschichtungsvorrichtung mit Beschichteter Sendespule
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.05.2020
Vorrichtung zum Abscheiden von Nanotubes
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
23.04.2020
Vorrichtung und Verfahren zur Regelung der Temperatur in einem Cvd-Reaktor
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
04.03.2020
Cvd- oder Pvd-Reaktor zum Beschichten Grossflächiger Substrate
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
19.12.2019
Abdeckplatte zur Abdeckung der zur Prozesskammer Weisenden Seite eines Suszeptors einer Vorrichtung zum Abscheiden von Sic-Schichten
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.12.2019
Transportring
Metallurgie & Oberflächentechnik
06.11.2019
Beschichtetes Flaches Bauteil in einem Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
16.10.2019
Auf Seinen Beiden Voneinander Wegweisenden Breitseiten je ein Substrat Tragender Substratträger
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
26.09.2019
Vorrichtung und Verfahren zum Messen einer Oberflächentemperatur von auf einem Drehenden Suszeptor Angeordneten Substraten
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
11.09.2019
Vorrichtung und Verfahren zum Fertigen von aus Kohlenstoff bestehenden Nano-Strukturen
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
14.08.2019
Mocvd-Reaktor mit einer Örtlich Verschieden an ein Wärmeableitorgan Angekoppelten Deckenplatte
Metallurgie & Oberflächentechnik
24.07.2019
Fördereinrichtung für ein Substrat
Verpackungs- & Fördertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
17.07.2019
Cvd-Reaktor und Verfahren zum Reinigen eines Cvd-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
03.07.2019
Suszeptor für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.07.2019
Verfahren zur Plasmaverarbeitung
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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