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ASML Netherlands Patente

🇳🇱 Niederlande

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

390
Patente
2000–2020
Anmeldejahre
16
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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390 gesamt
Patent
08.12.2011
Measurement of a structure on a substrate
WO2011151121
Optik & Fototechnik
07.12.2011
Strahlungsquelle und Verfahren zur Strahlungserzeugung
EP2154574
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
24.11.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011144387
Optik & Fototechnik
16.11.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1519233
Optik & Fototechnik
27.10.2011
Method and apparatus for loading a substrate
WO2011131390
Optik & Fototechnik
20.10.2011
Method for providing an ordered layer of self-assemblable polymer for use in lithography
WO2011128120
Optik & Fototechnik
20.10.2011
Substrate handling apparatus and lithographic apparatus
WO2011128162
Verpackungs- & Fördertechnik Optik & Fototechnik
12.10.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1760530
Optik & Fototechnik
22.09.2011
Inspection for lithography
WO2011113663
Optik & Fototechnik
15.09.2011
System for removing contaminant particles, lithographic apparatus, method for removing contaminant particles and method for manufacturing a device
WO2011110467
Optik & Fototechnik
09.09.2011
Imprint Lithography
WO2011107302
Optik & Fototechnik
01.09.2011
Method and apparatus for treatment of self-assemblable polymer layers for use in lithography
WO2011104045
Optik & Fototechnik
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104174
Optik & Fototechnik
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104177
Optik & Fototechnik
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104179
Optik & Fototechnik
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104171
Optik & Fototechnik
31.08.2011
Lithographischer Apparat und Belichtungsparameter-Korrekturverfahren
EP1677156
Optik & Fototechnik
25.08.2011
Lithographic apparatus and method of producing a reference substrate
WO2011101184
Optik & Fototechnik
25.08.2011
Lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product
WO2011101183
Optik & Fototechnik
25.08.2011
Estimating substrate model parameters for lithographic apparatus control
WO2011101192
Optik & Fototechnik
17.08.2011
Lithographievorrichtung und Reinigungsverfahren dafür
EP1860507
Optik & Fototechnik
17.08.2011
Aktorsystem, Lithographische Vorrichtung, Verfahren zum Steuern der Position einer Komponente und Bauelementeherstellungsverfahren
EP2356519
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Optik & Fototechnik
10.08.2011
Strahlungssystem, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1605312
Optik & Fototechnik
04.08.2011
Arrangement for use in a projection exposure tool for microlithography having a reflective optical element
WO2011092020
Optik & Fototechnik
03.08.2011
Leitungssystem für lithografische Vorrichtung, lithografische Vorrichtung, Pumpe und Verfahren zur Reduzierung von Vibrationen in einem Leitungssystem
EP1921503
Optik & Fototechnik
27.07.2011
Strahlungsquelle
EP1804556
Elektronik & Schaltungstechnik
14.07.2011
Euv radiation source and lithographic apparatus
WO2011082894
Elektronik & Schaltungstechnik
14.07.2011
Euv radiation source comprising a droplet accelerator and lithographic apparatus
WO2011082891
Elektronik & Schaltungstechnik
07.07.2011
Illumination system, lithographic apparatus and illumination method
WO2011080019
Optik & Fototechnik
23.06.2011
Imprint Lithography
WO2011072897
Optik & Fototechnik
23.06.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011072905
Optik & Fototechnik
08.06.2011
Filter für die Gewährleistung der Spektralen Reinheit, Lithografische Vorrichtung, und Verfahren zur Herstellung Dieses Filters
EP2329323
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
03.06.2011
Alignment and imprint lithography
WO2011064020
Optik & Fototechnik
03.06.2011
Imprint lithography apparatus and method
WO2011064021
Optik & Fototechnik
26.05.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011060975
Optik & Fototechnik
26.05.2011
Multilayer Mirror
WO2011061007
Optik & Fototechnik
25.05.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2261742
Optik & Fototechnik
11.05.2011
Vorrichtung für Immersionslithographie mit Schadenkontrollsystem
EP1739489
Optik & Fototechnik
11.05.2011
Trägersystem und lithographische Vorrichtung mit einem solchen Trägersystem
EP1965258
Optik & Fototechnik
05.05.2011
Method of pattern selection for source and mask optimization
WO2011051249
Optik & Fototechnik

Wer vertritt ASML Netherlands?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML Netherlands vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
351
Elektronik & Schaltungstechnik
44
Elektrische Energietechnik
37
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
34
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
33
Medizintechnik & Gesundheit
6
Verfahrens- & Trenntechnik
5
Anorganische Chemie & Werkstoffe
4
Kunststoff- & Polymertechnik
3
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
3
Steuerungs- & Regelungstechnik
3
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
2

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