ASML Netherlands Patente
🇳🇱 Niederlande
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390
Patente
2000–2020
Anmeldejahre
16
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
390 gesamt| Patent | |||
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25.07.2012
Spektralreinigungsfilter, Lithografiegerät, Verfahren zur Herstellung eines Spektralreinigungsfilters und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit dem Lithografiegerät
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 29.07.2010
Anhängig
Vertretung
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
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25.07.2012
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.04.2006
Erteilt am 25.07.2012
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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04.07.2012
Messverfahren und Messgerät, Lithografisches Gerät, Lithografische Verarbeitungszelle und Substrat mit Messzielen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.08.2010
Anhängig
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
Weenink, Willem · Veldhoven
Weenink, Willem · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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28.06.2012
Method and system for monitoring the integrity of an article, and euv optical apparatus incorporating the same
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.11.2011
Anhängig
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28.06.2012
Methods for providing patterned orientation templates for self-assemblable polymers for use in device lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.12.2011
Anhängig
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28.06.2012
Method of controlling a patterning device in a lithographic apparatus, device manufacturing method and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.12.2011
Anhängig
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20.06.2012
Euv-Strahlungssystem und Lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 14.07.2010
Anhängig
Vertretung
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14.06.2012
Methods and apparatus for inspection of articles, euv lithography reticles, lithography apparatus and method of manufacturing devices
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.10.2011
Anhängig
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14.06.2012
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.11.2011
Anhängig
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18.05.2012
Metrology method and apparatus, and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.09.2011
Anhängig
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18.05.2012
Metrology method and apparatus, lithographic system and device manufacturing method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.11.2011
Anhängig
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09.05.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.08.2004
Erteilt am 09.05.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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09.05.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.08.2005
Erteilt am 09.05.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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09.05.2012
Spektraler Reinigungsfilter, Lithografische Vorrichtung, und Verfahren zur Herstellung eines Spektralen Reinigungsfilters
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 11.05.2010
Anhängig
Vertretung
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
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09.05.2012
Anbringungen für Rotation eines Arrays von Reflektierenden Elementen und Lithografische Vorrichtung damit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.06.2010
Anhängig
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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19.04.2012
Lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.09.2011
Anhängig
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11.04.2012
Lithographisches Gerät, Methoden zur Herstellung von Bauelementen, Methode zur Herstellung eines Reflektors sowie eine Phasenschiebermaske
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.05.2002
Erteilt am 11.04.2012
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.04.2012
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Messung von Mustereigenschaften
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.05.2009
Anhängig
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Raukema, Age · Veldhoven
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04.04.2012
Methode und Apparat zur Detektion und Analyse von Vibrationen und damit ausgestatteter lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.09.2005
Erteilt am 04.04.2012
Vertretung
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15.03.2012
Lithographic apparatus, euv radiation generation apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.08.2011
Anhängig
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15.03.2012
Lithography using self-assembled polymers
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Status
Angemeldet am 21.07.2011
Anhängig
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14.03.2012
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.05.2005
Erteilt am 14.03.2012
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
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14.03.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.08.2005
Erteilt am 14.03.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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07.03.2012
Lithografische Immersionsvorrichtung, Trocknungsvorrichtung, Immersionsmetrologievorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.05.2009
Erteilt am 07.03.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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01.03.2012
Imprint lithography method and imprintable medium
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.07.2011
Anhängig
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23.02.2012
Inspection method for imprint lithography and apparatus therefor
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.07.2011
Anhängig
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23.02.2012
Substrate for use in metrology, metrology method and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.07.2011
Anhängig
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23.02.2012
Gas-liquid phase transition method and apparatus for cleaning of surfaces in semiconductor manufacturing
Verfahrens- & Trenntechnik
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Status
Angemeldet am 10.08.2011
Anhängig
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16.02.2012
Lithography method and apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.07.2011
Anhängig
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09.02.2012
Imprint Lithography
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.06.2011
Anhängig
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08.02.2012
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.04.2006
Erteilt am 08.02.2012
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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02.02.2012
Euv exposure apparatus
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 28.07.2011
Anhängig
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02.02.2012
Euv exposure apparatus
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 28.07.2011
Anhängig
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02.02.2012
Euv exposure apparatus
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 28.07.2011
Anhängig
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26.01.2012
Method and apparatus for determining an overlay error
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.07.2011
Anhängig
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25.01.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.03.2006
Erteilt am 25.01.2012
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
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12.01.2012
Components for euv lithographic apparatus, euv lithographic apparatus including such components and method for manufacturing such components
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 06.06.2011
Anhängig
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28.12.2011
Positionsmesseinrichtung und Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.08.2006
Erteilt am 28.12.2011
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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21.12.2011
Mehrschichtiger Spiegel und Lithographievorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 11.01.2010
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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08.12.2011
Self-assemblable polymer and method for use in lithography
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.04.2011
Anhängig
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Wer vertritt ASML Netherlands?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML Netherlands vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
351
Elektronik & Schaltungstechnik
44
Elektrische Energietechnik
37
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
34
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
33
Medizintechnik & Gesundheit
6
Verfahrens- & Trenntechnik
5
Anorganische Chemie & Werkstoffe
4
Kunststoff- & Polymertechnik
3
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
3
Steuerungs- & Regelungstechnik
3
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
2