ASML Netherlands Patente
🇳🇱 Niederlande
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390
Patente
2000–2020
Anmeldejahre
16
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
390 gesamt| Patent | |||
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28.04.2011
Methods and apparatus for calculating electromagnetic scattering properties of a structure using a normal-vector field and for reconstruction of approximate structures
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 14.10.2010
Anhängig
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21.04.2011
Inspection method and apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.09.2010
Anhängig
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21.04.2011
Method, inspection apparatus and substrate for determining an approximate structure of an object on the substrate
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.09.2010
Anhängig
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20.04.2011
Imprint-Lithografie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.10.2006
Erteilt am 20.04.2011
Vertretung
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16.03.2011
Lithografischer Apparat mit Sensorhalterung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.09.2006
Erteilt am 16.03.2011
Vertretung
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03.03.2011
Illumination system, lithographic apparatus and method of adjusting an illumination mode
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.03.2010
Anhängig
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03.03.2011
Optical apparatus, and method of orienting a reflective element
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.04.2010
Anhängig
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03.03.2011
Spectral purity filter, lithographic apparatus, and method for manufacturing a spectral purity filter
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 16.07.2010
Anhängig
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24.02.2011
Spectral purity filter, lithographic apparatus, and method for manufacturing a spectral purity filter
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.07.2010
Anhängig
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23.02.2011
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.10.2007
Erteilt am 23.02.2011
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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23.02.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2007
Erteilt am 23.02.2011
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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09.02.2011
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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03.02.2011
Inspection method for lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.07.2010
Anhängig
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03.02.2011
Metrology method and apparatus, lithographic system, and lithographic processing cell
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.07.2010
Anhängig
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13.01.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.06.2010
Anhängig
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13.01.2011
Inspection method and apparatus, lithographic apparatus and lithographic processing cell
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.06.2010
Anhängig
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05.01.2011
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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29.12.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.10.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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29.12.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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29.12.2010
Object inspection systems and methods
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 13.04.2010
Anhängig
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29.12.2010
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.05.2010
Anhängig
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23.12.2010
Method of overlay measurement, lithographic apparatus, inspection apparatus, processing apparatus and lithographic processing cell
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.06.2010
Anhängig
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22.12.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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16.12.2010
Lithographic apparatus and method for reducing stray radiation
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.05.2010
Anhängig
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16.12.2010
Inspection method and apparatus, lithographic appratrus and lithographic cell
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.06.2010
Anhängig
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15.12.2010
Verfahren und Vorrichtung zum Drucken Grosser Datenströme
Optik & Fototechnik
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15.12.2010
Lithographische Vorrichtung und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.07.2007
Erteilt am 15.12.2010
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
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01.12.2010
Lithografischer Apparat mit zwei Trägerplatten und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.04.2006
Erteilt am 01.12.2010
Vertretung
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18.11.2010
Method of determining overlay error
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.04.2010
Anhängig
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18.11.2010
Inspection method for lithography
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.05.2010
Anhängig
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04.11.2010
Metrology apparatus, lithography apparatus and method of measuring a property of a substrate
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.04.2009
Anhängig
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04.11.2010
Lithographic apparatus and detector apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.03.2010
Anhängig
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04.11.2010
Lithographic apparatus and method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.03.2010
Anhängig
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28.10.2010
Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.01.2010
Anhängig
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21.10.2010
Detector module with a cooling arrangement, and lithographic apparatus comprising said detector module
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.02.2010
Anhängig
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14.10.2010
Method and apparatus for inspection in lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.03.2010
Anhängig
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29.09.2010
Euv-Lichtquellenkomponenten und Verfahren zu Ihrer Herstellung, Verwendung und Überholung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 05.12.2008
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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22.09.2010
Vorrichtung zur Erzeugung von Strahlung, Lithographiegerät, Verfahren zur Herstellung eines Bauteils und dieses
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 14.07.2005
Erteilt am 22.09.2010
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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21.07.2010
Mehrschichtiger spektraler Reinigungsfilter, lithografische Vorrichtung mit einem derartigen spektralen Reinigungsfilter, Herstellungsverfahren für die Vorrichtung und Vorrichtungsherstellung damit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.03.2006
Erteilt am 21.07.2010
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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21.07.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.11.2009
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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Wer vertritt ASML Netherlands?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML Netherlands vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
351
Elektronik & Schaltungstechnik
44
Elektrische Energietechnik
37
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
34
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
33
Medizintechnik & Gesundheit
6
Verfahrens- & Trenntechnik
5
Anorganische Chemie & Werkstoffe
4
Kunststoff- & Polymertechnik
3
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
3
Steuerungs- & Regelungstechnik
3
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
2