ASML Netherlands Patente
🇳🇱 Niederlande
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390
Patente
2000–2020
Anmeldejahre
16
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
390 gesamt| Patent | |||
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31.10.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 07.09.2005
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Weenink, Willem · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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17.10.2007
Lenkung eines Strahls mit Bezug auf diffraktive Optik zur Reduktion von Interferenzmustern
Optik & Fototechnik
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10.10.2007
Vorrichtung zur Lokalen Behandlung, Lithografische Vorrichtung und Bauelemente-Herstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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19.09.2007
Lithografisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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12.09.2007
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.02.2007
Anhängig
Vertretung
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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25.07.2007
Ausrichtung für Imprint-Lithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.12.2006
Anhängig
Vertretung
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27.06.2007
Lithographischer Apparat und Herstellungsverfahren für Bauelemente unter Verwendung mehrerer Belichtungsarten
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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06.06.2007
Substratpositionierung in der Immersionslithographie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.12.2005
Anhängig
Vertretung
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06.06.2007
Mehrschichtiger spektraler Reinigungsfilter, lithografischer Apparat mit einem derartigen spektralen Reinigungsfilter, Herstellungsverfahren für eine Vorrichtung und auf diese Weise hergestellte Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.03.2006
Anhängig
Vertretung
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30.05.2007
Lithographiegerät und Verfahren zur Herstellung eines Bauteils
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 20.10.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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30.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Bauelements
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.11.2006
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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11.04.2007
Verfahren zur Strukturierung einer positiv arbeitenden Resistschicht auf einem lithographischen Substrat, und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.10.2006
Anhängig
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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14.03.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.09.2006
Anhängig
Vertretung
Vermeulen, Martijn · Rijswijk
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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14.02.2007
Lithographisches Gerät, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Projektionselement zur Benutzung in dem lithographischen Gerät
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.11.2005
Anhängig
Vertretung
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17.01.2007
Träger, lithographisches Verfahren mit Mehrfachbelichtung, Speichermedium mit Computerprogramm
Optik & Fototechnik
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10.01.2007
Verfahren zur Herstellung eines photolithographischen Musters und Verfahren zur Bestimmung der Position eines Bildes einer Ausrichtungsmarke
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.02.2006
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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03.01.2007
Verfahren und System zur Echtzeitmustersaufrasterung für maskenlose Lithographie unter Verwendung von rechnerisch gekoppelten Spiegeln zur Erzielung einer optimierten Musterteilsdarstellung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.06.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Roberts, Peter David · Manchester
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15.11.2006
Vorrichtung zur Lichtstrukturierung unter Verwendung von Kippspiegeln in einer Superpixelanordnung
Optik & Fototechnik
Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik
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Status
Angemeldet am 27.04.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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27.09.2006
Lithographische Projektionsvorrichtung und Stellantrieb
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.12.2005
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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02.08.2006
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.08.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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19.07.2006
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.01.2006
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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28.06.2006
Niveausensor, lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.12.2005
Anhängig
Vertretung
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19.04.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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12.04.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.09.2005
Anhängig
Vertretung
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05.04.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.04.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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29.06.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.12.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
Winckels, J.H.F., Mr. Ir · Den Haag
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03.03.2004
Ausrichtgerät, lithographischer Apparat, Ausrichtungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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03.03.2004
Lithographischer Apparat, Methode zur Herstellung einer Vorrichtung und damit hergestellte Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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17.09.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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18.09.2002
Bilderzeugungsverfahren mit Phasensprungstrukturen und Modifizierter Belichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 15.11.2000
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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Wer vertritt ASML Netherlands?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML Netherlands vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
351
Elektronik & Schaltungstechnik
44
Elektrische Energietechnik
37
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
34
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
33
Medizintechnik & Gesundheit
6
Verfahrens- & Trenntechnik
5
Anorganische Chemie & Werkstoffe
4
Kunststoff- & Polymertechnik
3
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
3
Steuerungs- & Regelungstechnik
3
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
2