JSR Corporation

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JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Kanzleien und Patentanwälte, die JSR Corporation in unserer Datenbank vertreten.

Kanzleien

TBK

München · 720 gemeinsame Patente

TBK-Patent

München · 517 gemeinsame Patente

Weickmann & Weickmann

München · 11 gemeinsame Patente

IPecunia Patents B.V.

Geleen · 10 gemeinsame Patente

Weickmann & Weickmann PartmbB

München · 8 gemeinsame Patente

Becker Kurig & Partner

München · 5 gemeinsame Patente

Patentanwälte

Leson, Thomas Johannes Alois, Dipl.-Ing

München · 207 gemeinsame Patente

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Pellmann, Hans-Bernd, Dipl.-Ing

München · 17 gemeinsame Patente

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van Loon, C.J.J

Den Haag · 16 gemeinsame Patente

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Hoogendam, Gerrie Christine

Echt · 15 gemeinsame Patente

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den Hartog, Jeroen H.J

Geleen · 12 gemeinsame Patente

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Renkema, Jaap

IPecunia Patents B.V.

Geleen · 10 gemeinsame Patente

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Patente

2.270 gesamt

Datum	Patent	Land
11.03.2026	11.03.2026 Verfahren zur Herstellung eines Metabolisch Aktivierten Leberorganoids, Zusammensetzung und Verfahren zur Beurteilung einer Testsubstanz EP4707382 Pharma & Biotechnologie	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.04.2024 Anhängig Vertretung TBK · München Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
18.02.2026	18.02.2026 Blockcopolymer und Klebstoff EP4056612 Kunststoff- & Polymertechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 11.03.2022 Erteilt am 18.02.2026 Vertretung TBK · München Zusammenfassung Provided is a block copolymer capable of exhibiting molding processability, adhesive performance, and expandability in a balanced manner. Provided is a block copolymer containing 10 mass% or more of a polymer (Al) having a multi-branched structure having four or more polymer chains, the polymer chain having a polymer block A containing 70 mass% or more of a structural unit derived from a conjugated diene compound and a polymer block B containing 70 mass% or more of a structural unit derived from an aromatic vinyl compound, the block copolymer having a functional group F containing at least one element selected from the group consisting of nitrogen, silicon, oxygen, and sulfur in a part or all of terminals of the four or more polymer chains, and the block copolymer having a value α of 0.75 or more represented by the following equation (i), when p, q, r, and s are defined as component proportions (molar proportions) of structural unit represented by the following formula (1) to formula (4), in the polymer, respectively. α = p + 0.5 × r / p + q + 0.5 × r + s <img class="EMIRef" id="5a5314a2-b0c3-4b73-bee0-ed83eac0ff65-ia01" /> <img class="EMIRef" id="5a5314a2-b0c3-4b73-bee0-ed83eac0ff65-ia02" /> <img class="EMIRef" id="5a5314a2-b0c3-4b73-bee0-ed83eac0ff65-ia03" /> Alle Patent-Informationen
05.02.2026	05.02.2026 Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, and compound WO2026029200 Organische Chemie Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 04.08.2025 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
29.01.2026	29.01.2026 Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, polymer, monomer, and method for synthesizing monomer WO2026023353 Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 01.07.2025 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
28.01.2026	28.01.2026 Polymerzusammensetzung, Vernetztes Polymer und Reifen EP3988610 Fahrzeugtechnik (Automobil, Bahn & Schiff) Kunststoff- & Polymertechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 10.06.2020 Erteilt am 28.01.2026 Vertretung TBK · München Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
22.01.2026	22.01.2026 Composition for forming protective film and semiconductor substrate manufacturing method WO2026018782 Kunststoff- & Polymertechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 11.07.2025 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
22.01.2026	22.01.2026 Composition for forming resist underlayer film, method for producing semiconductor substrate, and polymer WO2026018754 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 09.07.2025 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
22.01.2026	22.01.2026 Radiation-sensitive composition for forming gate insulating film, pattern, method for producing pattern, cured film for gate insulating film, semiconductor element, organic electrochemical transistor, organic el display device, liquid crystal display device, micro-led display device, quantum dot light-emitting display device, wearable device, electronic skin device, biological sensor, and neuromorphic device WO2026018910 Optik & Fototechnik Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 18.07.2025 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
21.01.2026	21.01.2026 Zusammensetzung, Verfahren zur Lagerung der Zusammensetzung und Verbindung EP4682153 Organische Chemie Metallurgie & Oberflächentechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 11.03.2024 Anhängig Vertretung Becker, Eberhard · München Becker Kurig & Partner Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
15.01.2026	15.01.2026 Resist underlayer film-forming composition and method for manufacturing semiconductor substrate WO2026014250 Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.06.2025 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen