JX Nippon Mining & Metals Patente
🇯🇵 Japan
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069
Patente
2000–2023
Anmeldejahre
24
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
1.069 gesamt| Patent | |||
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12.04.2012
Silicon Ingot Manufacturing Vessel
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 03.10.2011
Anhängig
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12.04.2012
Silicon Ingot Manufacturing Vessel
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 03.10.2011
Anhängig
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11.04.2012
Kupferfolie für ein Halbleiterpaketsubstrat und Substrat für ein Halbleiterpaket
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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05.04.2012
Cu-In-Ga-Se Quaternary Alloy Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 28.04.2011
Anhängig
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05.04.2012
Device for producing polycrystalline silicon and method for producing polycrystalline silicon
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 21.09.2011
Anhängig
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05.04.2012
Rolled Copper Foil
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 26.09.2011
Anhängig
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28.03.2012
Verfahren zur Herstellung einer NI-PT-LEGIERUNG.
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 08.02.2005
Erteilt am 28.03.2012
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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28.03.2012
Kupfer-Galvanisierungsflüssigkeit, Vorbehandlungsflüssigkeit für die Kupfer-Galvanisierung und Kupfer-Galvanisierungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.05.2000
Erteilt am 28.03.2012
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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22.03.2012
Container for producing silicon ingot and method for producing silicon ingot
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 16.09.2011
Anhängig
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15.03.2012
Copper foil for printed wiring board
Metallurgie & Oberflächentechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 02.09.2011
Anhängig
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08.03.2012
Laminated structure and method for producing same
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 12.05.2011
Anhängig
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08.03.2012
Ferromagnetic Material Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Angemeldet am 28.01.2011
Anhängig
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08.03.2012
Sintered oxide and oxide semiconductor thin film
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.07.2011
Anhängig
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08.03.2012
Sintered oxide and oxide semiconductor thin film
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.07.2011
Anhängig
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08.03.2012
Indium target and production method for same
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 20.05.2011
Anhängig
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08.03.2012
Oxide sintered body and oxide semiconductor thin film
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 07.07.2011
Anhängig
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08.03.2012
Sintered oxide and oxide semiconductor thin film
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 07.07.2011
Anhängig
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08.03.2012
Recovery method for high purity platinum
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 21.06.2011
Anhängig
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08.03.2012
Fe-Pt-Type Ferromagnetic Material Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 05.08.2011
Anhängig
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15.02.2012
Hochreines Zirkonium- oder Hafniummetall für Sputtertargets und Dünnschichtherstellung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 29.06.2001
Erteilt am 15.02.2012
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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15.02.2012
Tantalum-Sputtertarget
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.04.2010
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Forresters IP LLP · München
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02.02.2012
Sputtering target for magnetic recording film and process for producing same
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 02.02.2011
Anhängig
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02.02.2012
Sintered material for zno-mgo-based sputtering target
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 14.07.2011
Anhängig
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01.02.2012
Metallfolie mit Widerstandsfilm sowie Verfahren zu Ihrer Herstellung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.03.2010
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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01.02.2012
Zirkoniumziegel
Verfahrens- & Trenntechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 10.03.2010
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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01.02.2012
Sputtering-Target aus einem Gesinterten Ti-Nb-Oxid-Körper, Ti-Nb-Oxid-Dünnschicht und Verfahren zur Herstellung der Dünnschicht
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 26.03.2010
Anhängig
Vertretung
Bond, Christopher William · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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26.01.2012
Ferromagnetic material sputtering target with little particle generation
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 30.09.2010
Anhängig
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26.01.2012
Magnetic material sputtering target provided with groove in rear face of target
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 09.06.2011
Anhängig
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26.01.2012
Ferromagnetic material sputtering target with little particle generation
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 28.01.2011
Anhängig
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19.01.2012
Tantalum-based sintered body sputtering target and process for production thereof
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.07.2011
Anhängig
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11.01.2012
Gesinterter Silicium-Wafer
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 04.07.2008
Erteilt am 11.01.2012
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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04.01.2012
Trägerplattenanordnung Für Sputtertargets Und Filmabscheidungssystem
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 14.10.2005
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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04.01.2012
Metallkaschiertes Polyimidharzsubstrat mit Hervorragender Wärmealterungsresistenz
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.02.2010
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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04.01.2012
Metallbeschichtetes Polyimidharzsubstrat mit Hervorragender Wärmealterungsresistenz
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.02.2010
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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28.12.2011
Hochreines Ru-Legierungstarget, Herstellungsverfahren dafür und Gesputterter Film
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.06.2006
Erteilt am 28.12.2011
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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14.12.2011
Dünnfilm mit Titaniumoxid als Hauptkomponente und Gesintertes Sputtertarget umfassend Titaniumoxid als Hauptkomponente
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 29.01.2010
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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08.12.2011
Rolled sheet of cu-co-si copper alloy and electrical component comprising same
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.04.2011
Anhängig
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24.11.2011
Method for processing acidic solution that contains iodide ions and iron ions
Pharma & Biotechnologie
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 19.05.2011
Anhängig
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09.11.2011
Gesinterter Pressk Rper auf Eisenbasis und Herstellungsverfahren Daf R
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 01.09.2003
Erteilt am 09.11.2011
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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09.11.2011
Eisensilicidpulver und Herstellungsverfahren dafür
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 01.09.2003
Erteilt am 09.11.2011
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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Wer vertritt JX Nippon Mining & Metals?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die JX Nippon Mining & Metals vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Metallurgie & Oberflächentechnik
833
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
400
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
277
Elektronik & Schaltungstechnik
207
Anorganische Chemie & Werkstoffe
199
Akustik, Musik & Datenspeicherung
91
Verfahrens- & Trenntechnik
56
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
21
Verpackungs- & Fördertechnik
13
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
10
Optik & Fototechnik
9
Pharma & Biotechnologie
6