JX Nippon Mining & Metals Patente
🇯🇵 Japan
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.069 gesamt| Patent | |||
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05.09.2012
Plattiertes Element aus Sn-Rückfluss
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.10.2010
Anhängig
Vertretung
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30.08.2012
Cadmium telluride powder for solar cells, cadmium telluride film for solar cells, and solar cell
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 20.01.2012
Anhängig
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29.08.2012
Sputtertarget/rückplatte-Verbindungselement
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.05.2007
Erteilt am 29.08.2012
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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29.08.2012
Ofen zum Schmelzen von Silicium oder Siliciumlegierungen
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
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22.08.2012
Sputtertarget
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 29.07.2004
Erteilt am 22.08.2012
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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22.08.2012
Optisches Informationsaufzeichnungsmaterial und Herstellungsverfahren dafür
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 29.07.2004
Erteilt am 22.08.2012
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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16.08.2012
Indium target and method for producing same
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 07.09.2011
Anhängig
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16.08.2012
Sputtering Target Assembly
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 21.09.2011
Anhängig
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09.08.2012
Gas superheater and superheater connecting body
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
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Status
Angemeldet am 26.01.2012
Anhängig
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08.08.2012
Hochreines Hafnium, hochreines Hafniumtarget und Verfahren zum Herstellen eines dünnen Filmes unter Verwendung hochreinen Hafniums
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 25.10.2004
Erteilt am 08.08.2012
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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08.08.2012
Verfahren zur Rückgewinnung von Wertmetall aus Altmetall mit Leitfähigem Oxid
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 07.03.2008
Erteilt am 08.08.2012
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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02.08.2012
Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 04.08.2011
Anhängig
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26.07.2012
Method for leaching copper from copper sulfide ore
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Angemeldet am 09.12.2011
Anhängig
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18.07.2012
Oberflächenbehandlung von Kupfer zur Verhütung von Mikrorissbildung in flexiblen Schaltungen
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 16.03.2000
Erteilt am 18.07.2012
Vertretung
Mallalieu, Catherine Louise · London
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28.06.2012
Fe-pt ferromagnetic sputtering target and method for producing same
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 19.12.2011
Anhängig
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28.06.2012
Sintered Body Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 02.12.2011
Anhängig
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28.06.2012
Sputtering target for magnetic recording film, and process for production thereof
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 19.10.2011
Anhängig
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28.06.2012
Ferromagnetic Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 19.12.2011
Anhängig
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28.06.2012
Fe-pt-based sputtering target with dispersed c particles
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 14.11.2011
Anhängig
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21.06.2012
Ferromagnetic Material Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 15.12.2011
Anhängig
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21.06.2012
Ferromagnetic sputtering target and method for manufacturing same
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 21.11.2011
Anhängig
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21.06.2012
Sputtering target for magnetic recording film and method for producing same
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 09.11.2011
Anhängig
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21.06.2012
Ferromagnetic Material Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 15.12.2011
Anhängig
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20.06.2012
Tantalum-Sputtertarget
Metallurgie & Oberflächentechnik
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20.06.2012
Tantalum-Sputtertarget
Metallurgie & Oberflächentechnik
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14.06.2012
Ferromagnetic Material Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 06.12.2011
Anhängig
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07.06.2012
Positive electrode active material for lithium-ion battery, a positive electrode for lithium-ion battery, and lithium-ion battery
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.07.2011
Anhängig
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07.06.2012
Method and device for supplying zinc gas
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2011
Anhängig
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07.06.2012
Positive electrode active material for lithium-ion battery, a positive electrode for lithium-ion battery, and lithium-ion battery
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.07.2011
Anhängig
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07.06.2012
Positive electrode active material for lithium-ion battery, a positive electrode for lithium-ion battery, and lithium-ion battery
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.07.2011
Anhängig
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07.06.2012
Surface treatment agent for pd or alloy mainly composed of pd, and surface coating layer structure of copper surface
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 24.11.2011
Anhängig
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31.05.2012
Rolled copper foil for flexible printed wiring board, copper-clad laminated board, flexible wiring board, and electronic device
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2011
Anhängig
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24.05.2012
Copper foil for printed wiring board
Metallurgie & Oberflächentechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2010
Anhängig
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24.05.2012
Ito Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 09.06.2011
Anhängig
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23.05.2012
Kupferlegierung auf Cu-Ni-Si-Co-Cr-Basis für Elektronikmaterial und Herstellungsverfahren dafür
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 31.03.2006
Erteilt am 23.05.2012
Vertretung
L'Helgoualch, Jean · Bourg-la-Reine
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09.05.2012
Hochreines Nickel, Sputtertarget mit dem hochreinen Nickel und mit diesem Sputtertarget hergestellter Dünnfilm
Metallurgie & Oberflächentechnik
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03.05.2012
Sputtering target backing plate assembly and method for producing same
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 25.10.2011
Anhängig
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26.04.2012
Copper concentrate treatment method
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 20.10.2011
Anhängig
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25.04.2012
Sputtertarget
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 07.09.2006
Erteilt am 25.04.2012
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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25.04.2012
Kupferfolie und Herstellungsverfahren dafür
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Wer vertritt JX Nippon Mining & Metals?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die JX Nippon Mining & Metals vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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