KLA Corporation
🇺🇸 USA aktiv
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
Vertretung
Kanzleien und Patentanwälte, die KLA Corporation in unserer Datenbank vertreten.
Mit Komplettzugriff sehen Sie die vollständige Vertretung inkl. aller Kanzleien und Patentanwälte.
Komplettzugriff erhaltenPatentanmelder folgen
Erhalten Sie wöchentlich eine E-Mail, sobald neue Patente von KLA Corporation veröffentlicht werden.
Erfolgreich angemeldet!
Sie erhalten ab sofort wöchentliche Berichte zu neuen Patenten von KLA Corporation.
Patente
1.908 gesamt| Patent | |||
|---|---|---|---|
|
01.07.2026
Weiche Röntgenoptik mit Verbesserter Filterung
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Optical elements that efficiently propagate x-ray radiation over a desired energy range and reject radiation outside the desired energy range are presented herein. In one aspect, one or more optical elements of an x-ray based system include an integrated optical filter including one or more material layers that absorb radiation having energy outside the desired energy band. In general, the integrated filter improves the optical performance of an x-ray based system by suppressing reflectivity within infrared (IR), visible (vis), ultraviolet (UV), extreme ultraviolet (EUV) portions of the spectrum, or any other undesired wavelength region. In a further aspect, one or more diffusion barrier layers prevent degradation of the integrated optical filter, prevent diffusion between the integrated optical filter and other material layers, or both. In some embodiments, the thickness of one or more material layers of an integrated optical filter vary over the spatial area of the filter. |
|||
|
11.03.2026
Instrumentierter Wafer für Miniumgebung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
11.03.2026
Einfallswinkel- und Azimutwinkelaufgelöste Spektroskopische Ellipsometrie für Halbleitermetrologie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Software & Datenverarbeitung
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
11.03.2026
Vorwärtsbibliotheksbasiertes Säen für Effiziente Röntgenstreumessung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
11.03.2026
System und Verfahren zur Dynamischen Aberrationskorrektur
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
11.03.2026
Höhenmesssystem für Elektronenstrahlmetrologiewerkzeug
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
11.03.2026
Verfahren zur Kalibrierung, Vorhersage und Steuerung Stochastischer Defekte in der Euv-Lithographie
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
11.03.2026
Flexible Messmodelle für Modellbasierte Messungen von Halbleiterstrukturen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
04.03.2026
Wafer-Defektinspektions- und Prüfsysteme
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
04.03.2026
Automatische Schräglagenkorrektur Mithilfe von Designdateien oder Inspektionsbildern
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Software & Datenverarbeitung
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||