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Tokyo Ohka Kogyo Patente

🇯🇵 Japan

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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927 gesamt
Patent
01.03.2007
Film-forming material and method of forming pattern
WO2007023908
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik
14.02.2007
Resiststruktur-Bildungsverfahren und Zusammengesetztes Spülmittel
EP1752826
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.02.2007
Verwendung einer Spüllösung in der Lithographie
EP1752828
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.02.2007
Spülfluid für die Lithographie
EP1752827
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.02.2007
Resist composition and method of forming resist pattern
WO2007015352
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.02.2007
Cleaning liquid for lithography
WO2007013311
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik
01.02.2007
Compounds, process for production thereof, low-molecular compounds, positive resist compositions and process for formation of resist patterns
WO2007013471
Organische Chemie Optik & Fototechnik
25.01.2007
Resist composition and method of resist pattern formation
WO2007010666
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.01.2007
Process for producing positive-working resist composition, positive-working resist composition, and method for resist pattern formation
WO2007010667
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.01.2007
Process for producing resist composition, filtering apparatus, resist composition applicator, and resist composition
WO2007010794
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
18.01.2007
Composition for formation of paraelectric thin-film, paraelectric thin-film and dielectric memory
WO2007007561
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.01.2007
Material for protective film formation, and method for photoresist pattern formation using the same
WO2007007619
Optik & Fototechnik
18.01.2007
Material for forming protective film and method of forming photoresist pattern with the same
WO2007007780
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.01.2007
Compound, positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2007004566
Organische Chemie Optik & Fototechnik
28.12.2006
Photoresist film roll and method for manufacturing same
WO2006137243
Optik & Fototechnik
28.12.2006
Negative resist composition and method of forming resist pattern
WO2006137340
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.12.2006
Positive resist composition and method of forming resist pattern
WO2006137336
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
27.12.2006
Positivresistformulierung zur Tauchbeanspruchung und Verfahren zur Bildung eines Resistmusters
EP1736827
Optik & Fototechnik
21.12.2006
Positive resist composition and method of forming resist pattern
WO2006134739
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.12.2006
Positive resist composition and method of forming resist pattern
WO2006134806
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.12.2006
Polyhydric phenol compound, compound, positive resist composition, and method of forming resist pattern
WO2006134811
Organische Chemie Optik & Fototechnik
21.12.2006
Compound, positive resist composition, and method of forming resist pattern
WO2006134814
Organische Chemie Optik & Fototechnik
21.12.2006
Positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2006134967
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
14.12.2006
Thermoacid generator for antireflection film formation, composition for antireflection film formation, and antireflection film made therefrom
WO2006132089
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.11.2006
Positive photoresist composition, thick layered photoresist, process for producing thick resist pattern, and process for producing connecting terminal
WO2006126329
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
30.11.2006
Positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2006126433
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.11.2006
Positive resist composition and method of forming resist pattern
WO2006123487
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
23.11.2006
Material for protective film formation for liquid immersion exposure process, and method for photoresist pattern formation using the same
WO2006123643
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.11.2006
Positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2006120896
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.11.2006
Positive resist composition and method of forming resist pattern
WO2006120897
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
16.11.2006
Negative resist composition and method for forming resist pattern
WO2006120845
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.11.2006
Photosensitive dry film for production of three-dimensional micro-molded product, and photosensitive resin composition
WO2006121113
Optik & Fototechnik
16.11.2006
Method for enhancing optical stability of three-dimensional micromolded product
WO2006121112
Optik & Fototechnik
02.11.2006
Positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2006115017
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.11.2006
Negative resist composition and method for forming resist pattern
WO2006115010
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.11.2006
Developer composition, process for producing the same, and method of forming resist pattern
WO2006115013
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.11.2006
Material for protective film formation and method of forming resist pattern therewith
WO2006115077
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.11.2006
Composition for forming template
WO2006115167
Kunststoff- & Polymertechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.10.2006
Composition for forming silica coat
WO2006112230
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.10.2006
Compound, dissolution inhibitor, positive-working resist composition, and method for resist pattern formation
WO2006112446
Organische Chemie Optik & Fototechnik

Wer vertritt Tokyo Ohka Kogyo?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Ohka Kogyo vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
620
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
407
Kunststoff- & Polymertechnik
288
Organische Chemie
165
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
128
Verfahrens- & Trenntechnik
64
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
46
Pharma & Biotechnologie
24
Elektronik & Schaltungstechnik
23
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16
Metallurgie & Oberflächentechnik
15
Anorganische Chemie & Werkstoffe
12

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