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Tokyo Ohka Kogyo Patente

🇯🇵 Japan

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

927 gesamt
Patent
28.09.2006
Photocurable resin composition for forming black matrix, photosensitive film using the same, method for forming black matrix, black matrix and plasma display panel having the black matrix
Optik & Fototechnik
28.09.2006
Photosensitive resin composition and color filter
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
14.09.2006
Photosensitive resin composition and color filters
Optik & Fototechnik
14.09.2006
Positive resist composition and method for forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.09.2006
Verfahren zur Verkleinerung des Musters in einer Photoresistschicht
Optik & Fototechnik
31.08.2006
Photosensitive resin composition for forming light shielding layer, light shielding layer and color filter
Optik & Fototechnik
31.08.2006
Positive-working resist composition, method for resist pattern formation and compound
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.08.2006
Positive resist composition, method for forming resist pattern and compound
Organische Chemie Optik & Fototechnik
31.08.2006
Norbornene-type polymers, compositions thereof and lithographic processes using such compositions
Optik & Fototechnik
24.08.2006
Positive resist composition and method of forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.08.2006
Positive resist composition and method of forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
10.08.2006
Positive-working resist composition and method for resist pattern formation
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.08.2006
Positive resist composition for thin-film implantation process and method for forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.08.2006
Negative resist composition and method of forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.08.2006
Method for forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.08.2006
Material for metallic-pattern formation, crosslinking monomer, and method of forming metallic pattern
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie
03.08.2006
Method of forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.08.2006
Method for forming resist pattern, supercritical processing liquid for lithography process and method for forming antireflection film
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.07.2006
Silylphenylene polymer composition for the formation of interlayers and process for the formation of patterns by using the same
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.07.2006
Positive resist composition and method for forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
20.07.2006
Negative resist composition and method of forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
12.07.2006
Lichtempfindliche Harzzusammensetzungen und Diese Verwendende Lichtempfindliche Trockenfilme
Optik & Fototechnik
29.06.2006
Coating liquid for forming silica coating
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
22.06.2006
Positive-working resist composition and method for resist pattern formation
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.06.2006
Polymer compound, positive resist composition and method for forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
15.06.2006
Method for forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.06.2006
Positive resist composition and method of forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.06.2006
Coating liquid for forming silica coating film
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
07.06.2006
Positiv-Resistzusammensetzung und Resistlaminat für einen Elektronenstrahl mit Geringer Beschleunigung und Verfahren zur Musterbildung
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.05.2006
Material zur Bildung eines Resist-Schutzfilms für einen Immersionsbelichtungsprozess, aus Solchem Material Hergestellter Resistschutzfilm und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur unter Verwendung eines Solchen Resistschutzfilms
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.05.2006
Negative Resist Composition
Optik & Fototechnik
11.05.2006
Method for producing resist composition and resist composition
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
20.04.2006
Positive resist composition for immersion exposure and method of forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.04.2006
Polymer, positive resist composition, and method of forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
13.04.2006
Polymer compound, positive resist composition and method for forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
13.04.2006
Positive resist composition and method of forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
05.04.2006
Positiv-Resistzusammensetzung, Resistlaminate und Prozess zur Bildung von Resiststrukturen
Optik & Fototechnik
05.04.2006
Harzzusammensetzung, Mehrschichtkörper und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.03.2006
Resist composition and method for forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.03.2006
Composition for forming antireflective film and wiring forming method using same
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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