Tokyo Ohka Kogyo Patente
🇯🇵 Japan
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
927
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
927 gesamt| Patent | |||
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01.08.2007
Verfahren zur Erzeugung einer Resiststruktur
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.11.2005
Anhängig
Vertretung
Hart-Davis, Jason · Paris
Portal, Gérard · Paris
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26.07.2007
Positive resist composition for immersion exposure and method of forming resist pattern
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.12.2006
Anhängig
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26.07.2007
Film-Forming Composition
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.12.2006
Anhängig
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25.07.2007
Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und Lichtempfindlicher Trockenfilm durch deren Verwendung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.10.2005
Anhängig
Vertretung
Plasseraud IP · Paris
Cabinet Plasseraud · Paris
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19.07.2007
Detergent for lithography and method of forming resist pattern with the same
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.12.2006
Anhängig
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19.07.2007
Resin, resist composition, and method of forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.12.2006
Anhängig
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05.07.2007
Cleaning liquid for photolithography and method of circulation and use of the same
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.12.2006
Anhängig
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04.07.2007
Entwicklungslösungszusammensetzung für die Lithographie und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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28.06.2007
Resist composition and process for producing the same
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.12.2006
Anhängig
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21.06.2007
Resist composition for liquid immersion exposure and method for forming resist pattern
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.12.2006
Anhängig
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14.06.2007
Positive resist composition for immersion exposure and method for forming resist pattern
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 01.12.2006
Anhängig
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14.06.2007
Positive photoresist composition and method of forming photoresist pattern using the same
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.12.2006
Anhängig
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07.06.2007
Cleaning liquid for photolithography and method of cleaning substrate therewith
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 01.12.2006
Anhängig
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31.05.2007
Photoresist composition for spray coating and laminate
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2006
Anhängig
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30.05.2007
Resistzusammensetzung für Elektronenstrahlen oder Euv (extrem-Ultraviolett) und Prozess zur Erzeugung von Resiststrukturen
Optik & Fototechnik
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23.05.2007
Material zur Bildung eines Resistschutzfilms und Verfahren zur Bildung eines Resistmusters damit
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.07.2005
Anhängig
Vertretung
Perin, Georges · Paris
Cabinet Plasseraud · Paris
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23.05.2007
Material zur Bildung eines Resistschutzfilms und Verfahren zur Bildung von Resistmustern damit
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.07.2005
Anhängig
Vertretung
Plasseraud IP · Paris
Cabinet Plasseraud · Paris
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18.05.2007
Photosensitive resin composition and method of forming pattern
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.10.2006
Anhängig
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10.05.2007
Washing liquid and washing method
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.10.2006
Anhängig
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10.05.2007
Washing liquid and washing method
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.10.2006
Anhängig
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03.05.2007
Adhesive composition and adhesive film
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 23.10.2006
Anhängig
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02.05.2007
Lichtempfindliche Zusammensetzung zur Verwendung bei der Herstellung einer Druckplatte und Lichtempfindliches Druckoriginalplattenlaminat und Druckoriginalplatte mit der Lichtempfindlichen Zusammensetzung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.06.2005
Anhängig
Vertretung
Plasseraud IP · Paris
Cabinet Plasseraud · Paris
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26.04.2007
Resist composition and method of forming resist pattern
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 20.09.2006
Anhängig
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26.04.2007
Positive resist composition, positive resist composition for thermal flow process, and method for formation of resist patterns
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.10.2006
Anhängig
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26.04.2007
Novel compound, acid generator, chemical amplification type photoresist composition, resist layer laminate and method of forming resist pattern
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.10.2006
Anhängig
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19.04.2007
Material for forming film overlying photoresist
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.10.2006
Anhängig
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12.04.2007
Positive resist composition and method for formation of resist patterns
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.08.2006
Anhängig
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05.04.2007
Positive resist composition and method for forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.09.2006
Anhängig
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29.03.2007
Compound, method for producing same, positive resist composition and method for forming resist pattern
Organische Chemie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.09.2006
Anhängig
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29.03.2007
Method for measuring liquid immersion lithography soluble fraction in organic film
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.09.2006
Anhängig
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22.03.2007
Negative resist composition and method of resist pattern formation
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.08.2006
Anhängig
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21.03.2007
Photopolymerzusammensetzung für den flexographischen Druck und wasserentwickelbare, lichtempfindiliche Originaldruckplatte für den flexographischen Druck
Optik & Fototechnik
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15.03.2007
Polymer, negative resist composition, and method of forming resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.08.2006
Anhängig
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15.03.2007
Film forming composition for nanoimprinting and method for pattern formation
Kunststoff- & Polymertechnik
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 28.08.2006
Anhängig
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15.03.2007
Material for protective film formation, and method for photoresist pattern formation using the same
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.09.2006
Anhängig
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15.03.2007
Endpoint detection method, endpoint detection apparatus, and vapor-phase reactor comprising endpoint detection apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.08.2006
Anhängig
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15.03.2007
Resist composition and method of resist pattern formation
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.09.2006
Anhängig
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15.03.2007
Washing agent for photolithography and method of forming photoresist pattern using the same
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 07.09.2006
Anhängig
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15.03.2007
Material for protective film formation and method for photoresist pattern formation using the same
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 07.09.2006
Anhängig
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08.03.2007
Film-forming composition, method for pattern formation, and three-dimensional mold
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.08.2006
Anhängig
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Wer vertritt Tokyo Ohka Kogyo?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Ohka Kogyo vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
620
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
407
Kunststoff- & Polymertechnik
288
Organische Chemie
165
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
128
Verfahrens- & Trenntechnik
64
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
46
Pharma & Biotechnologie
24
Elektronik & Schaltungstechnik
23
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16
Metallurgie & Oberflächentechnik
15
Anorganische Chemie & Werkstoffe
12