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Tokyo Ohka Kogyo Patente

🇯🇵 Japan

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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927 gesamt
Patent
22.03.2006
Zusammensetzung für die Dielektrische Schicht eines Plasma-Bildschirms, Schichtstruktur für Dielektrikum und Verfahren zum Aufbau des Dielektrikums
EP1636650
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
16.03.2006
Immersion liquid for liquid immersion lithography process and method for forming resist pattern using such immersion liquid
WO2006027942
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.03.2006
Resist composition for euv and method of forming resist pattern
WO2006027996
Organische Chemie Optik & Fototechnik
16.03.2006
Resist composition and process for formation of resist patterns
WO2006028014
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.02.2006
Solvent for cleaning
WO2006018940
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik
23.02.2006
Coating-forming agent for pattern miniaturization and method of forming micropattern therewith
WO2006019135
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.02.2006
Positive resist composition and method of forming resist pattern
WO2006011442
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.02.2006
Novel compound, polymer compound, resist composition and method for forming resist pattern
WO2006011420
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie
26.01.2006
Resist composition and method for forming resist pattern
WO2006008934
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.01.2006
Resist composition and method of forming resist pattern
WO2006008914
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.01.2006
Positivresistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung von Resiststrukturen
EP1619553
Optik & Fototechnik
25.01.2006
Positiv-Fotoresistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters
EP1619554
Optik & Fototechnik
12.01.2006
Positive-working resist composition and method for resist pattern formation
WO2006003800
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.01.2006
Positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2006003819
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.01.2006
Chemically amplified resist composition and method for forming resist pattern
WO2006003824
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
12.01.2006
Positive-working resist composition and method for resist pattern formation
WO2006003810
Optik & Fototechnik
29.12.2005
Polymer compound, positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2005123795
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
29.12.2005
Positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2005124463
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.12.2005
Compound, polymer compound, positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2005123655
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie
28.12.2005
Resistzusammensetzung für einen Flüssigkeitseintauchbelichtungsprozess und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur damit
EP1610178
Optik & Fototechnik
22.12.2005
Polymer, positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2005121193
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
08.12.2005
Resist composition and method for forming resist pattern
WO2005116762
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.12.2005
Immersion liquid for immersion exposure process and method for forming resist pattern using such immersion liquid
WO2005117074
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.12.2005
Positive resist composition and method for forming resist pattern
WO2005116769
Optik & Fototechnik
08.12.2005
Positive resist compositions and process for the formation of resist patterns with the same
WO2005116768
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
30.11.2005
Immersionsflüssigkeit für einen Immersionsbelichtungsprozess und Resiststrukturausbildungsverfahren mit einer Solchen Immersionsflüssigkeit
EP1601008
Optik & Fototechnik
30.11.2005
Resistmaterial für einen Flüssigkeitsimmersionsbelichtungsprozess und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur mit dem Resistmaterial
EP1600813
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
23.11.2005
Fotoresistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
EP1598701
Optik & Fototechnik
16.11.2005
Imersionsbelichtungsprozess-Benutzungs-Resistschutzfilmbildungsmaterial, Zusammengesetzter Film und Resistmusterbildungsverfahren
EP1596251
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.11.2005
Resin for resist composition, negative resist composition and method for forming resist pattern
WO2005105873
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
10.11.2005
Positive resist composition, method of forming resist pattern, and method of ion implantation
WO2005106587
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.11.2005
Photosensitive original printing plate for relief printing, method for producing relief printing plate, and light-shielding ink for performing the method
WO2005106585
Optik & Fototechnik
27.10.2005
Positive resist composition and process for the formation of resist patterns
WO2005101128
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
29.09.2005
Photosensitive insulative paste composition and photosensitive film using the same
WO2005091071
Optik & Fototechnik
09.09.2005
Inorganic paste composition, method for preparing inorganic paste composition, and sheet-shaped unbaked body for producing display panel
WO2005083520
Optik & Fototechnik
01.09.2005
Polymer, photoresist composition containing the polymer, and method of forming resist pattern
WO2005080474
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
01.09.2005
Photoresist composition and method of forming resist pattern
WO2005081061
Optik & Fototechnik
01.09.2005
Base material for pattern forming material, positive resist composition and method of resist pattern formation
WO2005081062
Optik & Fototechnik
24.08.2005
Verfahren zur Herstellung einer Mehrschichtigenhalbleiterverbindung
EP1566836
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.08.2005
Negative resist composition and method for forming resist pattern
WO2005073810
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Wer vertritt Tokyo Ohka Kogyo?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Ohka Kogyo vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
620
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
407
Kunststoff- & Polymertechnik
288
Organische Chemie
165
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
128
Verfahrens- & Trenntechnik
64
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
46
Pharma & Biotechnologie
24
Elektronik & Schaltungstechnik
23
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16
Metallurgie & Oberflächentechnik
15
Anorganische Chemie & Werkstoffe
12

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