Isler & Pedrazzini AG

Eine Kürzlehre (6) zum Abmessen eines bandseitigen Fingerschutzprofils (1, 10, 11), insbesondere eines Fingerschutzrohrs, weist einen Grundkörper (60) mit einer Durchgangsöffnung (67) zur Aufnahme des Fingerschutzprofils (1, 10, 11) und eine erste Anschlagfläche (620) zum Anliegen an einem Türband (S) auf. Die Kürzlehre (6) weist einen Schlitz (61) auf zur Markierung einer Kürzstelle des Fingerschutzprofils (1, 10, 11), wenn die Kürzlehre (6) gemeinsam mit dem Fingerschutzprofil (1, 10, 11) am Türband (S) angeschlagen ist. Sie weist ferner einen Griff (64) auf zum Verschieben der Kürzlehre (6) relativ zum Fingerschutzprofil (1, 10, 11), wobei der Schlitz (61) in einem Abstand zum Griff (64) endet. Sie ist kostengünstig herstellbar und einfach bedienbar. Sie ermöglicht auf einfache Art und Weise ein Abmessen eines Schutzprofils, um bandseitige Fingerschutzprofile in gewünschten Längen mit grosser Massgenauigkeit zu erhalten.

Ein portables Zahnreinigungsgerät (10) hat ein Gehäuse (20), eine in diesem angeordnete Pumpe (40), eine elektronische Kontrolleinheit (60), einen Flüssigkeitsbehälter (30) für eine Aufnahme einer zur Reinigung vorgesehenen Flüssigkeit (31), und eines mit diesem verbundenen Abgaberöhrchen (41, 43), welches in einer Abgabeöffnung (44) endet. Dabei wird die Flüssigkeit (31) aus dem Flüssigkeitsbehälter über die Pumpe (40) zur Abgabeöffnung (44) gefördert. Eine Temperaturmesseinrichtung (70) ist in oder an dem Abgaberöhrchen (41, 43) zur Bestimmung der Temperatur der Flüssigkeit (31) vorgesehen. Diese ist mit der elektronischen Kontrolleinheit (60) verbunden, damit diese die Pumpe (40) bei einer Betätigung (61) des Zahnreinigungsgerätes (10) nur dann anschaltet, wenn die Temperatur der abgegebenen gepumpten Flüssigkeit zwischen 45 und 55 Grad Celsius beträgt.

An apparatus comprising:an ion trap, for example a 2 dimensional, 2D, ion trap such as a linear quadrupole ion trap, LIT, wherein the ion trap comprises a set of electrodes, for example wherein the 2D ion trap comprises two or more pairs of rod electrodes and optionally two end electrodes;a power supply configured to: generate a substantially rectangular radio frequency, RF, voltage waveform, wherein the RF voltage waveform includes a first set of states including a first state having a first voltage level and a second state having a second voltage level, wherein the first state and the second state are mutually opposed; and apply the generated RF voltage waveform to the set of electrodes, wherein the first set of states provides a trapping field in the ion trap for trapping ions in a trapping region thereof;an electron source, configured to inject electrons into the ion trap for reactions thereof with the ions, for example electron capture dissociation, ECD, hot ECD, electron induced dissociation, EID, and/or electron detachment dissociation, EDD;wherein the RF voltage waveform includes a second set of states including a first state having a first voltage level, wherein the first voltage level of the second set of states is between the first voltage level and the second voltage level of the first set of states; andwherein the electron source is configured to inject the electrons into the ion trap during the second set of states, for example only during the second set of states.

A capacitive sensor comprises an insulating substrate (80), wherein a flat driving electrode (10) is positioned in a driving electrode area (15) on one side of the insulating substrate (80), wherein a flat sensing electrode (20) is positioned in a sensing electrode area (25) on the same side of the insulating substrate (80), wherein the driving electrode area (15) and the sensing electrode area (25) is separated by a distancing area (81) in the plane of the insulating substrate (80). An unconnected one-piece conductive plate (70) is positioned on the opposite side of the insulating substrate (80) covering a surface encompassing the driving electrode area (15) of the driving electrode (10), the sensing electrode area (25) of the sensing electrode (20) as well as the distancing area (81).

Eine Anordnung zur Bereitstellung einer Verbindung zwischen einem Profil (1) und einem weiteren Element (E), wobei die Anordnungein sich entlang einer Profilachse (A) ersteckendes Profil (1) mit einer Seitenwand (2), welche einen Profilinnenraum (3) seitlich begrenzt, und mit Stirnflächen (4), welche das Profil (1) jeweils endseitig begrenzen, undmindestens ein mit dem Profil (1) verbindbares Funktionselement (5) mit einem Funktionsabschnitt (6) und mindestens einem Befestigungsabschnitt (7), umfasst,wobei im verbundenen Zustand, wenn das Funktionselement (5) mit dem Profil (1) verbunden ist, der Funktionsabschnitt (6) von der Stirnfläche (4) her vom Profil (1) wegragt und der Befestigungsabschnitt (7) von der Stirnfläche (4) in Richtung des Profil (1) ragt, undwobei das Profil (1) in der Seitenwand (2) mindestens eine profilseitige Befestigungsöffnung (8) aufweist und wobei der Befestigungsabschnitt (7) mindestens eine befestigungsabschnittsseitige Befestigungsöffnung (9) aufweist, undwobei die Anordnung weiterhin mindestens ein Befestigungselement (10) aufweist, welches sich durch die mindestens eine profilseitige Befestigungsöffnung (8) und die mindestens eine befestigungsabschnittsseitige Befestigungsöffnung (9) hindurcherstreckt, so dass zwischen dem Profil (1) und dem Funktionselement (5) eine feste Verbindung bereitgestellt ist.

Eine Anordnung umfasst ein sich entlang einer ersten Profilachse (A1) ersteckendes erstes Profil (1) mit einer ersten Profilnut (2),ein sich entlang einer zweiten Profilachse (A2) ersteckendes zweites Profil (3) mit einer zweiten Profilnut (4) undmindestens eine Verbindungseinheit (5) mit einem Supportelement (6) mit einer ersten Seite (7), die dem ersten Profil zugewandt ist, und einer zweiten Seite (8), die dem zweiten Profil zugewandt ist, sowie mit einem ersten Rastelement (9) und einem zweiten Rastelement (10), wobei das erste Rastelement von einer Ausgangslage um eine erste Schwenkachse (S1) in eine Verbindungslage schwenkbar am Supportelement gelagert ist und das zweite Rastelement von einer Ausgangslage um eine zweite Schwenkachse (S2) in eine Verbindungslage schwenkbar am Supportelement gelagert ist, und wobei in der jeweiligen Verbindungslage das erste Rastelement in festem Eingriff mit der ersten Profilnut ist und das zweite Rastelement in festem Eingriff mit der zweiten Profilnut ist.

Eine Anordnung zur Bereitstellung einer Verbindung zwischen einem Profil (1) und einem weiteren Element (E), wobei die Anordnung ein sich entlang einer Profilachse (A) ersteckendes Profil (1) mit einer Seitenwand (2), welche einen Profilinnenraum (3) seitlich begrenzt, und mit Stirnflächen (4), welche das Profil (1) jeweils endseitig begrenzen, und mindestens ein mit dem Profil (1) verbindbares Verbindungselement (5) mit einem Verbindungsabschnitt (6) und mindestens einem Funktionsabschnitt (7), umfasst, wobei mindestens eine der genannten Seitenwände (2) eine Vielzahl von beabstandet zueinander liegenden profilseitigen Rasterhebungen (8) aufweist, welche quer zur Profilachse (A) orientiert sind und sich in den Profilinnenraum (3) hineinerstrecken, wobei das Verbindungselement (5) eine Vielzahl von verbindungselementseitigen Rasterhebungen (9) aufweist, und wobei das Verbindungselement (5) in den Profilinnenraum (3) einsetzbar ist und im eingesetzten Zustand von einer Einsetzlage in eine Rastlage bewegbar ist, derart, dass die verbindungselementseitigen Rasterhebungen (9) in einen Eingriff mit den profilseitigen Rasterhebungen (8) bringbar sind, wobei der Eingriff derart ist, dass das Verbindungselement (5) im Profilinnenraum (3) bezüglich einer Bewegung in Richtung der Profilachse (A) festgelegt ist.

Eine statische Mischvorrichtung (9) für eine Mehrphasenströmung mit einer Gasphase und einer Flüssigkeitsphase umfasst ein Rohr (19) und einen Mischeinsatz (3', 4'), die den Strömungskanal bilden, der in dem Rohr (19) angeordnet ist und eine Vielzahl von strömungsbeeinflussenden flächigen Elementen aufweist, die mit einem Katalysator beschichtet sind. Der Mischeinsatz (3", 4") weist eine vorbestimmte Gesamtlänge (Lu"+Lb") auf, wobei die statische Mischvorrichtung (9) im Einsatz gesehen stromaufwärts (29) von der mit dem Katalysatormaterial beschichteten strömungsbeeinflussenden flächigen Elementen einen Abschnitt (3', 3", 53) von unbeschichteten strömungsbeeinflussenden flächigen Elementen über eine Länge (Lu', Lu") aufweist, wobei die unbeschichtete Länge (Lu', Lu") dieses Abschnittes (3', 3") zwischen 40% und 95% der Gesamtlänge (L) des Mischeinsatzes (3, 4) beträgt. Das Rohr (19) ist mit dem Abschnitt (3', 3") von unbeschichteten strömungsbeeinflussenden flächigen Elementen in einer Weise ausgestaltet, dass in der Mehrphasenströmung im Rohr (19) eine Blasenströmung vorliegt, in der die Gasphase gleichmässig in der Flüssigkeitsphase dispergiert.

A drill head (1) and corresponding method for drilling a borehole (2) into a sub-surface formation (3) comprises at least one drill housing (4) configured to be arranged sub-surface, and at least one gyrotron (5, 5a, ...). The gyrotron (5, 5a, ...) comprises an electron gun (6) configured to produce an electron beam, at least one magnet (7) configured to produce a magnetic field, and a cavity (8) configured to receive the electron beam and to generate microwaves by a resonance coupling between the electron beam and the magnetic field produced by the magnet (7). The microwaves are injectable into the sub-surface formation (3) for drilling the borehole (2). The gyrotron (5, 5a, ...) is at least partially arranged in the drill housing (4) such, that the microwaves are generated sub-surface.

An apparatus (100, 300, 700) is described, comprising: a linear ion trap (102) comprising two pairs of pole electrodes and a radiofrequency, RF, electrical potential supply (117) configured to apply respective RF waveforms to the pairs of pole electrodes, thereby forming a RF trapping field component to trap analyte ions (116) radially in a trapping region (115) of the linear ion trap for processing of the analyte ions (116) therein; a charged particle source (101) comprising a pulse valve (103), a conduit (106, 107), having an entrance in fluid communication therewith and an exit, wherein the conduit (106, 107) extends in the direction of the trapping region (115), and a discharge device (108) electrically coupled to an electrical potential supply (109) and disposed between the entrance and the exit of the conduit (106, 107), wherein the pulse valve (103) is configured to release a gas pulse from a gas supply into the entrance of the conduit (106, 107) and wherein the electrical potential supply (109) is configured to apply a high voltage to the discharge device (108) to generate a discharge (110) in the gas pulse in the conduit (106, 107), thereby generating charged particles (114) from the gas and accelerating the generated charged particles in the direction of the trapping region (115). A method is also described.