Applied Materials Patente
🇺🇸 USA
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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10.794 gesamt| Patent | |||
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01.11.2018
Selective deposition of tungsten for simplified process flow of tungsten oxide pillar formation
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.04.2018
Anhängig
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01.11.2018
Applying power to electrodes of plasma reactor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 23.04.2018
Anhängig
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01.11.2018
Vacuum system and method of depositing one or more materials on a substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.04.2017
Anhängig
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01.11.2018
Vacuum system and method for depositing a plurality of materials on a substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.04.2017
Anhängig
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01.11.2018
Method for cleaning a vacuum system used in the manufacture of oled devices, method for vacuum deposition on a substrate to manufacture oled devices, and apparatus for vacuum deposition on a substrate to manufacture oled devices
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.04.2017
Anhängig
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31.10.2018
Filmerzeugungsvorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 21.12.2015
Anhängig
Vertretung
Zimmermann & Partner Patentanwälte mbB · München
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31.10.2018
Verfahren zur Handhabung einer Maskenvorrichtung in einem Vakuumsystem, Maskenhandhabungsvorrichtung und Vakuumsystem
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.04.2017
Anhängig
Vertretung
Zimmermann & Partner Patentanwälte mbB · München
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31.10.2018
Verfahren und System für den Nachweis von Mikrorissen in Wafern
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 14.05.2009
Erteilt am 31.10.2018
Vertretung
Andrews, Paul David · Glasgow
Wise, Stephen James · Glasgow
Zimmermann & Partner Patentanwälte mbB · München
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25.10.2018
Methods and apparatus for semiconductor package processing
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.04.2018
Anhängig
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25.10.2018
Flowable gapfill using solvents
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.04.2018
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25.10.2018
Low Temperature Selective Epitaxial Silicon Deposition
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 11.04.2018
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25.10.2018
Polishing apparatus using neural network for monitoring
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 13.04.2018
Anhängig
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25.10.2018
Energy delivery system with array of energy sources for an additive manufacturing apparatus
Kunststoff- & Polymertechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 13.04.2018
Anhängig
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25.10.2018
Improved Electrode Assembly
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Angemeldet am 28.03.2018
Anhängig
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25.10.2018
Material deposition arrangement, a method for depositing material and a material deposition chamber
Metallurgie & Oberflächentechnik
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Status
Angemeldet am 21.04.2017
Anhängig
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24.10.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Interaktiven und Dynamischen Aktualisierung einer Schematischen Überlagerung
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2016
Anhängig
Vertretung
Zimmermann & Partner Patentanwälte mbB · München
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24.10.2018
Verfahren und Vorrichtung zum Verarbeiten eines Substrats
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.12.2016
Anhängig
Vertretung
Zimmermann & Partner Patentanwälte mbB · München
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18.10.2018
Symmetric and irregular shaped plasmas using modular microwave sources
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.03.2018
Anhängig
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18.10.2018
High Deposition Rate High Quality Silicon Nitride Enabled By Remote Nitrogen Radical Source
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.03.2018
Anhängig
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18.10.2018
Method and apparatus for deposition of low-k films
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.04.2018
Anhängig
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17.10.2018
System mit Konfiguration zur Sputterabscheidung auf einem Substrat, Abschirmvorrichtung für eine Sputterabscheidungskammer und Verfahren zur Herstellung einer Elektrischen Abschirmung in einer Sputterabscheidungskammer
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.12.2015
Anhängig
Vertretung
Zimmermann & Partner Patentanwälte mbB · München
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11.10.2018
Plasma Chamber Target For Reducing Defects in Workpiece During Dielectric Sputtering
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.03.2018
Anhängig
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11.10.2018
Surface Modification To Improve Amorphous Silicon Gapfill
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.03.2018
Anhängig
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11.10.2018
Plasma Density Control On Substrate Edge
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 06.04.2018
Anhängig
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11.10.2018
Barrier film deposition and treatment
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.04.2018
Anhängig
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11.10.2018
Aligner apparatus and methods
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.03.2018
Anhängig
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11.10.2018
Gapfill using reactive anneal
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.04.2018
Anhängig
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11.10.2018
Two-step process for silicon gapfill
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.04.2018
Anhängig
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11.10.2018
Iridium precursors for ald and cvd thin film deposition and uses thereof
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.04.2018
Anhängig
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11.10.2018
Supply line guide for a vacuum processing system
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 07.04.2017
Anhängig
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11.10.2018
Treatment approach to improve film roughness by improving nucleation/adhesion of silicon oxide
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.03.2018
Anhängig
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11.10.2018
Metal precursors with modified diazabutadiene ligands for cvd and ald applications and methods of use
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 06.04.2018
Anhängig
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11.10.2018
Gas Phase Particle Reduction in Pecvd Chamber
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 04.04.2018
Anhängig
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11.10.2018
Method for cleaning a vacuum chamber, apparatus for vacuum processing of a substrate, and system for the manufacture of devices having organic materials
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 28.03.2018
Anhängig
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11.10.2018
Wafer based corrosion&time dependent chemical effects
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.03.2018
Anhängig
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10.10.2018
Maskenhandhabungsmodul
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.08.2010
Erteilt am 10.10.2018
Vertretung
Neuburger, Benedikt Maria · München
Schley, Jan Malte · München
Zimmermann & Partner Patentanwälte mbB · München
Zusammenfassung
The present invention relates to the field of mask carriers and mask alignment in vacuum deposition processes. In particular, it relates to mask carriers, respective mask handling modules and methods for aligning a mask. A mask handling module (1) may comprise: a substrate carrier (2) for carrying at least one substrate; a mask carrier (3) for carrying at least two masks, wherein the mask carrier (3) comprises at least two mask carrier sections (31,32) each being adapted to carry a mask; a mask carrier positioning device (39) for moving the mask carrier (3) relative to the substrate carrier (2); wherein the mask carrier sections (31,32) are arranged so that the masks carried on the mask carrier sections (31,32) can be positioned on the mask carrier (3) in respective planes forming an angle (α) with respect to each other so that only one of the at least two masks can be aligned to one of the at least one substrate. |
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04.10.2018
Adhesive-less carriers for chemical mechanical polishing
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.03.2018
Anhängig
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04.10.2018
Two-step process for gapfilling high aspect ratio trenches with amorphous silicon film
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.03.2018
Anhängig
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04.10.2018
Method for recycling substrate process components
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.02.2018
Anhängig
Zusammenfassung
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03.10.2018
Maskenlose Herstellung von Vertikalen Dünnschichtbatterien
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.12.2013
Erteilt am 03.10.2018
Vertretung
Zimmermann & Partner Patentanwälte mbB · München
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Wer vertritt Applied Materials?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Applied Materials vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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