Tokyo Electron Patente
🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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6.255 gesamt| Patent | |||
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01.05.2025
Inspection method, inspection apparatus, and inspection system
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Plasma processing method and plasma processing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Substrate processing apparatus, temperature control apparatus, and temperature control method
Steuerungs- & Regelungstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Etching method and plasma treatment device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Film deposition method and film deposition device
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Substrate processing method and substrate processing system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Plasma processing device
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Plasma processing device
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Conditioning method and plasma processing system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 09.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Silicide forming method and semiconductor manufacturing apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.08.2024
Anhängig
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24.04.2025
Method and system for plasma process
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.08.2024
Anhängig
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24.04.2025
Hardmask integration for high aspect ratio applications
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.07.2024
Anhängig
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24.04.2025
Substrate processing apparatus and substrate processing method
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.11.2024
Anhängig
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24.04.2025
Etching method and plasma treatment system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.10.2024
Anhängig
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24.04.2025
Etching method and etching device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.10.2024
Anhängig
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24.04.2025
Substrate processing device
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.10.2024
Anhängig
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24.04.2025
Substrate processing apparatus and substrate processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.10.2024
Anhängig
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24.04.2025
Substrate treatment method and substrate treatment device
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 07.10.2024
Anhängig
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23.04.2025
Substratverarbeitungsverfahren und Substratverarbeitungssystem
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.04.2025
Temperaturregelstufe und Prüfvorrichtung
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Zusammenfassung
A temperature control stage includes: a top plate configured for a processing target to be mounted on a surface of the top plate; a heating part disposed on a back surface of the top plate or inside the top plate; a heat exchanger disposed adjacent to the top plate or the heating part, and including, in an interior of the heat exchanger, a circulation space in which a gas circulates; and a gas supply configured to supply the gas to the circulation space. The heat exchanger includes: a projection group region including a plurality of projections composed of metal fiber and projecting in the circulation space, thereby promoting heat exchange with the gas; and a non-installation region free of the plurality of projections, thereby causing less heat exchange with the gas than in the projection group region. |
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17.04.2025
Selective passivation of photoresists
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.08.2024
Anhängig
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17.04.2025
System and method for plasma processing
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.08.2024
Anhängig
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17.04.2025
Method and apparatus for forming two-dimensional material layer
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.10.2024
Anhängig
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17.04.2025
Temperature control stage and inspection device
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.10.2024
Anhängig
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17.04.2025
Processing method, processing system, and inspection appraratus
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 26.09.2024
Anhängig
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17.04.2025
Method and device for forming boron nitride film
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 30.09.2024
Anhängig
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17.04.2025
Substrate processing apparatus and substrate processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.10.2024
Anhängig
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17.04.2025
Plasma processing apparatus and shower head
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.09.2024
Anhängig
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17.04.2025
Etching method and etching device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 01.10.2024
Anhängig
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17.04.2025
Film formation method and film formation device
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 30.09.2024
Anhängig
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17.04.2025
Information processing method, computer program, and information processing device
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 01.10.2024
Anhängig
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17.04.2025
Substrate treatment method and substrate treatment device
Verfahrens- & Trenntechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.09.2024
Anhängig
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10.04.2025
Substrate support assembly, substrate processing apparatus, and substrate processing method
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.09.2024
Anhängig
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10.04.2025
Film forming method and semiconductor manufacturing apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.08.2024
Anhängig
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10.04.2025
Substrate support assembly, substrate processing apparatus, and substrate processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 24.09.2024
Anhängig
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10.04.2025
Multi-Material Chuck
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.07.2024
Anhängig
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03.04.2025
Pattern forming method and pattern forming apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.09.2024
Anhängig
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03.04.2025
Cleaning method and film deposition apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.09.2024
Anhängig
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03.04.2025
Substrate processing system, joining device, and joining method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 13.09.2024
Anhängig
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03.04.2025
Etching method and plasma processing device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.08.2024
Anhängig
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Wer vertritt Tokyo Electron?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Electron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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