Tokyo Electron Patente
🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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6.255 gesamt| Patent | |||
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22.05.2025
Device and method for determining wafer bow
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 06.11.2024
Anhängig
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22.05.2025
Area selective deposition of metals for electronic devices
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2024
Anhängig
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22.05.2025
Low Resistance Liner
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 25.09.2024
Anhängig
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22.05.2025
Plasma processing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 06.11.2024
Anhängig
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22.05.2025
Semiconductor processing device and power supply method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.11.2024
Anhängig
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22.05.2025
Method for manufacturing semiconductor device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 06.11.2024
Anhängig
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22.05.2025
Power supply system, plasma processing device, and control method
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2024
Anhängig
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22.05.2025
Transport system and transport method
Verpackungs- & Fördertechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.11.2024
Anhängig
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22.05.2025
Transport system and transport method
Verpackungs- & Fördertechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.11.2024
Anhängig
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21.05.2025
Verfahren zur Verarbeitung eines Substrats und System zur Verarbeitung eines Substrats
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.06.2023
Anhängig
Vertretung
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15.05.2025
Plasmaverarbeitungsvorrichtung, Stromversorgungssystem und Steuerungsverfahren
Elektronik & Schaltungstechnik
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Zusammenfassung
A disclosed power supply system of a plasma processing apparatus includes a radio frequency power supply, a bias power supply, and a power supply controller. The radio frequency power supply generates radio frequency power for plasma generation. The bias power supply supplies an electric bias to a substrate support. The power supply controller periodically modulates a power level of the radio frequency power in repetitions of a modulation cycle including at least two sub-periods. The power supply controller is configured to adjust a frequency of the radio frequency power for an n-th phase period included in a feedback period continuing from a start time of each of the at least two sub-periods within the modulation cycle, based on a change in the frequency of the radio frequency power and a change in a degree of reflection of the radio frequency power in the n-th phase period in preceding repetitions of the modulation cycle. |
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15.05.2025
Methods for patterning a semiconductor substrate using metalate salt ionic liquid crystals
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.08.2024
Anhängig
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15.05.2025
Methods for forming vertically layered ionic liquid crystal (ilc) structures on a semiconductor substrate
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.09.2024
Anhängig
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15.05.2025
Sub-millisecond optical detection of pulsed plasma processes
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 04.09.2024
Anhängig
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15.05.2025
Method to pattern a semiconductor substrate using a multilayer photoresist film stack
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.08.2024
Anhängig
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15.05.2025
Plasma processing device, power supply system, and control method
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2024
Anhängig
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15.05.2025
Plasma processing device, method for manufacturing electrode plate, and method for regenerating electrode plate
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 30.10.2024
Anhängig
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15.05.2025
Information processing method, information processing device, and computer program
Software & Datenverarbeitung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 01.11.2024
Anhängig
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15.05.2025
Substrate treatment apparatus, substrate treatment method, and computer-readable recording medium
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.10.2024
Anhängig
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15.05.2025
Film formation method and film formation device
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 25.10.2024
Anhängig
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15.05.2025
Substrate processing method, bonding system, and semiconductor device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.10.2024
Anhängig
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15.05.2025
Plasma evaluation system and plasma evaluation method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 28.10.2024
Anhängig
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15.05.2025
Film formation method and film formation device
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 25.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Electrostatic chuck, substrate processing apparatus, and substrate processing method
Elektrische Energietechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.06.2024
Anhängig
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08.05.2025
Plasma treatment device
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 18.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Computer program, information processing method, and information processing device
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 11.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Substrate processing device, abnormality detection method, and method for adjusting substrate processing device
Verfahrens- & Trenntechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Substrate processing apparatus and substrate processing method
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Semiconductor production device and installation method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 30.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Prediction system and mass production method
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 25.10.2024
Anhängig
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08.05.2025
Endpoint Detection in Dry Development Of Photoresist
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.09.2024
Anhängig
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01.05.2025
Substrate processing method and substrate processing system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 16.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Inspection method, inspection apparatus, and inspection system
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Plasma processing method and plasma processing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Substrate processing apparatus, temperature control apparatus, and temperature control method
Steuerungs- & Regelungstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Etching method and plasma treatment device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 10.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Plasma processing device
Elektronik & Schaltungstechnik
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Angemeldet am 10.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Silicide forming method and semiconductor manufacturing apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.08.2024
Anhängig
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01.05.2025
Conditioning method and plasma processing system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 09.10.2024
Anhängig
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01.05.2025
Film deposition method and film deposition device
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.10.2024
Anhängig
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Wer vertritt Tokyo Electron?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Electron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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