ASML Netherlands Patente
🇳🇱 Niederlande
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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390 gesamt| Patent | |||
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14.06.2023
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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19.10.2022
System und Verfahren zur Trennung eines Hauptimpuls- und Vorimpulsstrahls von einer Laserquelle
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 01.05.2013
Erteilt am 19.10.2022
Vertretung
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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19.01.2022
Messverfahren, Vorrichtung und Substrat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.10.2011
Erteilt am 19.01.2022
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
Zusammenfassung
A pattern (310, 610) is formed on a substrate (W) using a lithographic step (400). The pattern includes first and second sub-patterns (312, 316; 612, 616) positioned adjacent one another on the substrate and having respective first and second periodicities. The pattern is observed (402) to obtain a combined signal (403) which includes a beat component having a third periodicity at a frequency lower than that of the first and second periodicities. A measurement of performance of the lithographic process is determined (406) by reference to a phase of the beat component (405). Depending how the sub-patterns are formed, the performance parameter might be critical dimension (CD) or overlay, for example. For CD measurement, one of the sub-patterns may comprise marks each having of a portion sub-divided by product-like features. The measurement can be made using an existing alignment sensor of a lithographic apparatus. Sensitivity and accuracy of the measurement can be adjusted by selection of the first and second periodicities, and hence the third periodicity. |
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07.04.2021
Beleuchtungssystem und Lithographievorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.02.2011
Erteilt am 07.04.2021
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.01.2021
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.11.2011
Erteilt am 06.01.2021
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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15.04.2020
Verfahren und Systeme zur Inspektion von Gegenständen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.07.2010
Erteilt am 15.04.2020
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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04.03.2020
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.01.2011
Erteilt am 04.03.2020
Vertretung
Weenink, Willem · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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19.02.2020
Wärmekonditionierungssystem zur Wärmekonditionierung eines Teils einer lithografischen Vorrichtung und Wärmekonditionierungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.03.2012
Erteilt am 19.02.2020
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
Zusammenfassung
A two-phase thermal conditioning system for thermal conditioning a part (1) of a lithographic apparatus, includes an evaporator (3) to be positioned in thermal contact with the part of the lithographic apparatus for extracting heat from the part by evaporation of a fluid inside the evaporator; a condenser (5) to be positioned at a distance from the part of the lithographic apparatus for removing heat from the fluid inside the condenser by condensation of the fluid inside the condenser; fluid lines (7,8,9) arranged between the evaporator and the condenser to form a circuit in which fluid is able to flow; a pump (14) arranged in the circuit to circulate the fluid in the circuit; an accumulator (16) configured to hold fluid, wherein the accumulator is in fluid communication with the circuit and comprises a heat exchanger (18) to transfer heat from or to fluid inside the accumulator; a temperature sensor (23) configured to provide a measurement signal representative of the temperature of the fluid; and a controller (27) configured to maintain a substantially constant temperature of the fluid inside the circuit by regulating the amount of heat transferred by the heat exchanger from or to fluid inside the accumulator based on the measurement signal. |
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21.08.2019
Verfahren für Lpp-Gesteuerte Laserausgabe Während Nicht-Ultraviolettstrahlungs-Perioden
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 06.09.2011
Erteilt am 21.08.2019
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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07.08.2019
Lithografische Vorrichtung zur Übertragung von Mustern von einer Musterungsvorrichtung auf ein Substrat sowie Dämpfungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.09.2011
Erteilt am 07.08.2019
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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19.06.2019
Laserproduzierte Plasma-Euv-Lichtquelle
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 01.02.2008
Erteilt am 19.06.2019
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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08.05.2019
Inspektionsverfahren und -Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.12.2009
Erteilt am 08.05.2019
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
van de Ven, Jan-Piet · Eindhoven
van de Ven, Jan-Piet · Eindhoven
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03.04.2019
Beleuchtungssystem, Lithographievorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Beleuchtungsmodus
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 25.02.2010
Erteilt am 03.04.2019
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
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06.03.2019
Stromversorgung für eine Quelle von mittels Plasmaentladung Erzeugter Euv Strahlung
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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20.02.2019
Messvorrichtung für Lithographie und entsprechendes Messverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2006
Erteilt am 20.02.2019
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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31.10.2018
Gashandhabungssystem für eine Euv-Lichtquelle auf der Basis von Lasererzeugtem Plasma
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 15.08.2008
Erteilt am 31.10.2018
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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22.08.2018
Vorrichtung zur Euv-Plasmaquellen-Zielablieferung
Elektrische Energietechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.02.2006
Erteilt am 22.08.2018
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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08.08.2018
Lasererzeugte Plasma-Euv-Lichtquelle
Medizintechnik & Gesundheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.06.2008
Erteilt am 08.08.2018
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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13.06.2018
Strahlungsquelle und Lithografischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.07.2009
Erteilt am 13.06.2018
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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31.01.2018
Inspektionsverfahren für die Lithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.05.2010
Erteilt am 31.01.2018
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
van de Ven, Jan-Piet · Eindhoven
van de Ven, Jan-Piet · Eindhoven
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27.12.2017
Verwendung eines Interferometers als variabler Hochgeschwindigkeitsdämpfer
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.10.2007
Anhängig
Vertretung
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15.11.2017
Inspektionsgerät für die Lithographie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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13.09.2017
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.10.2004
Erteilt am 13.09.2017
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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30.08.2017
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.11.2011
Erteilt am 30.08.2017
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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30.08.2017
Elektromagnetisches Stellglied, Gestellvorrichtung und lithografische Vorrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.01.2012
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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23.08.2017
Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung eines lithografischen Gerätes
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.01.2011
Anhängig
Vertretung
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09.08.2017
Verfahren zur Bestimmung der Übertragungsverluste eines optischen Systems
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.06.2007
Erteilt am 09.08.2017
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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02.08.2017
Lasererzeugte Plasma-Euv-Lichtquelle
Medizintechnik & Gesundheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.03.2011
Erteilt am 02.08.2017
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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12.07.2017
Verfahren zur Messung des Fokus einer lithographischen Projektionsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.11.2008
Anhängig
Vertretung
Ketelaars, Maarten F.J.M · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
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12.04.2017
Kalkulation der Spektraleigenschaften eines Gepulsten Lichtstrahls
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.06.2015
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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15.03.2017
Strahlungsquelle
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 13.12.2011
Erteilt am 15.03.2017
Vertretung
Ketting, Alfred · Eindhoven
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
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22.02.2017
Strahlungssystem, Strahlungskollektor, System zur Konfiguration von Bestrahlungen, Spektralreinheitsfilter für ein Strahlungssystem und Verfahren zur Formung eines Spektralreinheitsfilters
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.05.2009
Erteilt am 22.02.2017
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
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08.02.2017
Messtechnik für Extreme Ultraviolette Lichtquelle
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 07.12.2010
Erteilt am 08.02.2017
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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01.02.2017
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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11.01.2017
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.03.2008
Erteilt am 11.01.2017
Vertretung
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14.12.2016
Strahlendetektor, Verfahren zur Herstellung eines Strahlendetektors und lithografische Vorrichtung mit einem Strahlendetektor
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 18.06.2008
Anhängig
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30.11.2016
Bestimmung der Form der Beleuchtungsquelle in optischer Lithographie
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 16.09.2011
Erteilt am 30.11.2016
Vertretung
Wauters, Davy Erik Angelo · Boortmeerbeek
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14.09.2016
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Positionsmessung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.09.2005
Erteilt am 14.09.2016
Vertretung
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
EP&C · Rijswijk
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07.09.2016
Lithografische Vorrichtung und Lithografisches Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.09.2009
Erteilt am 07.09.2016
Vertretung
Weenink, Willem · Veldhoven
Weenink, Willem · Veldhoven
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31.08.2016
Ansteuerungslaser für Euv-Lichtquelle
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 05.12.2008
Erteilt am 31.08.2016
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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Wer vertritt ASML Netherlands?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML Netherlands vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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