ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
5.380 gesamt| Patent | |||
|---|---|---|---|
|
09.10.2002
Lithographisches Herstellungsverfahren und lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 03.04.2002
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
02.10.2002
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
25.09.2002
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
25.09.2002
Positionierungssystem und lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 18.03.2002
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
18.09.2002
Bilderzeugungsverfahren mit Phasensprungstrukturen und Modifizierter Belichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 15.11.2000
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
28.08.2002
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 13.02.2002
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
28.08.2002
Bestimmung einer korrigierten Position aus einer gemessenen Position einer Ausrichtmarke
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 22.02.2002
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
14.08.2002
Messung der Wellenfrontaberrationen in einem lithographischen Projektionsapparat
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
14.08.2002
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Messung von Wellenfront-Aberrationen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 12.02.2002
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
31.07.2002
Maskenhandhabungsapparat für lithographische Projektionsapparate
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 13.04.2000
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
31.07.2002
Abnehmbare Membranabdeckung für eine Fotomaske, sowie eine Methode zu deren Einsatz
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 04.10.2000
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
24.07.2002
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 17.01.2002
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
17.07.2002
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 14.01.2002
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
05.06.2002
Methode und System zur Selektiven Optimilisierung der Linienbreite in einem Lithographischen Verfahren
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
08.05.2002
Gerät und Verfahren zur Bildeverbesserung durch Räumliche Filterung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 29.06.2000
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
08.05.2002
Flexible Piezoelektrische Haltevorrichtung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
10.04.2002
Lithographischer Projektionsapparat mit Spülgassystem und Verfahren unter Verwendung desselben
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 01.11.2000
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
06.03.2002
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 31.08.2001
Anhängig
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
06.02.2002
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 02.08.2001
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
09.01.2002
Lithographischer Apparat mit Spülgassystem
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 01.11.2000
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-Profil