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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
25.06.2003
Übertragung von Bewegung in eine Vakuumkammer hinein und deren Anwendung in lithographischen Projektionsapparaten
EP1052551
Optik & Fototechnik
25.06.2003
Integrierender Wellenleiter zur Verwendung in einem lithographischen Projektionsapparat
EP1058156
Optik & Fototechnik
25.06.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1321822
Optik & Fototechnik
18.06.2003
Substrathalter für einen lithographischen Apparat
EP1136887
Optik & Fototechnik
18.06.2003
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Computerprogramm
EP1319982
Optik & Fototechnik
11.06.2003
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, und Verfahren zur Herstellung eines optischen Elementes
EP1318431
Optik & Fototechnik
04.06.2003
Verfahren zum Beleuchten einer Fotomaske mit Chevron-Beleuchtung
EP1315996
Optik & Fototechnik
04.06.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1316850
Optik & Fototechnik
14.05.2003
Piezoelektrischer Aktor, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1311007
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.05.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1310828
Optik & Fototechnik
23.04.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1304597
Optik & Fototechnik
16.04.2003
Verfahren zur Charakterisierung Optischer Systeme unter Verwendung Holographischer Retikel
EP1301830
Optik & Fototechnik
12.03.2003
Gaslager zur Verwendung mit Vakuumkammern und deren Anwendung in lithographischen Projektionsapparaten
EP1052552
Optik & Fototechnik
26.02.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1286222
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
19.02.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1284444
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
22.01.2003
Lithographischer Apparat
EP1278103
Optik & Fototechnik
22.01.2003
Verkleinerndes Optisches System mit Beseitigung der durch Retikel-Beugung Erzeugten Verzerrung
EP1277088
Optik & Fototechnik
15.01.2003
Verringerung von Photoresist-Entgasungs-Effekten in der Vakuumlithographie
EP1275032
Optik & Fototechnik
15.01.2003
Scanning-Rahmenplattenvorrichtung
EP1275029
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
08.01.2003
Methode für eine Prozedur zur Anpassung der Schichtdicke Während eines Spin-Coating Verfahrens
EP1272902
Optik & Fototechnik
02.01.2003
Optische Korrektionsplatte und deren Verwendung in einem lithographischen Projektionsapparat
EP1022617
Optik & Fototechnik
02.01.2003
Anordnungen zum Antrieb einer Mehrzahl Trägerplatten und deren Anwendung in lithographischen Projektionsapparaten
EP1052550
Optik & Fototechnik
02.01.2003
Optisches Belichtungsverfahren und lithographischer Projektionsapparat
EP1256848
Optik & Fototechnik
02.01.2003
Verfahren und Maske für Projektionsbelichtung
EP1271247
Optik & Fototechnik
02.01.2003
Lithographischer Apparat
EP1271248
Optik & Fototechnik
11.12.2002
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und dabei erzeugter Artikel
EP1265104
Optik & Fototechnik
11.12.2002
Photolithographisches Abtastsysteme mit einem dynamischen einstellbaren Schlitz
EP1020769
Optik & Fototechnik
11.12.2002
Rezeptenkaskadierung in einem Halbleiterwaferbehandlungssystem
EP1264332
Steuerungs- & Regelungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.12.2002
Verfahren zur Temperaturreglung eines Substrats
EP1264003
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.12.2002
Bewegbare Stützvorrichtung in einer Vakuumkammer und deren Anwendung in einem lithographischen Projektionsapparat
EP1052549
Optik & Fototechnik
04.12.2002
Lithographischer Projektionsapparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und dabei erzeugter Artikel
EP1262832
Optik & Fototechnik
27.11.2002
Methode zur Herstellung eines Reflektors, Reflektor und Phasenverschiebungsmaske sowie Lithographiegerät
EP1260861
Optik & Fototechnik
27.11.2002
Ausrichtmarke
EP1260870
Optik & Fototechnik
27.11.2002
Substrat mit Ausrichtungsmarke in einer wesentlich transparenten Prozessschicht
EP1260869
Optik & Fototechnik
27.11.2002
In-Situ-Reiningung einer Lithographischen Maske
EP1259859
Optik & Fototechnik
13.11.2002
Verfahren zur Eichung eines lithographischen Apparats
EP1256843
Optik & Fototechnik
13.11.2002
Lithographischer Apparat
EP1256844
Optik & Fototechnik
13.11.2002
Verfahren zur Eichung eines lithographischen Apparats
EP1256849
Optik & Fototechnik
06.11.2002
Lithographischer Apparat
EP1255162
Optik & Fototechnik
30.10.2002
Brechungsindexsteuerung zur Einhaltung Optischer Abbildungsgenauigkeit
EP1252553
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
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1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
615
Elektronik & Schaltungstechnik
366
Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
Steuerungs- & Regelungstechnik
92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
Verfahrens- & Trenntechnik
55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35

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