Tokyo Electron Logo

Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414
Patente
2000–2024
Anmeldejahre
25
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

2.414 gesamt
Patent
16.11.2017
Critical dimension control by use of photo-sensitized chemicals or photo-sensitized chemically amplified resist
WO2017197279
Optik & Fototechnik
02.11.2017
Method for patterning a substrate using a layer with multiple materials
WO2017189993
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.11.2017
Development method, development device, and recording medium
WO2017187951
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.11.2017
Plasma treatment apparatus
WO2017188029
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
26.10.2017
Plasma treatment device maintenance method
WO2017183507
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
26.10.2017
Processing device maintenance control method and control device
WO2017183504
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.10.2017
Temperature measurement substrate and temperature measurement system
WO2017183471
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
26.10.2017
Plasma treatment device
WO2017183506
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
19.10.2017
Substrate processing method and substrate processing device
WO2017179333
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.10.2017
Method for patterning a substrate using a layer with multiple materials
WO2017181057
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.10.2017
Process and apparatus for processing a nitride structure without silica deposition
WO2017172533
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.10.2017
Colloidal silica growth inhibitor and associated method and system
WO2017172532
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
05.10.2017
Method for processing object to be processed
WO2017170411
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
05.10.2017
Malfunction detection system and control board
WO2017169804
Metallurgie & Oberflächentechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
05.10.2017
Plasma electrode and plasma processing device
WO2017169556
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.10.2017
Method for processing object to be processed
WO2017170405
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
05.10.2017
Controlling dry etch process characteristics using waferless dry clean optical emission spectroscopy
WO2017172536
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
05.10.2017
Substrate liquid processing device, substrate liquid processing method, and computer-readable storage medium having substrate liquid processing program stored therein
WO2017169155
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.10.2017
Test head turning mechanism and inspection device
WO2017169270
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.10.2017
Substrate transporting method and substrate processing system
WO2017169495
Verpackungs- & Fördertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
28.09.2017
Method for manufacturing semiconductor device
WO2017163438
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.09.2017
Substrate cleaning apparatus
WO2017163633
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.09.2017
System and method for temperature control in plasma processing system
WO2017165550
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.09.2017
Substrate processing device, substrate processing method, and computer-readable recording medium
WO2017158955
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.09.2017
Method for aligning chip components relative to substrate by using liquid
WO2017159401
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.09.2017
Chemische Dampfablagerungsverfahren
EP2412011
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.09.2017
Article having surface treatment layer, method for manufacturing same, and device for manufacturing same
WO2017154594
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
08.09.2017
Substrate treatment device, substrate treatment method, and storage medium
WO2017150038
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.09.2017
Selective Siarc Removal
WO2017151383
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.09.2017
Trim method for patterning during various stages of an integration scheme
WO2017151622
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.09.2017
Isotropic silicon and silicon-germanium etching with tunable selectivity
WO2017151958
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.08.2017
Substrate processing method, substrate processing device and computer-readable recording medium
WO2017145840
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
31.08.2017
Poly-Phased Inductively Coupled Plasma Source
WO2017146909
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.08.2017
Method and system for atomic layer etching
WO2017147254
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.08.2017
Photo-Sensitized Chemically Amplified Resist (ps-Car) Simulation
WO2017143163
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.08.2017
Substrate treatment method
WO2017141773
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.08.2017
Photo-Sensitized Chemically Amplified Resist (ps-Car) Model Calibration
WO2017143166
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.08.2017
Ruthenium metal deposition method for electrical connections
WO2017143180
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.08.2017
Trimming inorganic resists with selected etchant gas mixture and modulation of operating variables
WO2017142708
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.08.2017
Method and apparatus for multi-film deposition and etching in a batch processing system
WO2017139483
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Wer vertritt Tokyo Electron?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Electron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

Zum Anmelder-Profil

Technologiefelder

Halbleiter & Elektrische Bauelemente
2.007
Metallurgie & Oberflächentechnik
651
Elektronik & Schaltungstechnik
322
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
211
Optik & Fototechnik
172
Verfahrens- & Trenntechnik
139
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
54
Software & Datenverarbeitung
50
Steuerungs- & Regelungstechnik
48
Verpackungs- & Fördertechnik
44
Pharma & Biotechnologie
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
28

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen