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Tokyo Ohka Kogyo Patente

🇯🇵 Japan

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

927 gesamt
Patent
12.12.2007
Lichtempfindliche Laminierte Original-Druckplatte für den Buchdruck und Prozess zur Herstellung einer Buchdruck-Druckplatte unter Verwendung der Lichtempfindlichen Laminierten Original-Druckplatte
Optik & Fototechnik
12.12.2007
Positiv-Fotoresistzusammensetzung, Dickfilm-Fotoresistlaminat, Verfahren zur Erzeugung einer Dickfilm-Resiststruktur und Verfahren zur Erzeugung eines Verbindungsanschlusses
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.12.2007
Method for reducing thickness of substrate, lamination system, and substrate thickness reduction system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.12.2007
Positive resist composition and method of forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.12.2007
Resist composition for immersion exposure, and method for formation of resist pattern
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie
06.12.2007
Positive resist composition and method for formation of resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.12.2007
Paste composition and plasma display panel
Kunststoff- & Polymertechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.12.2007
Zersetzbare Zusammensetzung und Verwendungsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
29.11.2007
Positive resist composition for immersion exposure and method of forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.10.2007
Method for separating support plate
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.10.2007
Preliminary discharge device and preliminary discharge method
Verfahrens- & Trenntechnik
18.10.2007
Process for producing resin for semiconductor lithography
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
11.10.2007
Composition for under-resist film and under-resist film using same
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.10.2007
Method of washing slit nozzle
Verfahrens- & Trenntechnik
04.10.2007
Composition for forming silica coating and silica coating
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
04.10.2007
Composition for forming silica coating and silica coating
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
03.10.2007
Lösungsmittel zur Reinigung einer Halbleiterproduktionsanlage
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
03.10.2007
Material zur Bildung von Resistschutzfilmen und Verfahren zur Resiststrukturausbildung damit
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
27.09.2007
Method for forming thick resist film and method for forming resist pattern
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
27.09.2007
Positive resist composition for formation of thick resist film, thick resist laminate, and method for formation of resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.09.2007
Photosensitive original printing plate for letterpress printing, composition for forming ink-receiving layer used therefor, and method for producing letterpress printing plate
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
20.09.2007
Slit nozzle cleaning apparatus
Verfahrens- & Trenntechnik
20.09.2007
Composition for resist underlayer film, and resist underlayer film using the same
Optik & Fototechnik
13.09.2007
Positive resist composition and method for forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.09.2007
Liquid crystal panel cleaning agent and method for manufacturing liquid crystal panel comprising cleaning step using such cleaning agent
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik
12.09.2007
Reinigungsflüssigkeit für die Lithographie und Verfahren zur Resiststrukturausbildung
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.09.2007
Resistzusammensetzung für Flüssigkeitsimmersions-Belichtung und Verfahren zur Resiststrukturerzeugung
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.08.2007
Method for manufacturing organic semiconductor device and composition for forming insulating film used therein
Kunststoff- & Polymertechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
30.08.2007
Cleaning liquid for lithography and cleaning method using same
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.08.2007
Resist composition for immersion lithography and method for formation of resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.08.2007
Photosensitive resin composition and pattern forming method using same
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.08.2007
Strukturierungsmethode beinhaltend eine Resistzusammensetzung und einen überkritischen Entwicklungsschritt
Optik & Fototechnik
16.08.2007
Method for producing film-forming material
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik
15.08.2007
Fotoresistzusammensetzung mit Chemischer Verstärkung, Fotoresistschichtlaminat, Verfahren zur Herstellung einer Fotoresistzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung einer Fotoresiststruktur und Verfahren zur Herstellung eines Verbindungsanschlusses
Optik & Fototechnik
09.08.2007
Fluid Container
Verpackungs- & Fördertechnik
09.08.2007
Joint for fluid container
Verpackungs- & Fördertechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik
09.08.2007
Positive resist composition for forming thick resist film, object coated with thick resist, and method of forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.08.2007
Beschichtungsverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterelements unter Verwendung des Beschichtungsverfahrens
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.08.2007
Positive resist composition for immersion exposure and method of forming resist pattern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.08.2007
Method of forming multilayered spin-on-glass film
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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