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Advanced Technology Materials Patente

🇺🇸 USA

Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

458
Patente
2000–2024
Anmeldejahre
21
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

458 gesamt
Patent
17.07.2003
Supercritical fluid cleaning of semiconductor substrates
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
17.07.2003
System and method of processing composite substrate within a high throughput reactor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.07.2003
Supercritical fluid-assisted deposition of materials on semiconductor substrates
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.07.2003
Processes for cleaning semiconductor equipment parts
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
17.07.2003
System and methods for analyzing copper chemistry
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
17.07.2003
Analysis of antioxidant in solder plating solutions using molybdenum dichloride dioxide
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
26.06.2003
Method for removal of impurities in cyclic siloxanes useful as precursors for low dielectric constant thin films
Kunststoff- & Polymertechnik
26.06.2003
Channelized sorbent media, and methods of making same
Verfahrens- & Trenntechnik
19.06.2003
Compositions containing 1,3-dicarbonyl chelating agents for stripping residues from semiconductors
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
28.05.2003
Indium-Galliumnitridkanaltransistoren mit Hoher Elektronenmobilität
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.05.2003
Reagenzzusammensetzung und Verfahren zur Bildung von Metallschichten auf Substraten mittels Chemischer Gasphasenabscheidung
Organische Chemie
22.05.2003
Fluid storage and delivery system utilizing low heels carbon sorbent medium
Verfahrens- & Trenntechnik
15.05.2003
Method and apparatus for monitoring control and analysis of independent systems in a manufacturing facility
Software & Datenverarbeitung
08.05.2003
A system and method for detecting hydride gases at low concentrations and in the presence of varying humidity levels
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
02.05.2003
Elektrisch Löschbarer Programmierbarer Nur-Lese-Speicher mit Programmierung und Löschung mit Verringerter Seitengrösse
Akustik, Musik & Datenspeicherung
01.05.2003
Improved Post Plasma Ashing Wafer Cleaning Formulation
Verfahrens- & Trenntechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
01.05.2003
Preparation of high performance silica slurry using a centrifuge
Medizintechnik & Gesundheit
16.04.2003
Luftbehandlungssystem und Verfahren zur Chemischen Eindämmung und Reduzierung von Verunreinigungen in einen Halbleiterproduktionsanlage
Verfahrens- & Trenntechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
06.03.2003
Abrasive free formulations for chemical mechanical polishing of copper and assocated materials and method of using the same
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.03.2003
Abgabesystem mit Innen Angeordneter und von Aussen Verstellbarer Reguliereinrichtung
Verpackungs- & Fördertechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik
05.03.2003
Verminderung von Datenabhdngigem Stromversorgungsrauschen Beim Lesen des Zustands einer Speicherzelle
Akustik, Musik & Datenspeicherung
27.02.2003
Improved chemical mechanical polishing compositions for metal and associated materials and method of using same
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
26.02.2003
Gasgehäuseaufbau, Bestehend aus Sorbensbasierter Gasspeicherung und Verteilsystem
Verfahrens- & Trenntechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik
20.02.2003
Dünne Dielektrische Filme mit Niedrigem K und Verfahren zu Ihrer Herstellung durch Chemische Aufdampfung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.02.2003
Interference Correction Of Additives Concentration Measurements in Metal Electroplating Solutions
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
05.02.2003
Verfahren und Vorrichtung zur Erkennung eines Manipulationszustands und zur Isolation einer Schaltung davon
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
15.01.2003
Vorrichtung und Verfahren zur Behandlung von Fluor Enthaltenden Abwässern aus der Halbleiterproduktion
Verfahrens- & Trenntechnik
02.01.2003
Kammerreinigungsmechanismus
Verfahrens- & Trenntechnik
19.12.2002
Liquid handling system with electronic information storage
Verpackungs- & Fördertechnik
14.11.2002
Barrier structures for integration of high k oxides with cu and ai electrodes
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.10.2002
In-Situ-Oxydationsbehandlung mit Luft von Rückständen aus der Dampfphasen-Metalloxid-Beschichtung
Verfahrens- & Trenntechnik
25.09.2002
Flüssigkeitsabgabe Mocvd oder Sbt
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
19.09.2002
Thermal regulation of an ion implantation system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.09.2002
Improved double chamber ion implantation system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.09.2002
Reduzierung der Abgase von Cvd-Prozessen unter Verwendung von Metall-Organischen Reagentien
Verfahrens- & Trenntechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
28.08.2002
Optischer Detektor für Wasserstoff
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
22.08.2002
Atmospheric pressure plasma enhanced abatement of semiconductor process effluent species
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.08.2002
Zusammensetzung und Verfahren zur Cvd-Abscheidung von Zr/hf-Silikatfilmen
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
14.08.2002
Reduzierung der Abgase von Cvd-Prozessenunter Verwendung von Ligand-Austausch-Resistenten Metall-Organischen Vorläuferlösungen
Metallurgie & Oberflächentechnik
01.08.2002
Non-plasma $m(f)i$m(g)in situ$m(f)/i$m(g) cleaning of processing chambers using static flow methods
Verfahrens- & Trenntechnik

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