ASML Netherlands Logo

ASML Netherlands Patente

🇳🇱 Niederlande

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

390
Patente
2000–2020
Anmeldejahre
16
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

390 gesamt
Patent
08.07.2010
Method of determining a characteristic
Optik & Fototechnik
01.07.2010
A lithographic apparatus, a radiation system, a device manufacturing method and a debris mitigation method
Optik & Fototechnik
24.06.2010
Calibration method, inspection method and apparatus, lithographic apparatus, and lithographic processing cell
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
23.06.2010
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Bestrahlung von mindestens zwei Zielabschnitten
Optik & Fototechnik
23.06.2010
Methode und Apparat zur Messung der Position eines Objekts
Optik & Fototechnik
21.04.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
15.04.2010
Lithographic focus and dose measurement using a 2-d target
Optik & Fototechnik
08.04.2010
Method and system for determining a lithographic process parameter
Optik & Fototechnik
08.04.2010
Projection system and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
01.04.2010
Lithographic system, lithographic method and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
18.03.2010
Radiation system and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
11.03.2010
A substrate, a method of measuring a property, an inspection apparatus and a lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
10.03.2010
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
04.03.2010
Spectral purity filter, lithographic apparatus including such a spectral purity filter and device manufacturing method
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
04.03.2010
Spectral purity filter and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
25.02.2010
A method of measuring overlay error and a device manufacturing method
Optik & Fototechnik
25.02.2010
Projection system, lithographic apparatus, method of projecting a beam of radiation onto a target and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
25.02.2010
Inspection method and apparatus, and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
24.02.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zum Kalibrieren desselben
Optik & Fototechnik
18.02.2010
Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
18.02.2010
Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
18.02.2010
Mirror, lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
04.02.2010
Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
04.02.2010
Alignment of collector device in lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
28.01.2010
Sub-Wavelength Segmentation in Measurement Targets On Substrates
Optik & Fototechnik
28.01.2010
Optical element mount for lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
21.01.2010
Method for removing a deposition on an uncapped multilayer mirror of a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
21.01.2010
Alignment system, lithographic system and method
Optik & Fototechnik
21.01.2010
Scatterometry method and measurement system for lithography
Optik & Fototechnik
13.01.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
13.01.2010
Lithografische Vorrichtung und Positionierungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
23.12.2009
Particle cleaning of optical elements for microlithography
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
17.12.2009
Apparatus and method for inspecting a substrate
Optik & Fototechnik
17.12.2009
Method and system for thermally conditioning an optical element
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.12.2009
Inspection method and apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
09.12.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.12.2009
Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.12.2009
Verfahren zur Bestimmung von Defekten in einem Substrat und Vorrichtung zur Belichtung eines Substrats in einem lithographischen Verfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
02.12.2009
Lithographische Vorrichtung und Betriebsverfahren für die Vorrichtung
Optik & Fototechnik
26.11.2009
Aqueous curable imprintable medium and patterned layer forming method
Optik & Fototechnik

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen