ASML Netherlands Patente
🇳🇱 Niederlande
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390
Patente
2000–2020
Anmeldejahre
16
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
390 gesamt| Patent | |||
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19.11.2009
Inspection apparatus for lithography
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.04.2009
Anhängig
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05.11.2009
Support structure, inspection apparatus, lithographic apparatus and methods for loading and unloading substrates
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.04.2009
Anhängig
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22.10.2009
Inspection apparatus for lithography
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.04.2009
Anhängig
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14.10.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.03.2009
Anhängig
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
Weenink, Willem · Veldhoven
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
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02.09.2009
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren für ein Halbleiterbauelement
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 13.02.2008
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
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19.08.2009
Polarisierte Strahlung in einem lithografischen Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2005
Erteilt am 19.08.2009
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Roberts, Peter David · Manchester
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19.08.2009
Lithographieapparat und Verfahren zum Aufbereiten eines Innenraums eines Gerätes zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.09.2006
Erteilt am 19.08.2009
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Loon, C.J.J · Den Haag
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15.07.2009
Verfahren zur Oberflächenreinigung, Geräteherstellungsverfahren, Reinigungsanordnung, Reinigungsgerät und Lithografiegerät
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 16.04.2007
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Loon, C.J.J · Den Haag
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15.07.2009
System und Verfahren zum Ausgleich kritischer Dimensionsungleichförmigkeit in einem Lithographiesystem
Optik & Fototechnik
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24.06.2009
Lithografische Immersionsvorrichtung und Geräteherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.12.2008
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
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13.05.2009
Verfahren zum Herstellen eines Substrats für die Lithografie, Substrat, Vorrichtungsherstellungsverfahren, Aufbringer für die Isolierbeschichtung und Messvorrichtung für die Isolierbeschichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2008
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Jackson, Martin Peter · London
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01.04.2009
Lithografische Vorrichtung mit Lorentz-Aktuator und Verbundstoffträger
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 25.09.2008
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Riemens, Roelof Harm · Rijswijk
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11.03.2009
Lithographischer Apparat, Vorrichtung für den Wechsel einer Fotomaske und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.12.2005
Erteilt am 11.03.2009
Vertretung
Weenink, Willem · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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14.01.2009
Substrate und Verfahren zur Verwendung der Substrate
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.07.2008
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Roberts, Peter David · Manchester
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26.11.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.10.2005
Erteilt am 26.11.2008
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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26.11.2008
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2005
Erteilt am 26.11.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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19.11.2008
Verschiebungsmesssystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 09.03.2007
Erteilt am 19.11.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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29.10.2008
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.12.2004
Erteilt am 29.10.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Winckels, J.H.F., Mr. Ir · Den Haag
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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08.10.2008
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 28.03.2008
Anhängig
Vertretung
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27.08.2008
Lithografische Vorrichtung, Kontaminantfalle und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.07.2006
Erteilt am 27.08.2008
Vertretung
van Loon, C.J.J · Den Haag
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
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13.08.2008
Optischer Abschwächer, Strahlsystem, damit ausgerüsteter lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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09.07.2008
Mikrobauteile mit Kontakthöckern auf zwei Seiten und Herstellungsverfahren dafür
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.09.2006
Anhängig
Vertretung
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02.07.2008
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.01.2002
Erteilt am 02.07.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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18.06.2008
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2005
Erteilt am 18.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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18.06.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2006
Erteilt am 18.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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18.06.2008
Lithographische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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18.06.2008
Verfahren zur Herstellung von optimierten Sollwertdaten in einem maskenlosen Lithographiesystem und entsprechendes Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.12.2007
Anhängig
Vertretung
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11.06.2008
Substratträger und lithographisches Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.12.2007
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Hatzmann, Martin · Den Haag
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16.04.2008
Verfahren, Ausrichtungsmarkierung und Nutzung eines harten Maskenmaterials
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.10.2007
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Ketelaars, Maarten F.J.M · Den Haag
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19.03.2008
Systeme und Verfahren zum Ablenken von Plasmaerzeugten Ionen, um zu Verhindern, Dass die Ionen eine Innere Komponente einer Euv-Lichtquelle Erreichen
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 25.05.2006
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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27.02.2008
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren unter Verwendung von interferometrischen und maskenlosen Belichtungseinheiten
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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13.02.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.11.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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30.01.2008
Lithographische Vorrichtung, Verfahren zur Kalibrierung einer lithographischen Vorrichtung und Geräteherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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23.01.2008
Abgabevorrichtung für ein bedruckbares Medium
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2007
Anhängig
Vertretung
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23.01.2008
Lithographische Vorrichtung, Aberrationskorrekturgerät und Herstellungsverfahren für eine Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.07.2007
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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26.12.2007
Sensor zur Verwendung in einer lithografischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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19.12.2007
Wellenfrontsensor mit Graufilter und damit versehene Lithographievorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.06.2007
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Ketelaars, Maarten F.J.M · Den Haag
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05.12.2007
Messwerkzeug, System mit einer lithographischen Vorrichtung und einem Messwerkzeug und Verfahren zum Bestimmen eines Parameters eines Substrats
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.05.2007
Anhängig
Vertretung
Riemens, Roelof Harm · Rijswijk
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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28.11.2007
Verfahren zur Ausrichtung und Belichtung eines Substrats
Optik & Fototechnik
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21.11.2007
Kennzeichnungsverfahren für ein Substrat, Verfahren zur Kennzeichnung eines Arbeitsganges, Geräteherstellungsverfahren und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML Netherlands?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML Netherlands vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
351
Elektronik & Schaltungstechnik
44
Elektrische Energietechnik
37
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
34
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
33
Medizintechnik & Gesundheit
6
Verfahrens- & Trenntechnik
5
Anorganische Chemie & Werkstoffe
4
Kunststoff- & Polymertechnik
3
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
3
Steuerungs- & Regelungstechnik
3
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
2