Canon Anelva Patente
🇯🇵 Japan
Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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421 gesamt| Patent | |||
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06.02.2008
Prozess zur Herstellung einer Siliziumverbindung
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.05.2006
Anhängig
Vertretung
Brown, Kenneth Richard · London
Hoffmann Eitle · München
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23.01.2008
Ätzverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Dielektrischen Films mit Niedriger Dielektrizitätskonstante, Verfahren zur Herstellung eines Porösen Gliedes, Ätzsystem und Dünnfilm-Bildungsgeräte
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.04.2006
Anhängig
Vertretung
Brown, Kenneth Richard · London
Hoffmann Eitle · München
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10.01.2008
Substrate tray and film forming apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 04.07.2007
Anhängig
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10.01.2008
Plasma film deposition system and method for producing film
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 04.07.2007
Anhängig
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20.09.2007
Magnetoresistive effect thin-film magnetic head and method for fabricating same
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 23.02.2007
Anhängig
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30.08.2007
Rapid Heat Treatment Equipment
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.02.2006
Anhängig
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25.07.2007
Substrathalte-/-Transferlade
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 18.10.2005
Anhängig
Vertretung
Novagraaf Technologies · Asnières-sur-Seine
Novagraaf IP · Paris
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03.05.2007
Sheet-like plasma generator, and film deposition method and equipment employing such sheet-like plasma generator
Metallurgie & Oberflächentechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.10.2006
Anhängig
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01.02.2007
Vacuum processing apparatus, semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing system
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 25.07.2006
Anhängig
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24.08.2006
Hydrogen atom generation source in vacuum treatment apparatus, and hydrogen atom transportation method
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.07.2005
Anhängig
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02.08.2006
Verfahren zur Reinigung von Cvd-Einrichtungen und Reinigungsgerät dafür
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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11.01.2006
Verfahren zur Herstellung von Metallschichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.10.2002
Anhängig
Vertretung
Brown, Kenneth Richard · London
Hoffmann Eitle · München
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11.01.2006
Vorrichtung und Methode zur Herstellung von Barriereschichten für Metalle sowie Vorrichtung und Methode zur Herstellung von Metallschichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.10.2002
Anhängig
Vertretung
Brown, Kenneth Richard · London
Hoffmann Eitle · München
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11.01.2006
Verfahren zur Herstellung von Metallschichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.10.2002
Anhängig
Vertretung
Brown, Kenneth Richard · London
Hoffmann Eitle · München
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21.09.2005
Vakuumbehandlungsvorrichtung mit Gasverteilungskopf
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.03.2005
Anhängig
Vertretung
Breesé, Pierre · Levallois-Perret
Novagraaf Technologies · Asnières-sur-Seine
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26.01.2005
Verfahren zum Trockenätzen von magnetischen Materialen
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 26.07.2004
Anhängig
Vertretung
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29.09.2004
Herstellungsverfahren von Schichten aus Metalloxiden auf eine Substratoberfläche
Metallurgie & Oberflächentechnik
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07.01.2004
Vorrichtung und Methode zur Herstellung von Barriereschichten für Metalle sowie Vorrichtung und Methode zur Herstellung von Metallschichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.10.2002
Anhängig
Vertretung
Brown, Kenneth Richard · London
Hoffmann Eitle · München
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27.08.2003
Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines metallischen Films
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 29.01.2003
Anhängig
Vertretung
Brown, Kenneth Richard · London
Hoffmann Eitle · München
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21.05.2003
CVD-Heizelementsystem und Methode zu dessen Verwendung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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24.04.2002
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Metallfilms
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.03.2001
Anhängig
Vertretung
Brown, Kenneth Richard · London
Hoffmann Eitle · München
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Wer vertritt Canon Anelva?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Canon Anelva vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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