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Nippon Mining & Metals Patente

🇯🇵 Japan

Nippon Mining & Metals war ein japanisches Unternehmen für Metallverarbeitung und Halbleitermaterialien, heute Teil von JX Nippon Mining & Metals. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2010 und betreffen unter anderem Kupferfolienverbundstoffe.

291
Patente
2000–2010
Anmeldejahre
11
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

291 gesamt
Patent
08.09.2010
Verfahren zum Abtrennen von Ruthenium aus Edelmetalle der Platingruppe enthaltenden Lösungen
Verfahrens- & Trenntechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
01.09.2010
Verfahren zur Herstellung eines Pulvers aus Ammoniumhexachlororuthenat und Ruthenium sowie von Ammoniumhexachlororuthenat
Anorganische Chemie & Werkstoffe
01.09.2010
Hochreines Lanthan, Sputtering-Target mit dem Hochreinen Lanthan sowie Hauptsächlich aus dem Hochreinen Lanthan Bestehender Metall-Gate-Film
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.08.2010
Hauptsächlich aus Titanoxid Bestehender Dünnfilm, Gesintertes Sputtertarget zur Herstellung eines Hauptsächlich aus Titanoxid Bestehenden Dünnfilms und Verfahren zur Herstellung eines Hauptsächlich aus Titanoxid Bestehenden Dünnfilms
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
18.08.2010
Verfahren zur Herstellung von Metall mit Höherem Reinheitsgrad
Metallurgie & Oberflächentechnik
04.08.2010
Sputtertarget, Optisches Informationsaufzeichnungsmedium und Herstellungsverfahren dafür
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
07.07.2010
Kupferelektrolyselösung und damit Hergestellte Elektrolytkupferfolie
Metallurgie & Oberflächentechnik
26.05.2010
Trägerplattenanordnung für Sputtertargets und Filmabscheidungssystem
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.05.2010
Hochreines Hafniummaterial, Targetdünnfilm daraus und Verfahren zur Herstellung von Hochreinem Hafnium
Metallurgie & Oberflächentechnik
28.04.2010
Verfahren zur Herstellung von Verbindungshalbleiter-Einkristallen und Kristallziehvorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
07.04.2010
Pulver auf Sb-Te Basierender Legierung zum Sintern und ein durch Sintern des Pulvers Hergestelltes Gesintertes Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung des Pulvers auf Sb-Te Basierender Legierung zum Sintern
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
07.04.2010
Tieftopfgeformtes Kupfersputtertarget
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.04.2010
Lithium-Mangan-Doppeloxid für Lithium-Ionen-Batterien und Verfahren zur Herstellung des Doppeloxids
Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.04.2010
Verbundoxidsinter, Verfahren zur Herstellung eines Amorphen Verbundoxidfilms, Verfahren zur Herstellung eines Kristallinen Verbundoxidfilms und Kristalliner Verbundoxidfilm
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
31.03.2010
Target aus Hochreiner Nickellegierung und dessen Herstellungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
31.03.2010
Sputtertarget und dessen Herstellungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik
31.03.2010
Gesinterter Siliciumwafer
Anorganische Chemie & Werkstoffe
31.03.2010
Gesinterter Silicium-Wafer
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.03.2010
Optischer Datenträger und Sputter-Target für eine Cu-Legierungs-Aufzeichnungsschicht
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
20.01.2010
Behandlungsmittel für Metalloberflächen und damit Beschichtete Metallische Materialien
Metallurgie & Oberflächentechnik
16.12.2009
Substrat für Epitaktisches Aufwachsen und Verfahren zur Herstellung eines Nitridverbindungshalbleiter-Einkristalls
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.12.2009
Methode zur Herstellung von Ito-Pulver mit in Indiumoxid Gelöstem Zinn und Verfahren zur Herstellung eines Ito-Targets
Anorganische Chemie & Werkstoffe
09.12.2009
Salzzusammensetzung, enthaltend ein Basisches Silankupplungsreagens und eine Organische Carbonsäure, Verfahren zur Herstellung der Salzzusammensetzung und Epoxyharzzusammensetzungen, die Diese Enthalten
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie
25.11.2009
Topfgeformtes Kupfersputtertarget
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.11.2009
Substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.11.2009
Hochreines Kupfersulfat und Herstellungsverfahren dafür
Anorganische Chemie & Werkstoffe
21.10.2009
Verfahren zur Rückgewinnung von Wertmetall aus Schrott, der ein Elektrisch Leitfähiges Oxid Enthält
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.10.2009
Tinned copper alloy bar with excellent abrasion resistance, insertion properties, and heat resistance
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.10.2009
Low Particulate-Generating Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.10.2009
Cu-ni-si alloy for electronic materials
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.10.2009
Cu-ni-si-co copper alloy for electronic material and process for producing the same
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.10.2009
Tin-plated cu-ni-si alloy strip with excellent unsusceptibility to thermal tin deposit peeling
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.10.2009
Cu-ni-si-co-cr alloy for electronic material
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.10.2009
Cu-Ni-Si Alloy To Be Used in Electrically Conductive Spring Material
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.10.2009
Salzzusammensetzung mit Organischer Carbonsäure, Verfahren zu deren Herstellung und Additive für Epoxyharze
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie
01.10.2009
Sputtering target of nonmagnetic-in-ferromagnetic dispersion type material
Metallurgie & Oberflächentechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
01.10.2009
Sintered Silicon Wafer
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
01.10.2009
Platinum powder for magnetic material target, method for producing the powder, method for producing magnetic material target composed of platinum sintered compact, and the sintered magnetic material target
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
30.09.2009
Verfahren zur Metallabscheidung und Vorbehandlungsmittel
Metallurgie & Oberflächentechnik
24.09.2009
Electrolytic solution for producing electrolytic copper foil
Metallurgie & Oberflächentechnik

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