Nippon Mining & Metals Patente
🇯🇵 Japan
Nippon Mining & Metals war ein japanisches Unternehmen für Metallverarbeitung und Halbleitermaterialien, heute Teil von JX Nippon Mining & Metals. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2010 und betreffen unter anderem Kupferfolienverbundstoffe.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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291 gesamt| Patent | |||
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08.09.2010
Verfahren zum Abtrennen von Ruthenium aus Edelmetalle der Platingruppe enthaltenden Lösungen
Verfahrens- & Trenntechnik
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 09.05.2007
Erteilt am 08.09.2010
Vertretung
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01.09.2010
Verfahren zur Herstellung eines Pulvers aus Ammoniumhexachlororuthenat und Ruthenium sowie von Ammoniumhexachlororuthenat
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 28.01.2008
Erteilt am 01.09.2010
Vertretung
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01.09.2010
Hochreines Lanthan, Sputtering-Target mit dem Hochreinen Lanthan sowie Hauptsächlich aus dem Hochreinen Lanthan Bestehender Metall-Gate-Film
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 31.10.2008
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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25.08.2010
Hauptsächlich aus Titanoxid Bestehender Dünnfilm, Gesintertes Sputtertarget zur Herstellung eines Hauptsächlich aus Titanoxid Bestehenden Dünnfilms und Verfahren zur Herstellung eines Hauptsächlich aus Titanoxid Bestehenden Dünnfilms
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 09.12.2008
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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18.08.2010
Verfahren zur Herstellung von Metall mit Höherem Reinheitsgrad
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 06.02.2001
Erteilt am 18.08.2010
Vertretung
Meddle, Alan Leonard · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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04.08.2010
Sputtertarget, Optisches Informationsaufzeichnungsmedium und Herstellungsverfahren dafür
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 03.03.2005
Erteilt am 04.08.2010
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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07.07.2010
Kupferelektrolyselösung und damit Hergestellte Elektrolytkupferfolie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.10.2003
Erteilt am 07.07.2010
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26.05.2010
Trägerplattenanordnung für Sputtertargets und Filmabscheidungssystem
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 14.10.2005
Erteilt am 26.05.2010
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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05.05.2010
Hochreines Hafniummaterial, Targetdünnfilm daraus und Verfahren zur Herstellung von Hochreinem Hafnium
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 15.04.2004
Erteilt am 05.05.2010
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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28.04.2010
Verfahren zur Herstellung von Verbindungshalbleiter-Einkristallen und Kristallziehvorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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07.04.2010
Pulver auf Sb-Te Basierender Legierung zum Sintern und ein durch Sintern des Pulvers Hergestelltes Gesintertes Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung des Pulvers auf Sb-Te Basierender Legierung zum Sintern
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 29.11.2005
Erteilt am 07.04.2010
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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07.04.2010
Tieftopfgeformtes Kupfersputtertarget
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.02.2006
Erteilt am 07.04.2010
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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07.04.2010
Lithium-Mangan-Doppeloxid für Lithium-Ionen-Batterien und Verfahren zur Herstellung des Doppeloxids
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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07.04.2010
Verbundoxidsinter, Verfahren zur Herstellung eines Amorphen Verbundoxidfilms, Verfahren zur Herstellung eines Kristallinen Verbundoxidfilms und Kristalliner Verbundoxidfilm
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 04.07.2008
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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31.03.2010
Target aus Hochreiner Nickellegierung und dessen Herstellungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 28.11.2002
Erteilt am 31.03.2010
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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31.03.2010
Sputtertarget und dessen Herstellungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 03.02.2004
Erteilt am 31.03.2010
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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31.03.2010
Gesinterter Siliciumwafer
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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31.03.2010
Gesinterter Silicium-Wafer
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.07.2008
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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03.03.2010
Optischer Datenträger und Sputter-Target für eine Cu-Legierungs-Aufzeichnungsschicht
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 07.04.2006
Erteilt am 03.03.2010
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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20.01.2010
Behandlungsmittel für Metalloberflächen und damit Beschichtete Metallische Materialien
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 27.08.2001
Erteilt am 20.01.2010
Vertretung
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16.12.2009
Substrat für Epitaktisches Aufwachsen und Verfahren zur Herstellung eines Nitridverbindungshalbleiter-Einkristalls
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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09.12.2009
Methode zur Herstellung von Ito-Pulver mit in Indiumoxid Gelöstem Zinn und Verfahren zur Herstellung eines Ito-Targets
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 19.12.2001
Erteilt am 09.12.2009
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Meddle, Alan Leonard · München
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09.12.2009
Salzzusammensetzung, enthaltend ein Basisches Silankupplungsreagens und eine Organische Carbonsäure, Verfahren zur Herstellung der Salzzusammensetzung und Epoxyharzzusammensetzungen, die Diese Enthalten
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 27.08.2002
Erteilt am 09.12.2009
Vertretung
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25.11.2009
Topfgeformtes Kupfersputtertarget
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.02.2006
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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19.11.2009
Substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.05.2009
Anhängig
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11.11.2009
Hochreines Kupfersulfat und Herstellungsverfahren dafür
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 28.07.2004
Erteilt am 11.11.2009
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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21.10.2009
Verfahren zur Rückgewinnung von Wertmetall aus Schrott, der ein Elektrisch Leitfähiges Oxid Enthält
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 08.02.2008
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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08.10.2009
Tinned copper alloy bar with excellent abrasion resistance, insertion properties, and heat resistance
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 30.03.2009
Anhängig
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08.10.2009
Low Particulate-Generating Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 27.03.2009
Anhängig
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08.10.2009
Cu-ni-si alloy for electronic materials
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 30.03.2009
Anhängig
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08.10.2009
Cu-ni-si-co copper alloy for electronic material and process for producing the same
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.03.2009
Anhängig
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08.10.2009
Tin-plated cu-ni-si alloy strip with excellent unsusceptibility to thermal tin deposit peeling
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 30.03.2009
Anhängig
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08.10.2009
Cu-ni-si-co-cr alloy for electronic material
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 30.03.2009
Anhängig
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08.10.2009
Cu-Ni-Si Alloy To Be Used in Electrically Conductive Spring Material
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 30.03.2009
Anhängig
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07.10.2009
Salzzusammensetzung mit Organischer Carbonsäure, Verfahren zu deren Herstellung und Additive für Epoxyharze
Kunststoff- & Polymertechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 27.08.2002
Erteilt am 07.10.2009
Vertretung
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01.10.2009
Sputtering target of nonmagnetic-in-ferromagnetic dispersion type material
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 27.03.2009
Anhängig
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01.10.2009
Sintered Silicon Wafer
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 13.03.2009
Anhängig
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01.10.2009
Platinum powder for magnetic material target, method for producing the powder, method for producing magnetic material target composed of platinum sintered compact, and the sintered magnetic material target
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 19.02.2009
Anhängig
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30.09.2009
Verfahren zur Metallabscheidung und Vorbehandlungsmittel
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.08.2003
Erteilt am 30.09.2009
Vertretung
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24.09.2009
Electrolytic solution for producing electrolytic copper foil
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.03.2009
Anhängig
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Wer vertritt Nippon Mining & Metals?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Nippon Mining & Metals vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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