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Nippon Mining & Metals Patente

🇯🇵 Japan

Nippon Mining & Metals war ein japanisches Unternehmen für Metallverarbeitung und Halbleitermaterialien, heute Teil von JX Nippon Mining & Metals. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2010 und betreffen unter anderem Kupferfolienverbundstoffe.

291
Patente
2000–2010
Anmeldejahre
11
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

291 gesamt
Patent
30.05.2012
Verfahren zur Herstellung eines Elektrolytkupferbleches bei Anwendung einer Kupferlösung mit einer Verbindung mit speziellem Baustein als Additiv und daraus hergestelltes Elektrolytkupferblech
EP2233613
Metallurgie & Oberflächentechnik Elektronik & Schaltungstechnik
23.05.2012
Kupferlegierung auf Cu-Ni-Si-Co-Cr-Basis für Elektronikmaterial und Herstellungsverfahren dafür
EP1876250
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.04.2012
Sputtertarget
EP1942204
Metallurgie & Oberflächentechnik
28.03.2012
Kupfer-Galvanisierungsflüssigkeit, Vorbehandlungsflüssigkeit für die Kupfer-Galvanisierung und Kupfer-Galvanisierungsverfahren
EP1865093
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.03.2012
Verfahren zur Herstellung einer NI-PT-LEGIERUNG.
EP1721997
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
29.02.2012
Herstellungsverfahren für Cl Gedopt Cdte-Einkristall
EP1508632
Metallurgie & Oberflächentechnik
15.02.2012
Hochreines Zirkonium- oder Hafniummetall für Sputtertargets und Dünnschichtherstellung
EP1743949
Metallurgie & Oberflächentechnik
01.02.2012
Wärmebehandlungsverfahren für Znte-Einkristallsubstrat und Znte-Einkristallsubstrat
EP1905873
Metallurgie & Oberflächentechnik
11.01.2012
Gesinterter Silicium-Wafer
EP2168934
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
04.01.2012
Trägerplattenanordnung Für Sputtertargets Und Filmabscheidungssystem
EP2236644
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.12.2011
Hochreines Ru-Legierungstarget, Herstellungsverfahren dafür und Gesputterter Film
EP1936005
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.11.2011
Cdte-Einkristall und Cdte-Polykristall und Herstellungsverfahren dafür
EP2336400
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
09.11.2011
Gesinterter Pressk Rper auf Eisenbasis und Herstellungsverfahren Daf R
EP1541262
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
09.11.2011
Eisensilicidpulver und Herstellungsverfahren dafür
EP1547974
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
26.10.2011
Hochreines Hafnium, Target und Hochreines Hafnium Umfassender Dünner Film und Verfahren zur Herstellung von Hochreinem Hafnium
EP1930451
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
12.10.2011
Positiv-Elektrodenmaterial für eine Lithium-Sekundärbatterie und Herstellungsverfahren dafür
EP1808918
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Anorganische Chemie & Werkstoffe
28.09.2011
Verfahren zum Sammeln von Wertmetall aus Ito-Abfall
EP2078766
Metallurgie & Oberflächentechnik
28.09.2011
Verfahren zum Sammeln von Wertmetall aus Ito-Abfall
EP2078767
Metallurgie & Oberflächentechnik
10.08.2011
Tintenzusammensetzung für den Tintenstrahldruck
EP1681321
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Elektronik & Schaltungstechnik
13.07.2011
Verfahren zur Rh-Gewinnung
EP1840231
Metallurgie & Oberflächentechnik
11.05.2011
Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
EP1887100
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
27.04.2011
Inp-Einkristallwafer und Verfahren zur Herstellung von Inp-Einkristall
EP1741808
Metallurgie & Oberflächentechnik
27.04.2011
Vorbehandlungsmittel für die Stromlose Metallabscheidung und Verfahren zur Stromlosen Metallabscheidung unter Verwendung davon
EP1760171
Metallurgie & Oberflächentechnik
20.04.2011
Verfahren zur Herstellung des Tantalsputtertargets
EP1609881
Metallurgie & Oberflächentechnik
13.04.2011
Hafniumsilicid-Target und Verfahren zu Seiner Herstellung
EP1528120
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.04.2011
Verbundfolie von Kupferlegierungsfolie und Flüssigkristallpolymer
EP1180917
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Elektronik & Schaltungstechnik
30.03.2011
Verfahren zur Herstellung eines Kupferlegierungssputtertargets
EP1602747
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.03.2011
Herstellungsverfahren für Ta-Sputtertarget
EP1591556
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
16.03.2011
Kupferlegierungssputtertarget, zugehöriges Herstellungsverfahren und Halbleiterelementverdrahtung
EP2264215
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.03.2011
Kupferfolie für eine Bestückte Leiterplatte und Kupferkaschierte Laminatplatte für eine Bestückte Leiterplatte
EP2290132
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
16.02.2011
Sputtertarget aus Kupferlegierung und Halbleiterelementverdrahtung
EP1584706
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.02.2011
Kupferelektrolyselösung mit einer Verbindung mit Speziellem Gerüst als Additiv und daraus Hergestelltes Elektrolytkupferblech
EP1842939
Metallurgie & Oberflächentechnik Elektronik & Schaltungstechnik
12.01.2011
VERFAHREN einer Kupferelektroplattierung mit VORBEHANDLUNG
EP1249517
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.12.2010
Positiv Aktives Elektrodenmaterial für eine Lithiumionenbatterie, Positivelektrode für eine Wiederaufladbare Batterie und Lithiumsekundärbatterie
EP2264814
Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.12.2010
Epitaxialwachstumsverfahren und Verwendung eines Substrats für Epitaxialwachstum
EP1569269
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.11.2010
Recycling-Verfahren von wertvollen Metallen aus Izo-Schrott
EP2248930
Metallurgie & Oberflächentechnik
03.11.2010
Metallpulver für Pulvermetallurgie und Sinterteil auf Eisenbasis
EP1537929
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
27.10.2010
Tantal-Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
EP1541708
Metallurgie & Oberflächentechnik
27.10.2010
Target aus Hafniumlegierung und dessen Herstellungsverfahren
EP1602745
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2010
Klebstofffreies Flexibles Laminat
EP2241436
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Wer vertritt Nippon Mining & Metals?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Nippon Mining & Metals vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

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Technologiefelder

Metallurgie & Oberflächentechnik
246
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
99
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
49
Anorganische Chemie & Werkstoffe
37
Elektronik & Schaltungstechnik
34
Akustik, Musik & Datenspeicherung
29
Kunststoff- & Polymertechnik
7
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
6
Verfahrens- & Trenntechnik
5
Organische Chemie
4
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
4
Textiltechnik
2

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