Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414

Patente

2000–2024

Anmeldejahre

Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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Anmeldejahr

Veröffentlicht	Patent	Land
10.09.2003	10.09.2003 Magnetische Anordnung zur Effizienten Verwendung eines Targets Beim Zerstäuben eines Kegelstumpfförmigen Targets EP1144713 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 10.11.2000 Erteilt am 10.09.2003 Vertretung Findlay, Alice Rosemary · London Reddie & Grose LLP Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
03.09.2003	03.09.2003 Optimierte Auskleidung für Doppel-Damaszener Verdrahtung EP1340252 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 31.10.2001 Anhängig Vertretung Findlay, Alice Rosemary · London Reddie & Grose LLP Findlay, Alice Rosemary · London Reddie & Grose LLP Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
03.09.2003	03.09.2003 Waferbehandlungssystem mit Reduzierten Randkontakten und Verfahren zum Nachrüsten und Verwenden eines Solchen Systems EP1340246 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 20.11.2001 Anhängig Vertretung Findlay, Alice Rosemary · London Reddie & Grose LLP Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
20.08.2003	20.08.2003 Pecvd zur Erzeugung von Tan-Schichten aus Tantalhalogenid-Vorläufern EP1185722 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.04.2000 Erteilt am 20.08.2003 Vertretung Findlay, Alice Rosemary · London Reddie & Grose LLP Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
13.08.2003	13.08.2003 Plasmabehandlung von durch Thermische Cvd aus Tantalhalogenid-Vorläufern Erhaltenen Tan Schichten EP1192292 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.04.2000 Erteilt am 13.08.2003 Vertretung Findlay, Alice Rosemary · London Reddie & Grose LLP Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
14.05.2003	14.05.2003 Entfernung von Photoresist und Photoresistrückständen auf Halbleitern durch ein Überkritisches Kohlendioxid-Verfahren EP1309990 Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 14.08.2000 Anhängig Vertretung Goddar, Heinz J., Dr · München Goddar, Heinz J · München Boehmert & Boehmert Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.04.2003	23.04.2003 Hochdrucksbehandlungskammer für Halbleiterscheiben EP1303870 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 24.07.2001 Anhängig Vertretung Goddar, Heinz J · München Boehmert & Boehmert Goddar, Heinz J., Dr · München Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
22.01.2003	22.01.2003 Verfahren zur Abscheidung einer Metallschicht und Mehrkammerreaktor mit einem Superkritischen Trocknungs-/reinigungsmodul zur Metallabscheidung EP1277233 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 24.04.2001 Anhängig Vertretung Goddar, Heinz J · München Boehmert & Boehmert Goddar, Heinz J., Dr · München Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
11.12.2002	11.12.2002 Verfahren und Vorrichtung zur Dämpfung der Harmonischen Oberschwingungen in einer Plasma-Behandlungsvorrichtung EP1264328 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 09.02.2001 Anhängig Vertretung Liesegang, Roland · München Liesegang, Roland · München Vidon, Patrice · Rennes Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
03.07.2002	03.07.2002 Elektronendichtemessungs- und Regelungssystem unter Anwendung von Plasmainduzierten Frequenzveränderungen eines Mikrowellenoszillators EP1218763 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 20.07.2000 Anhängig Vertretung Hoffmann Eitle · München Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
29.05.2002	29.05.2002 Echt-Zeit Planer für Entwürfe EP1208514 Software & Datenverarbeitung	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 06.01.2000 Anhängig Vertretung Wombwell, Francis · Birkenhead Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
08.05.2002	08.05.2002 Hochfrequenz-Stromquelle zur Erzeugung eines Induktiv Gekoppelten Plasmas EP1203441 Elektrische Energietechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 12.07.2000 Anhängig Vertretung Hoffmann Eitle · München Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
07.11.2001	07.11.2001 Verfahren zur Plasmabeschichtung und Vorrichtung mit einem Magnetischen Behälter, einem Konzentrischen Plasma sowie einer Materialquelle EP1151147 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 02.02.2000 Anhängig Vertretung Liesegang, Eva · München Boehmert & Boehmert Wallace, Sheila Jane · London Findlay, Alice Rosemary · London Reddie & Grose LLP Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
11.04.2001	11.04.2001 Verfahren zur Herstellung von Pecvd-Titanschichten und Cvd-Titannitridschichten für Integrierte Schaltungen in ein und Derselben Reaktionskammer EP1090417 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 19.04.2000 Anhängig Vertretung Findlay, Alice Rosemary · London Reddie & Grose LLP Findlay, Alice Rosemary · London Reddie & Grose LLP Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen