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Tokyo Ohka Kogyo Patente

🇯🇵 Japan

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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927 gesamt
Patent
23.10.2008
Photosensitive resin composition, process for producing resist pattern, layered product, and device
WO2008126680
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
24.09.2008
Verfahren zum Raffinieren von Rohem Harz für Elektronikmaterial
EP1587847
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
24.09.2008
Ungebranntes Laminat zur Herstellung einer Frontplatte eines Plasmabildschirms und Verfahren zur Herstellung einer Frontplatte eines Plasmabildschirms
EP1627406
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.08.2008
Composition for under-resist film formation and under-resist film formed from the same
WO2008099621
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.08.2008
Composition for antireflection film formation and method of forming resist pattern with the same
WO2008099620
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.08.2008
Polymeric compound, resist composition, and method for formation of resist pattern
WO2008099725
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
07.08.2008
Composition for forming planarization insulating film for liquid crystal display element and method for producing planarization insulating film for liquid crystal display element
WO2008093629
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
31.07.2008
Coating forming agent for pattern fining, and method for fine pattern formation using the same
WO2008090668
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.07.2008
Coating forming agent for pattern fining, and method for fine pattern formation using the same
WO2008090669
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.07.2008
Photosensitive resin composition and method of forming pattern from the same
WO2008090768
Optik & Fototechnik
31.07.2008
Photosensitive resin composition and method for formation of resist pattern by using the same
WO2008090769
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.07.2008
Liquid Solvent Abutting Unit
WO2008087855
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.07.2008
Perforated Support Plate
WO2008081561
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.07.2008
Positive-type resist composition and method for formation of resist pattern
WO2008081731
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.07.2008
Photoresist composition and pattern formation method
WO2008078447
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.07.2008
Verfahren zur Herstellung eines Resist-Musters und Leitermusters
EP1825331
Optik & Fototechnik
19.06.2008
Adhesive composition, adhesive film and separation method
WO2008072437
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
19.06.2008
Chemical amplification type positive photoresist composition for thick film and process for producing thick resist pattern
WO2008072447
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
12.06.2008
Apparatus for liquid treatment of treatment object
WO2008068880
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.06.2008
Positive resist composition for liquid immersion exposure and method of forming resist pattern
WO2008068971
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.06.2008
Surface modifier for resist and method for the formation of resist patterns with the same
WO2008069014
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.06.2008
Spülflüssigkeit für die Lithographie und Verfahren zur Erzeugung einer Resiststruktur
EP1930775
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.06.2008
Adhesive composition and adhesive film
WO2008065801
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
05.06.2008
Treatment apparatus and surface treatment jig
WO2008065809
Haushalts-, Möbel- & Konsumgüter Verfahrens- & Trenntechnik
05.06.2008
Processing apparatus, processing method, and surface processing jig
WO2008065820
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.06.2008
Chemically amplified positive-type photoresist composition for thick film, chemically amplified dry film for thick film, and method for production of thick film resist pattern
WO2008065827
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.05.2008
Adhesive composition and adhesive film
WO2008062603
Kunststoff- & Polymertechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
22.05.2008
Compound, acid generator, resist composition, and resist pattern formation method
WO2008059679
Organische Chemie Optik & Fototechnik
08.05.2008
Compound and polymeric compound
WO2008053698
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie
08.05.2008
Positive resist composition and method for formation of resist pattern
WO2008053697
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.04.2008
Chemically amplified positive resist composition for thermal lithography and method for formation of resist pattern
WO2008047623
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.04.2008
Dispensing device of liquid chemical and dispensing method
WO2008047598
Verpackungs- & Fördertechnik
24.04.2008
Resist composition for immersion exposure and method of forming resist pattern
WO2008047729
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.04.2008
Method of forming resist pattern and negative resist composition
WO2008047905
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.04.2008
Positive- or negative-working chemical amplification-type photoresist composition for low-temperature dry etching, and method for photoresist pattern formation using the same
WO2008044326
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.04.2008
Method for protecting wafer circuit surface and method for reducing wafer thickness
WO2008044327
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.04.2008
Method of forming pattern
WO2008041468
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.04.2008
Liquid Containing Tank
WO2008041436
Verpackungs- & Fördertechnik
03.04.2008
Negative-type resist composition for electron beam, and method for formation of resist pattern
WO2008038448
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.04.2008
Method of forming pattern, and material for coating film formation
WO2008038526
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Wer vertritt Tokyo Ohka Kogyo?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Ohka Kogyo vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
620
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
407
Kunststoff- & Polymertechnik
288
Organische Chemie
165
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
128
Verfahrens- & Trenntechnik
64
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
46
Pharma & Biotechnologie
24
Elektronik & Schaltungstechnik
23
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16
Metallurgie & Oberflächentechnik
15
Anorganische Chemie & Werkstoffe
12

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