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Tokyo Ohka Kogyo Patente

🇯🇵 Japan

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

927 gesamt
Patent
20.07.2011
Norbornenpolymere und deren Herstellungsverfahren
EP1853972
Optik & Fototechnik
12.01.2011
Verfahren zur Reduktion der Mustergröße auf einer Photoresistschicht
EP1942376
Optik & Fototechnik
16.12.2010
Adhesive Composition
WO2010143510
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.11.2010
Positiv-Resistzusammensetzung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur
EP1452918
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.11.2010
Positiv Arbeitende Fotoresistzusammensetzung zur Herstellung von Dickschichten
EP1861751
Optik & Fototechnik
17.11.2010
Reinigungsmittel, Verfahren zur Reinigung von Halbleitersubstrat sowie Verfahren zur Ausbildung der Leitungsbahnen auf Halbleitersubstrat
EP1641908
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.10.2010
Fotoresistzusammensetzung mit chemischer Verstärkung, Fotoresistschichtlaminat, Verfahren zur Herstellung einer Fotoresistzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung einer Fotoresiststruktur und Verfahren zur Herstellung eines Verbindungsanschlusses
EP2202579
Optik & Fototechnik
27.10.2010
Vernetzte, positiv arbeitende Photoresist-Zusammensetzung
EP1182506
Optik & Fototechnik
30.06.2010
Positiv arbeitende Resistzusammensetzung und darin verwendete Verbindung
EP1602977
Organische Chemie Optik & Fototechnik
14.05.2010
Photosensitive resin composition and base
WO2010052882
Optik & Fototechnik
12.05.2010
Material zur Bildung eines Resistschutzfilms für das Eintauchbelichtungsverfahren und Verfahren zur Bildung eines Resistmusters unter Verwendung des Schutzfilms
EP1741730
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
05.05.2010
Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Resiststrukturformung damit
EP1925980
Optik & Fototechnik
29.04.2010
Surface treatment liquid, surface treatment method, hydrophobilization method, and hydrophobilized substrate
WO2010047196
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik
17.03.2010
Positivresistzusammensetzung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur daraus
EP1909141
Optik & Fototechnik
10.02.2010
Lichtempfindliches Mehrschichtenmaterial für flexographische Druckplatte
EP1156368
Optik & Fototechnik
27.01.2010
Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung damit
EP1953596
Optik & Fototechnik
19.11.2009
Positive-Type Photosensitive Composition
WO2009139421
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.10.2009
Diffusing agent composition for ink-jet, and method for production of electrode or solar battery using the composition
WO2009125787
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.09.2009
Positivresistzusammensetzung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur daraus
EP1909140
Optik & Fototechnik
19.08.2009
Positivphotoresistzusammensetzung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur
EP1644427
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
17.06.2009
Verfahren zur Verkleinerung des Musters in einer Photoresistschicht
EP1489464
Optik & Fototechnik
17.06.2009
Positivphotoresistzusammensetzung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur
EP1644426
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
11.06.2009
Cleaning liquid and cleaning method
WO2009072352
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.06.2009
Hochmolekulare Verbindung, Säuregenerator, Positivresistzusammensetzungen und Verfahren zur Herstellung von Resiststrukturen
EP1783148
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
03.06.2009
Verfahren zum Verringern der Abmessungen eines Bildmusters in einer Photoresistschicht
EP1273974
Optik & Fototechnik
15.04.2009
Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und Lichtempfindlicher Trockener Film durch Verwendung davon
EP1825328
Optik & Fototechnik
08.04.2009
Verfahren zur Herstellung einer Resiststruktur, Benutzung einer Positiven Resistzusammensetzung und Schichtprodukt
EP1583998
Optik & Fototechnik
08.04.2009
Prozess zur Herstellung einer Resiststruktur und eines Leitermusters
EP1817634
Optik & Fototechnik
08.04.2009
Positiv-Resistzusammensetzung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur
EP2045661
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.04.2009
Method for forming inorganic structure and inorganic matter-containing paste
WO2009040971
Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.04.2009
Copolymer, resin composition, spacer for display panel, planarization film, thermosetting protective film, microlens, and process for producing copolymer
WO2009041681
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
02.04.2009
Charging apparatus
WO2009041490
Verpackungs- & Fördertechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.02.2009
Fine pattern forming method and coat film forming material
WO2009022504
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.12.2008
Polymer compound, positive resist composition, and method for forming resist pattern
WO2008153066
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
04.12.2008
Sticking device, method for preventing adhesive from dissolving, and method for sticking
WO2008146438
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.12.2008
Composition for antireflection film formation and method for resist pattern formation using the composition
WO2008146625
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.12.2008
Composition for antireflection film formation and method for resist pattern formation using the composition
WO2008146626
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.11.2008
Compound, acid generator, resist composition, and method for forming resist pattern
WO2008132966
Organische Chemie Optik & Fototechnik
05.11.2008
Positiv-Resistzusammensetzung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur daraus
EP1452917
Optik & Fototechnik
23.10.2008
Film forming composition for nanoimprinting, process for production of structures, and structures
WO2008126523
Kunststoff- & Polymertechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe

Wer vertritt Tokyo Ohka Kogyo?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Ohka Kogyo vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
620
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
407
Kunststoff- & Polymertechnik
288
Organische Chemie
165
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
128
Verfahrens- & Trenntechnik
64
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
46
Pharma & Biotechnologie
24
Elektronik & Schaltungstechnik
23
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16
Metallurgie & Oberflächentechnik
15
Anorganische Chemie & Werkstoffe
12

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